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電化學加工技術介紹與應用

主講人:李碩仁

元智大學機械工程研究所

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CAD/CAM 技術整合實驗室
內容大綱
 前言
 電化學基本原理簡介
 電化學加工簡介
 電化學機械拋光簡介
 電解拋光簡介

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熱力學
 討論物質的物理(溫度、壓力)或化學
狀態改變時的能量變化和作功的問題,
而不同狀態間是相互平衡的。
 所以熱力學是討論平衡的關係。
 可以預測反應發生的方向和趨勢,但不
能用電極電位的高低來判斷腐蝕(反應
)的速率。

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動力學
 表示一個系統在某一狀態下 ( 溫度、壓力、化
學成份 ) 的能階。
 自由能的改變表示系統由一狀態轉換成另一個
狀態。
 轉換的能量差為對外作功的來源或是須補充的
能量。
 若轉換的過程是一可逆反應,則該能量全部對
外作功。

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電化學基本原理介紹
相關的電化學原理主要有以下幾點

 Pourbaix diagram
 極化 - 活性極化、濃度極化
 鈍化
 I-V cure

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Pourbaix diagram( 一 )
 Pourbaix Diagram 又稱為電位 -PH 圖。
 大多數的腐蝕和酸鹼度有很大的關係,
所以繪出電位和 PH 的關係圖,則可以
很清楚的看出金屬腐蝕的環境趨勢。
 Pourbaix Diagram 是由化學平衡和
Nernst 公式所建立。

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Pourbaix diagram( 二 )
 Pourbaix 圖由化學平
衡及熱力學 Nernst CrO42 -

公式所求出。
Cr3

 由圖上可以知道腐蝕
較會發生的環境。
Cr(OH)
3
Cr2+

Cr

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活性極化
 發生在電極表面,是在電荷轉移的過程
的一種阻力,也就是要克服電化學反應
的活化能。
 電化學反應是一種不斷交流的現象,所
以電流大小決定於正方向和反方向反應
之差。
I=if-ib

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極限電流
 IL 為極限電流,其意義為當電極表面的
離子濃度因還原反應而消耗到零時,擴
散速率即達到極限。
IL=DnFCB/X
D :擴散係數 CB :離子濃度 X:
電極表面的擴散層
 這樣的現象也就是濃度極化產生的主因
。 元智大學機械工程研究所
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濃度極化 ( ㄧ )
 當一個電化學反應發生時,在陰極上,
則因為陰極電子的釋出使金屬離子沈積
在陰極表面上,使在陰極附近的離子濃
度低於最初的平衡濃度 ,造成濃度差。
 由擴散定理和 Nernst 公式所推出濃度
極化的公式。
2.303RT iL
ηe = log
ZF iL − i

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濃度極化 ( 二 )
 如右圖所示,當電流
受到擴散控制發生極
限電流的情形稱為濃
度極化。
 可以藉由溫度、流速
、攪拌速度、 化還
原添加劑的控制降低
濃度極化的影響。

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鈍化現象及定義
 金屬或合金當暴露在腐蝕環境下,卻失
去原有的化學活性,表面腐蝕行為降到
最低,若以熱力學解釋則為 : 當金屬暴
露於應使其與之反應以減少系統自由能
的環境下時,其本身卻可維持原狀態者
,我們稱這種現象為鈍態 ( passive
state ) 。
 例如鐵在稀硝酸中溶解很快,在濃硝酸
中溶解很慢,即鐵在濃硝酸中發生鈍化
作用。 元智大學機械工程研究所
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鈍化的理論
為解釋鈍化現象所提出的理論相當多,而且觀點
眾說紛紜主要可以分成四類:
• 金屬修飾理論 (Metal modification theory)
• 反應速率理論 (Reaction velocity theory)
• 氧化物膜理論 (Oxide film theory)
• 吸附膜理論 (Adsorption electrochemical theory)
其中以氧化物膜理論 ( 亦稱為擴散理論 (Diffusion
theory) 及吸附膜理論較為大家所接受。
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氧化物膜理論
 金屬在溶解過程中
,表面上生成一層
緻密覆蓋性良好的
固體產物 。
 這些反應產物可視
為獨立的相,它把
金屬表面和溶液隔
離開來,使金屬溶
解速度降低,即轉
變為不溶解的鈍態。
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吸附膜理論

