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UN MUNDO PARALELO:

La Nanotecnología y el ITO

● Autor: David Hurtado Martínez


● Tutor: Rafael Lamuedra
● Insituto: I.E.S. Badalona VII
● Curso: 2º Bachillerato B
GUIÓN
● Introducción
● Objetivos

● Trabajo teórico

● Trabajo experimental

● Conclusiones

● Valoración personal

Un mundo paralelo: la Nanotecnología y el ITO


INTRODUCCIÓN
● Elección del tema
● Ayuda interna: Rafael Lamuedra ( tutor )
● Colaboración de la UPC:
- Ramón Alcubilla ( director CRNE )
- Germán Sáez ( subdirector de promoción )
- Géma López ( investigadora Sala Blanca )

Un mundo paralelo: la Nanotecnología y el ITO


OBJETIVOS
● Adentrarme en el mundo de la Nanotecnología.

● Hacer un estudio a fondo del ITO.

● Tener una experiencia práctica.

● Elaborar un trabajo interdisciplinar.


Un mundo paralelo: la Nanotecnología y el ITO
TRABAJO TEÓRICO
● ¿ Qué es la Nanotecnología ?

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TRABAJO TEÓRICO
● ¿ Qué mejoras nos proporciona ?

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1,000 €
1,100 €
1,200 €

U.S.A
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Japó
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Sur

Reino
Unido

China

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Presente y futuro

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TRABAJO TEÓRICO

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TRABAJO TEÓRICO
● ¿ Qué es el ITO ( Indium-tin oxide ) ?

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TRABAJO TEÓRICO
● Sistemas de fabricación

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TRABAJO TEÓRICO
● Aplicaciones

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TRABAJO TEÓRICO
● Característica: Transmitancia

I
T = · 100
I0

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TRABAJO TEÓRICO
● Característica: Resistividad

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TRABAJO TEÓRICO
● Característica: grosor

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TRABAJO
EXPERIMENTAL
● Instalaciones: Sala Blanca

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TRABAJO
EXPERIMENTAL
● Instalaciones: Sala de hornos

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TRABAJO
EXPERIMENTAL
● Instalaciones: Sala de fotolitografía

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TRABAJO
EXPERIMENTAL
● Instalaciones: Sala de caracterización

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TRABAJO
EXPERIMENTAL
● Instalaciones: Sala de deposición

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TRABAJO
EXPERIMENTAL
● Etapa de deposición: Preparación Sputtering

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TRABAJO
EXPERIMENTAL
● Etapa de deposición: Preparación Sputtering

Un mundo paralelo: la Nanotecnología y el ITO


TRABAJO
EXPERIMENTAL
● Etapa de deposición: Sputtering

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TRABAJO
EXPERIMENTAL
● Etapa de caracterización: Resistencia de cuadro

V V
R= R=4 ' 53·
I I
Muestra Tiempo de Voltaje Intensidad Resistencia
deposición de cuadro
1 6 minutos 1'12 mV 1 mA 5'07 Ω

2 15 minutos 6'8 mV 1 mA 30'8 Ω

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TRABAJO
EXPERIMENTAL
● Etapa de caracterización: Grosor

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TRABAJO
EXPERIMENTAL
● Etapa de caracterización: Resistividad

=R s · t
Tiempo de Resistencia
Muestra
deposición de cuadro
Grosor Resistividad

1 6 minutos 5'07 Ω 65 nm 3'03 · 10-7 Ω · m

2 15 minutos 30'8 Ω 265 nm 8'16 · 10-6 Ω · m

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CONCLUSIONES
● Me he dado cuenta del poder que puede
proporcionar la Nanotecnología.
● El ITO, aún en desarrollo, tiene la capacidad de
mejorar muchas cosas ( energía y ocio, p.e. ).
● El tiempo de deposición hace variar mucho las
características del ITO.
● Hay que tener una gran paciencia en la
investigación con estos materiales.

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VALORACIÓN
PERSONAL
● El 'Treball de Recerca' proporciona una buena
experiencia y preparación para futuros trabajos.

● Me ha gustado mucho el trabajo de laboratorio.

● Este trabajo ha augmentado mis ganas de


estudiar en un futuro Nanotecnología.

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TURNO DE PREGUNTAS

¿?
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