BAB II

TINJAUAN PUSTAKA

2.1. Ion Nitrogen

Nitrogen adalah bagian penting dari kehidupan. Tanaman, hewan dan
bakteri semuanya menggunakan nitrogen dalam satuan pembentuk fundamental
yang disebut asam amino, dan asam-asam amino ini bersatu membentuk protein.
Protein tidak hanya memungkinkan kita untuk tumbuh dan berfungsi dengan baik,
tetapi juga membentuk basis dari hampir setiap reaksi kimia dalam tubuh mausia.
Sumber nitrogen kita yang utama adalah atmosfer, dimana nitrogen terdapat
sebagai gas nitrogen (N2). Akan tetapi, dalam bentuk gas, nitrogen sangat lembam
(tidak reaktif) dan hanya sedikit organisme yang mampu memanfaatkannya.
Nitrogen adalah suatu unsur kimia yang biasanya ditemukan sebagai gas
tanpa warna, tanpa bau, tanpa rasa dan merupakan gas diatomik bukan logam
yang stabil, sangat sulit bereaksi dengan unsur atau senyawa lainnya. Nitrogen
dinamakan zat lemas karena zat ini tidak aktif bereaksi dengan unsur lainnya.
Dengan ukuran jari-jari atom 56 m, yang lebih kecil dari jari-jari atom karbon,
gas nitrogen tidak memerlukan energy yang besar untuk dapat terdifusi kedalam
permukaan material. Untuk meningkatkan sifat-sifat mekanik permukaan material
dapat dilakukan dengan teknik perlakuan permukaan (surface treatment). Surface
treatment didefinisikan sebagai usaha meningkatkan kualitas permukaan suatu
material atau komponen sesuai yang diinginkan. Dalam bidang rekayasa
permukaan bahan, cara untuk meningkatkan kualitas permukaan pada dasarnya
dapat

ditempuh

melalui

dua

cara

yaitu

dengan

menambahkan

unsur

tertentu/mengubah komposisi kimia (seperti C, N, TiN, TiC maupun WC)

sedangkan yang kedua dengan cara mengubah fase atau struktur kristalnya
kemudian dilanjutkan dengan pendinginan. Perlakuan permukaan dengan
menambahkan unsur lain terbagi menjadi dua cara yaitu konvensional dan
modern, cara konvensional seperti nitridasi, karburisi dan karbonitridasi
sedangkan cara modern adalah teknik laser, implantasi ion dan plasma lucutan
pijar.

Di dalam teknik implantasi ion, gas N 2 diionisasikan di dalam ruang

ionisasi. Setelah proses ionisasi kemudian ditarik (extract) keluar melalui celah
sempit yang selanjutnya dipercepat oleh medan listrik dalam pemercepat
difokuskan melalui lensa elektromagnet, kemudian ditembakkan ke permukaan
target. Implantasi ion pada dosis optimal dapat memperbaiki sifat tahan korosi,
akan tetapi peningkatan dosis melebihi batas optimalnya justru akan
meningkatkan laju korosinya.
2.2. Implatansi Ion Nitrogen
Implantasi ion nitrogen merupakan penempatan ion nitrogen ke dalam
suatu bahan. Metode ini dapat dilakukan dengan implantasi ion. Sistem implantasi
ion pada umumnya terdiri atas dua komponen, yakni:
1. Komponen utama: sumber ion, sumber daya tegangan tinggi, sistem hampa,
tabung akselerator, kotak sasaran, dan sistem elektronik.
2. Komponen tambahan: lensa kuadrupol, magnet pembelok, dan penyapu berkas.
Dosis ion bergantung pada besar arus ion, luas sasaran, dan lama
implantasi. Implantasi ion yakni suatu cara untuk menambahkan atau menyisipkan
ion-ion ke dalam bahan. Masuknya ion ke dalam bahan ini dipaksakan dengan
menggunakan akselerator bertegangan tinggi. Teknik ini digunakan karena
mempunyai keunggulan:
1. Tidak melibatkan panas sehingga bahan tidak mengalami tekanan termal,
karena itu bahan tidak akan mengalami perubahan dimensi.
2. Depth sisipan dapat dikendalikan dengan mengatur tenaganya.
3. Proses implantasi berlangsung bersih, karena dilakukan di ruang hampa.
Bahan yang disisipi ion dari bahan lain akan mengubah sifat bahan
tersebut. Sifat -sifat bahan yang berubah akibat penambahan ion antara lain, sifat
mekanik dan elektrik. Sifat-sifat mekanik bahan antara lain: tahan aus, kekuatan
tarik, dan kekerasan. Adapun sifat elektrik bahan umumnya diwakili oleh
resistivitas bahan. Pemegang cuplikan dihubungkan dengan integrator muatan.
Elektron-elektron melewati integrator dan menetralisir muatan-muatan yang
diimplantasikan ke dalam cuplikan.