 要使金屬產生鈍化並
不需要形成固態氧化
膜,而只要在金屬表
面形成氧或含氧粒子
的吸附層即可 。

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影響鈍化的原因

 金屬的性質
活性、電子軌域分布
 電解液成分和 PH 值
 加工參數
濃度、電流密度、流速、氧化劑、還原

 溫度影響 元智大學機械工程研究所
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鈍化現象的影響
 鈍化現象對於電化學相關的加工技術有
很大的影響,在某些情況下甚至影響加
工結果的成敗。

 鈍化膜的生成更是電化學機械拋光的拋
光原理,適當厚度的鈍化膜可以提高拋
光時的效果和效率。
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I-V Curve

 AB 線段是 etching 電 流
area , CD 線段是 密 度

polishing area , DE 線
段是 pitting area 。
 圖中 cd 線段亦稱為鈍化 b
c d
e

區,此時陽極會發生鈍
化作用產生鈍化膜。
a

電 壓 (v)

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電化學加工簡介
 電化學加工是利用金屬在電解液中的電化學
溶解將工件加工成形。
 電化學加工主要是由陽極、陰極、電源系統
、電解液系統所組成。
 加工時工件接正極工具接陰極,兩極間保持
一小間隙供電解液流動,使電解反應能持續
進行並將產物帶離加工區。

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電化學加工原理
 陽極:
Fe→Fe2++2e-

 陰極:
2H2O+2e-→H2↑+2OH-

 淨反應:
2Fe+4H2O+O2→2Fe(OH)3↓
+ H2↑ 元智大學機械工程研究所
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電化學加工的優點
 和金屬材料、金屬硬度、強度等物理性質無
關。
 加工複雜形狀,只要一次即可完成
 加工過程中,工具電極無消耗。
 加工時不存在機械切削力,不會產生毛邊及
變質層。
 加工速度快,約為放電加工的 5~10 倍

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ECM 和 EDM 之比較
電化學加工 放電加工

沒有放電加工後表面脆硬的白色變 加工後工件表面易產生一層脆
質層。 硬的白色變質層。
可加工各種複雜的形狀 工件表面常有裂縫產生。

工具電極不損耗,可以長期使用。 加工中電極會消耗,浪費電極
材料及製作電極的時間。
加工表面光滑有小圓角,可作為拋 加工速度快時,工件表面將更
光加工。 粗糙。
生產效率較高。 生產效率較低

加工精度可達 0.05mm 。 加工精度可達 0.01mm

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ECM 加工規律
其溶解量決定於法拉第定律
 去除速度
Ve = ηωi Ve→ 去除速度 mm/min
η → 電流效率
i →電流密度
ω→ 體積化學當量 mm3/A.min

 加工間隙
ηωK (V − δE ) △→ 加工間隙
∆= K→ 電解液的電導率
Ve V→ 外加直流電源
δΕ→ 電極上的極化電壓
V - δΕ → 間隙中的歐姆壓降
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ECM 電解液
 電解液的作用
a. 作為導電介質傳遞電流。
b. 在電場作用下,進行電化學反應。
c. 將反應產物以及焦耳熱從加工間隙中帶走。

 常用的中性電解液
a. NaCl 電解液
不具鈍化效果
b. NaNO3 電解液
主要優點為散蝕能力比 NaCl 小的多
c. NaClO3 電解液 元智大學機械工程研究所
具鈍化效果、易燃、較危險 CAD/CAM 技術整合實驗室
電化學加工設備示意圖

McGeough 1988
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電化學加工機
 右圖加工機為中國大陸合
肥工業大學所設計。
 採用柱式設計,增加機床
的剛性。
 加工面積可達 900cm2 。
 可容許最大電流為
10000A ,電壓範圍 0-
30V 。

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製程參數
 電壓—低電壓加工精度高。
 電解液種類—和工件材料相關。
 電解液濃度—和工件材料相關。
 溫度—溫度高電解液阻抗將降低。
 進給速度—將決定平衡間隙的大小。
 間隙—影響加工電流大小和加工精度。

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電化學加工的應用
電化學加工的應用主要以傳統方式不
易完成的加工為主,有以下幾個方向:

 鍛造模具製造
 內齒輪加工
 花鍵孔加工
 渦輪葉片加工
 一體成形輪葉加工
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應用實例

鍛造模 內齒
輪 元智大學機械工程研究所
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電化學機械拋光 (ECMP) 技術簡

