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REFERENCIAS BIBLIOGRFICAS
8.1.
Citas Bibliogrficas
(1)
(2)
(3)
(4)
http://tecno-parque.webcindario.com/pages/peraza/quinto/dos.pdf
http://www.mitecnologico.com/Main/ReaccionesDeOxidoReduccion
http://www.infopedia.pt/$serie-electroquimica
http://es.wikipedia.org/wiki/Par_galv%C3%A1nico
8.2.
Bibliografa
8.2.1. www.tecno-parque.webcindario.com
8.2.2. www.mitecnologico.com
8.2.3. www.infopedia.pt
8.2.4. es.wikipedia.org
9. ANEXOS
9.1.Reporte fotogrfico (Ver Anexo 1)
9.2.Artculo Referente (Ver Anexo 2)
10. CUESTIONARIO
10.1. Reacciones que se producen
Ec. 10.1.1
Ec. 10.1.2
Ec. 10.1.3.
Ec.:10.1-
Ec.:10.1-6
Ec.:10.1-7
Ec.:10.1-8
Ec.:10.1-
Ec.:10.1-13
Ec.:10.1-14
Ec.:10.1-15
Ec.:10.1-16
Ec.:10.1-17
Ec.:10.1-18
Ec.:10.1-10
Ec.:10.1-11
c.:10.1-12
Clavo Desnudo
Reaccion Oxidacion: 4Fe Fe(3+)+3eReaccion Reduccion: 3O2+ 2H2O+4e 4OH
Reaccion Total: 4Fe+3O2+ 6H2O 4Fe(OH)3
Ec.:10.1-19
Ec.:10.1-20
Ec.:10.1-21
Ec.:10.1-22
Ec.:10.1-23
Ec.:10.1-24
Ec.:10.1-25
Ec.:10.1-26
Ec.:10.1-27
10.2. Simbologa
Tabla 10.2.1
Tabla de simbologas de las reacciones ocurridas
Clavo Desnudo
Clavo Pintado
Clavo
recubierto con
Al
Clavo
recubierto con
Cu
NaCl
H2SO4
Agua Destilada
Fe/Fe2+//H2O/OH----------------------
Fe/Fe2+//H+/H2
----------------------
Fe/Fe3+//H2O/OH------------------------
Al/Al3+//H2O/H2
Al/Al3+//H+/H2
Al/Al3+//H2O/H2
Cu/Cu2+//H2O/OH-
Cu/Cu2+//H+/H2
Cu/Cu2+//H2O/OH-
Clavo Desnudo
Clavo Pintado
Clavo recubierto
con Al
Clavo recubierto
con Cu
NaCl
H2SO4
-324, 240
kJ
------------298,2429
kJ
-228, 126
kJ
-862, 71
kJ
-----------457, 796
kJ
659, 867
kJ
Agua
Destilada
- 507, 204 kJ
------------1 070, 416 kJ
-22, 8126 kJ
ANEXO 1
8.1. Reporte Fotogrfico
galvanizados
Nombre:
Fecha:
Central del Ecuador
Dibuja Karen Aguirre 2012-04-04
Ingeniera Qumica
Revisa:
Ivn Salazar
Corrosin
ESC
TEMA:
2012-04-11
Universidad
Facultad de
Laboratorio de
ANEXO 2
9.2. Artculo Referente
ESTUDIO DE LA RESISTENCIA A LA CORROSIN ELECTOQUMICA DE ELECTRORECUBRIMIENTOS NIQUEL/ COBRE OBTENIDOS POR CORRIENTE PULSANTE
ANEXO 2
RESUMEN
En este artculo se presenta la obtencin de recubrimientos de cobre- nquel sobre los sustratos
de zamak por medio de la electrodeposicin, utilizandolas tcnicas de corriente directa, corriente
pulsante directa y corriente pulsante inversa, con el propsito de estudiar el comportamiento de
Otra
es elaincremento
en lacorrosivos
compactacin
del metal
depositado,
cual se
asocia
con La
la
cadaventaja
una frente
los fnomenos
simulando
un medio
marinolo(NaCl
al 3,5
% wt).
disminucin
de laselectroqumica
tensiones internas,
el incremento
en lalas
ductilidad
y eldeaumento
en la dureza
caracterizacin
se realiz
mediante
tcnicas
espectroscopia
de
del
recubrimiento.
impedancias
electroqumicas a (EIS) y curvas de polarizacin Tafel, las cuales permitiron
Los recubrimientos de cobre-nquel depositados sobre substratos de zamak (Zn 67,1%; Al 26,9% y
encontrar mayor velocidad de corrosin es para los recubrimientos ontenidos con la tcnica de
Cu 5,9%) ofrecen una variedad de aplicaciones decorativas debido a los diferentes acabados que
corriente
directaaypartir
la de menores para la corriente pulsante inversa. Finalmente, se establece que
pueden
lograrse
lasdichos
tcnicas
de corrienteEstos
pulsante
generan se
depsitos
incrementan
la resistencia
a de
la
De
recubrimientos.
recubrimientos
obtienenque
actualmente
empleando
la tcnica
corrosindirecta
de los rescubrimientos
ontenidos.
corriente
(DC); sin embargo,
esta tcnica presenta una serie de dificultades relacionadas
con la formacin de la pelcula y con su comportamiento frente al fenmeno de corrosin en
1.