Energi ion saat keluar dari tabung akselerator ditentukan oleh besar
tegangan pada tabung akselerator. Tenaga ion ini akan berpengaruh pada
jangkauan terproyeksi, makin besar tenaga ionnya akan semakin besar jangkauan
terproyeksinya. Berarti energi ion akan menentukan tebal lapisan. Alat deposisi
ion yang digunakan adalah implantor ion yang skema alatnya ditunjukkan pada
Gambar 1. Alat ini terdiri atas sumber tegangan terisolasi (0 -220V) yang
digunakan untuk menghasilkan elektron yang dipercepat dari katoda menuju
anoda. Elektron ini digunakan untuk mengionisasi gas yang ada dalam tabung
sumber ion. Dengan bantuan medan magnet yang dihasilkan oleh kumparan
menyebabkan gerak elektron menuju anoda akan berbentuk spiral yang akan
menambah panjang lintasannya, sehingga menambah peluang terjadinya ionisasi.
Ion -ion positif yang dihasilkan dalam sumber ion, akan ditarik ke luar menuju
tabung akselerator oleh tegangan negatifnya melalui celah sempit pemfokus.
Tabung akselerator terdiri dari beberapa elektroda dengan tegangan yang
makin negatif terhadap elektroda sebelumnya untuk mempercepat berkas ion
positif. Tabung akselerator harus dihampakan sampai 10 -6 mmHg agar tidak
terjadi tumbukan antara ion yang dipercepat dengan sisa molekul gas.

Gambar 1. Sistem Implantasi Ion

Keterangan :
1.
2.
3.

4.
5.
6.
7.
8.
9.

Generator tegangan tinggi Cochroft-walton (HV)

Generator dc terisolasi (0-220 V)
Sumber ion penning:
a) Pemfokus
b) Magnet Kumparan
c) Elektroda
Penguapan serbuk sumber ion
Tabung akselerator
Pompa difusi
Pompa rotary
Kotak sasaran
Amperemeter

Plasma Nitridasi merupakan cara pengerasan permukaan dengan

mendeposisikan ion nitrogen pada permukaan benda kerja sehingga terbentuk fase
nitrida yang keras dipermukaan benda kerja. Proses plasma nitriding dilakukan
pada tekanan rendah dan diberi beda potensial untuk melucutkan atom gas yang
mengandung nitrogen sehingga terjadi lucutan pijar yang disebut glow discharge.
Pada plasma nitridasi terjadi 2 proses yaitu proses penguraian nitrogen dan proses
ionisasi. Pada proses penguraian nitrogen ini terjadi peristiwa disosiasi yaitu
pemisahan molekul gas menjadi atom-atom penyusunnya akibat tumbukan antara
elektron-elektron bebas dengan partikel-partikel gas, hasil dari penguraian
nitrogen ini terbentuk ion-ion positif nitrogen.
Ion-ion positif nitrogen yang terbentuk kemudian masuk ke permukaan
spesimen membentuk lapisan tipis. Sedangkan pada proses ionisasi, ion nitrogen
yang terbentuk karena adanya beda potensial akan bergerak menuju katoda dan
menumbuk spesimen yang terdapat pada katoda, tumbukan tersebut menyebabkan
atom-atom yang terdapat pada permukaan spesimen terlepas dan selanjutnya
bereaksi dengan ion nitrogen membentuk nitrida. Sebagian atom-atom nitrogen
akan berdifusi ketempat yang lebih dalam dan membentuk larutan padat. Proses
pendeposisian atom-atom nitrogen kedalam permukaan spesimen tergantung suhu
spesimen. Dengan naiknya suhu, maka atom-atom dalam spesimen akan bergetar
dan menimbulkan jarak antar atom yang lebih besar dan memungkinkan atomatom karbon masuk lebih dalam diantara celah-celah atom atau menempati posisi
kekosongan yang ada.
2.3. Plasma Sputtering