INTRODUCCIN
medioscidos
y cloruros. Esto ha motivado el estudio y empleo de otras tcnicas alternativas de
electrodeposicin, entre las cuales se pueden citar la tcnica de corriente pulsante inversa (PRC) y
Durante
la dcada
de directa
los 50, (PDC),
la tcnica
de corriente
fue en
implementada
y logro de
el
la de
corriente
pulsante
las cuales
puedenpulsante
emplearse
una gran variedad
metales
y aleaciones;
las variaciones
en funcin
tiempo empleadas
en lasde
tcnicas
mejoramiento
de los niveles
e accin de
en voltaje
baos calientes
endel
recubrimientos
de cianuros
cobre;
pulsantes
y de el
corriente
son mostradas
en las figura:
sin embargo,
uso dedirecta
los electrolitos
fue reducido
debido a problemas ambientales. Por este
motivo la tecnica PRC fue relegada a un segundo plano, asi como su utilizacin en procesos de
limpieza y pulido elctrolitico. En la dcada de los setenta aparecen nuevas contibuciones tericas
sobre la mencionada tcnica, mientras que durante las dcadas de los ochenta y noventa se
demostr que la tcnica PRC poda ser la respuesta a una gran cantidad de problemas que an
enfrenta la industria de los electrorecubrimientos. En la electrodeposicin de metales por la
tcnica de corriente inversa, la cantidad de electricidad total no es consumida en la formacin
del recubrimiento, pues una porcin de la corriente significativamente ms pequea es utilizada
para la polarizacin andica (a menudo denominada corriente de desprendimiento) de los
productos recubiertos. Durante cada perodo con corriente inversa se forma una capa en la
superficie de los productos de un determinado espesor, y durante la polarizacin andica parte
1. Variacin
delnuevamente.
potencial en La
lasaplicacin
tcnicas de
por
de esa capaFigura
formada
es disuelta
deelectrodeposicin
la tcnica de corriente
pulsante
a) Corriente directa, b) corriente pulsante directa y c) corriente pulsante inversa.
ha permitido el mejora miento de la calidad de un importante nmero de procesos industriales de
Es posible
obtener
recubrimientos de
deloscobre,
nquel y nquel/cobre
cinc a partir
de
Elelectrodeposicin.
objetivo de este trabajo
es evaluar
el comportamiento
recubrimientos
frente
soluciones
de
sulfato;
as
como
recubrimientos
de
oro,
cobre
y
nquel,
a
partir
de
soluciones
a la orrosin marina, para ello se utiliz la tcnica de espectroscopia de impedancia
cianuradas con(EIS),
iguallaocual
mejor
calidad
que los obtenidos
con la
tcnica
tradicional
de una
corriente
electroqumica
analiza
la respuesta
de frecuencia
con
base en
el envo de
seal
de
potencial
un ventajas
sistema de
de corriente
directa de
inducida.
La pulsante
relacin entre
la
directa
(DC) sinusoidal
.Dentro dea las
de lectura
la aplicacin
de la tcnica
corriente
inversa
seal
entrada
y lade
dedensidades
respuesta inducida
representa
la mpedancia
caracterstica
y
(PRC)de
estn:
el uso
de corriente
en tiempos
de proceso
similares a del
los sistema
utilizados
brinda
la
informacin
sobre
las
propiedades
electroqumicas
del
proceso
de
disolucin.
A
su
vez,
con DC y la obtencin de un tamao de grano pequeo (grano fino) en el recubrimiento lo que
se emple la tcnica de barrido potencio dinmica, la cual indica la velocidad con la que la
permite un mejor revestimiento del substrato con la misma calidad del metal depositado y
pelcula cobre/nquel se degrada en un medio dado, y se encontr que a menor velocidad de
genera una disminucin de la porosidad y mayor resistencia superficial, al igual que una mayor
degradacin, mayor confiabilidad del sistema.
densidad del metal.
http://redalyc.uaemex.mx/src/inicio/ArtPdfRed.jsp?iCve=85215207004
Nombre:
Fecha:
Central del Ecuador
Dibuja Karen Aguirre 2012-04-04
Ingeniera Qumica
Revisa:
Ivn Salazar
Corrosin
ESC
TEMA:
2012-04-11
Universidad
Facultad de
Laboratorio de
Nombre:
Fecha:
Central del Ecuador
Dibuja Karen Aguirre 2012-04-04
Ingeniera Qumica
Revisa:
Ivn Salazar
Corrosin
ESC
TEMA:
2012-04-11
Universidad
Facultad de
Laboratorio de