Dengan teknologi plasma sputtering maka atom-atom yang akan

dideposisikan/dilapiskan pada permukaan benda kerja dibombardir dengan ionion berenergi dari gas mulia (gas sputter) seperti Xe, He, Ar, Ne dan Kr. Akibat
transfer momentum dari ion gas sputter ke atom-atom target, maka atom-atom
target akan terlepas dari induknya dan sebagian bergerak menuju benda kerja yang
selanjutnya bereaksi dengan permukaan benda kerja untuk membentuk lapisan
tipis Keunggulan pembuatan lapisan tipis dengan teknologi plasma sputtering
dibanding dengan teknik evaporasi adalah bahwa (1) dapat menghasilkan lapisan
tipis dari bahan yang mempunyai titik leleh tinggi yang dengan metode evaporasi
tidak mungkin dapat dilakukan, (2) hampir semua bahan padat seperti
semikonduktor, logam, paduan, keramik, maupun isolator dapat dideposisikan, (3)
penghematan bahan yang akan dideposisikan, (4) mempunyai daya lekat yang
lebih kuat, sehingga dapat memperpanjang umur pemakain komponen, dan (5)
ketebalan lapisan dapat dikontrol dengan akurat.
Parameter yang mempengaruhi proses plasma sputtering adalah jenis ion
(nomor atom dan nomor massa), energi ion (keV), dan jenis target (nomor atom
dan 5 nomor massa) yang akan dideposisi/dilapisi. Energi untuk proses ionisasi
gas-gas sputter dapat diperoleh dengan tegangan DC ataupun RF. Hanya kalau
menggunakan tegangan DC tidak dapat diterapkan untuk target yang bersifat
nonkonduktif misalnya isolator dan ini hanya dapat dilakukan dengan RF.

Gambar 1. Sputter

Prinsip
yang

mendasari

Deposition Process

tumbukan ion inilah

dari

plasma sputtering untuk

pemanfaatan
mendeposisikan

lapisian tipis pada permukaan bahan. Ada beberapa fenomena yang mungkin
terjadi sebagai akibat interaksi berkas ion sputter dengan material target : 1) Ion
gas sputter terpantul dan dapat menjadi netral dengan menangkap elektron auger;

2) Atom target akan terpental keluar dapat disertai dengan elektron sekunder; 3)
Ion gas sputter yang mempunyai energi tinggi dapat ter implantasi/ tertanam ke
dalam target dan dapat mengakibatkan perubahan-perubahan sifat-sifat permukaan
target; 4) elektron-elektron dalam plasma dapat terpantul oleh permukaan target.
Terjadinya proses sputtering yang pertama kali diawali oleh adanya tumbukan ion
dengan atom-atom pada permukaan target diikuti oleh tumbukan kedua dan ketiga
antar atom-atom yang berada di permukaan target, sehingga terjadi perpindahan
atom-atom dan suatu tumbukan yang berhasil akan mengeluarkan pada
permukaan target.
2.2.

Aluminium
Aluminium memiliki sifat-sifat istimewa, antara lain memiliki kekerasan

yang cukup tinggi, tahan aus, tahan temperatur tinggi (titik lebur tinggi), tahan
korosi, koefisien gesek rendah, penghantar panas yang tinggi, berwarna keemasan,
memiliki daya ikat yang baik antara pelapis dan bahan yang dilapisi. Sehingga
dengan sifat-sifat di atas sangat baik untuk pelapisan alat potong, dekoratif, dan
komponen instrumen. Aluminium diambil dari bahasa Latin: alumen, alum.
Orang-orang Yunani dan Romawi kuno menggunakan alum sebagai cairan
penutup pori-pori dan bahan penajam proses pewarnaan. Sumber unsur ini tidak
terdapat bebas, bijih utamanya adalah bauksit. Aluminium murni adalah logam
yang lunak, tahan lama, ringan, dan dapat ditempa dengan penampilan luar
bervariasi antara keperakan hingga abu-abu, tergantung kekasaran permukaannya.
Kekuatan tarik Aluminium murni adalah 90 MPa, sedangkan aluminium paduan
memiliki kekuatan tarik berkisar hingga 600 MPa.
Karena permukaan logam aluminium memiliki lapisan tipis oksida yang
kuat, lapisan tipis inilah yang dapat melindungi logam aluminium tersebut
terhadap udara, dalam arti lapisan tipis oksida ini cukup kuat untuk menahan
oksigen sehingga tidak terbentuk oksidasi lebih lanjut (peristiwa korosi). Selain
tidak dapat bereaksi dengan udara, logam aluminium juga tidak dapat bereaksi
dengan air karena adanya lapisan tipis oksida ini. Lapisan oksida ini

pembentukannya dengan cara dilapiskan secara elektrolit pada aluminium yang

prosesnya terbentuk secara alami, prosesnya disebut proses anodisasi. Untuk
mempertebal lapisan oksida ini dapat dilakukan dengan proses anodisasi,dimana
pada proses anodisasi ini logam Al dipakai sebagai anode pada elektrolisis
menggunakan larutan H2SO4. Gas O2 yang terbentuk akan bereaksi dengan anode
untuk menghasilkan lapisan Al2O3. Aluminium sebenarnya merupakan logam
yang mudah bereaksi dengan udara dan air. Hal itu dapat dilihat dari sifat reduktor
aluminium cukup baik, dan harga potensial reduksinya tetapi karena adanya
lapisan tipis oksida ini, maka aluminium tidak dapat bereaksi dengan udara dan
air. Lapisan tipis oksida pada permukaan aluminium, lapisan tipis Al2O3 ini
memiliki tebal 10-8 meter yang tidak tembus air, sehingga melindungi permukaan
logam dari reaksi lebih lanjut. (Hal ini berbeda dengan karat besi Fe 2O3 yang
berpori dan tembus air, yang menyebabkan bagian besi di bawah karat tidak
terlindungi dari serangan oksigen dan uap air). Akibatnya, logam aluminium
cukup stabil dan tahan lama untuk digunakan dalam berbagai peralatan.
2.3.

Komposisi Kimia AISI 410 dan AISI 316L

Stainless steel (SS) adalah paduan besi dengan minimal 10,5 % kromium.

Komposisi ini membentuk protective layer (lapisan pelindung anti korosi) yang
merupakan hasil oksidasi oksigen terhadap krom yang terjadi secara spontan.
Tentunya harus dibedakan mekanisme protective layer ini dibandingkan baja yang
dilindungi dengan coating (misal seng dan cadmium) ataupun cat. Meskipun
seluruh kategori SS didasarkan pada kandungan krom (Cr), namun paduan lainnya
ditambahkan untuk memperbaiki sifat-sifat SS sesuai aplikasi-nya.
Tabel 1. Perbandingan Komposisi Kimia Stainless Steel AISI 410 dan AISI 316L

Komposisi Kimia

Material

(%berat)

AISI 410

AISI 316L

0,12

0,0241

2.4.

Si

0,34

0,287

0,03

1,0158

0,02

0,0050

Mn

0,43

1,21

Ni

0,21

11,2

Cr

12,83

16,2

Mo

0,03

1,33

Cu

0,06

0,367

0,01

0,0250

Sn

0,01

Ca

0,01

Zn

0,02

Fe

85,90

68,9

Aplikasi Implantasi Ion Pada Stainless Steel Dalam Bidang Medis

Dalam bidang medis, implantasi ion banyak diterapkan pada peralatan

ortopedi dan ortodontik maupun peralatan lainnya. Implantasi ion pada peralatan
medis digunakan untuk memperbaiki sifat fatik, tahan korosi, mengurangi
pengaruh kontaminasi antara alat dengan darah, dan untuk memperbaiki sifat
tribologinya. Baja tahan karat martensitik AISI 410 digunakan secara luas dalam
berbagai aplikasi industri, seperti: steam valve, water valve, pompa, turbin,
komponen kompresor, poros, alat potong, peralatan bedah, bearing, plastic mould
dan perlengkapan industri kimia Baja AISI 410 dalam bidang medis digunakan
sebagai cutting instruments dan non cutting instruments.
Material yang dipakai untuk bahan endoprostetik atau material implant
harus memenuhi dua persyaratan yaitu biocompatible (dapat diterima oleh tubuh)

dan sifat mekanik yang sesuai dengan kondisi tubuh manusia. Material yang
umum digunakan dan memenuhi persyaratan sebagai material implant pada saat
ini adalah adalah paduan titanium, paduan cobalt dan austenitic stainless steel.
AISI 316L banyak digunakan untuk tujuan implantasi dalam operasi bedah
ortopedis karena ketahanan korosi dan propertis mekanik yang baik serta harga
yang murah, tetapi AISI 316L kurang baik sifat biokompatibilitasnya dengan
tubuh sehingga untuk material implan dengan bahan stainless steel AISI 316L
tidak dapat digunakan untuk jangka waktu lama karena pada lingkungan cairan
tubuh (body fluid) terjadi korosi lokal serta adanya peristiwa pelepasan ion
menuju jaringan di sekitar implan sehingga dapat menimbulkan ancaman baru
bagi pasien. Salah satu cara yang dapat dilakukan untuk meningkatkan ketahanan
korosi dari stainless steel AISI 316L adalah dengan cara melakukan perlakuan
permukaan (surface treatment).