 利用電化學反應使金屬表面生成鈍化膜
,利用機械作用 ( 如研磨 ) 把鈍化膜高
點破壞去除,使表面粗糙度降低。

 此過程與機械研磨相似,但本質不同,
因為所研磨的是鈍化膜而非金屬。鈍化
膜是金屬的 化物組成,其硬度不高結
構也較鬆散,所以可以快速的將粗糙度
降低。
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電化學機械 光特性 ( 一 )
 電化學機械拋光是一種屬於陽極溶解的
表面拋光技術
 此技術所使用的電解液以弱鹼性非線性
電解液為主。
 拋光時,是採取高點去除的方式來整平
工件表面。
 在拋光過程中,不會對材料有次表面破
壞,殘留應力等影響。
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電化學機械 光特性 ( 二 )
 採模組化設計,可應用於各種機床。
 比一般機械拋光效率高。
 磨頭耗損少,壽命長。
 不會產生毛刺。
 能 達到高水平的鏡面, Ra 可達到
0.01μm 。

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電化學機械拋光和傳統機械拋光
法之比較
電化學機械研磨拋 傳統機械拋光法

拋光磨頭 特殊設計之導電磨頭 不具導電性磨頭

電解液 鈍化性電解液 無

電解電源 主要是直流脈衝電源 無

鏡面加工 極為適當 較不適當

研磨精度 優 優

粗研磨 優 優

精密研磨 優 較差

研磨效率 優 差

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電化學機械拋光原理
 它是利用鈍化性電解液在金屬表面生成鈍化膜
的方式在陰極和工件間接通電流時,如電流密
度極小,工件表面只生成鈍化膜,而不發生電
化學溶解。
 此時用機械作用把鈍化膜的高點去除,使表面
粗糙度降低。
 反覆這個過程,即不斷的進行鈍化及去除,最
後可使工件表面的微觀不平度整平,達到拋光
的目的。

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電化學機械 光原理
 在電化學反應的情況下
,鈍化膜會在工件 ( 陽
極 ) 表面生成。 電 解 液 噴 嘴

 陰極和工件間接通電流
時,電流密度大小適當
,工件表面只生成鈍化
膜,而不發生電化學溶 磨 頭 夾 具
解。 磨 頭 工 件
+ -
工 具 陰 極

Fe → Fe 2+ + 2e −
陽極:2 H O + 2e − → H ↑ +2OH −
2 2
陰極: Fe + 2 H O → Fe(OH ) ↓ + H ↑
2 2 2
總反應: 元智大學機械工程研究所
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電化學機械 光去除機構

 鈍化膜在凹部會形成保
護降低溶解的發生,而
凸部有微量溶解發生。
 在凸部的鈍化膜厚度比
較薄。
 高點的電流密度較高且
使用機械作用破壞凸起
部份的鈍化膜,加速鈍
化膜的溶解。
 反覆的鈍化溶解將使表
面平滑化。 元智大學機械工程研究所
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電化學機械 光系統
網 罩 模 具 表 面 電 化
學 機 械 拋 光 系 統

電 源 子 系 統 電 解 液 子 系 統 拋 光 子 系 統 檢 測 子 系 統

直 直 電 三 加 工 磨 頭 表 表
流 流 解 層 設 備 設 計 面 面
電 電 液 式 粗 光
源 源 循 過 度 澤
供 脈 環 濾 C 磨 具
計 度
應 衝 系 系 N 頭 電

器 產 統 統 C 吸 化
工 震 學

具 機 及

機 構 機






磨 元智大學機械工程研究所
頭 CAD/CAM 技術整合實驗室
光設備全圖
外掛於 CNC milling

拋光子系統

電源子系統

平台子系統
過濾子系統

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製程參數
 電解液濃度—工件材料相關。
 電解液種類—工件材料相關。
 電流密度—控制電化學反應的速率。
 溫度—改變電解液的阻抗,影響反應速
率。
 脈衝寬度—可提高加工精度。
 轉速
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光磨頭的設計
 電化學機械拋光是採用機械作用去除鈍
化膜來達到拋光的目的,所以拋光磨頭
的設計對於電化學機械拋光的效果影響
非常大。
 磨頭的設計必須整合電化學作用和機械
作用並使兩者能 互相匹配。
 拋光磨頭須配合不同的需求及機具調整
外型的設計及電化學和機械作用的比例

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光磨頭的設計特色
 供給工作面電流,並滿足預定的加工電流密度。
 能供給加工區足 量的電解液,流場要均勻合理
,無死水區。
 不受電解液腐蝕。
 磨頭的機械研磨能力要足以將電化學所產生的鈍
化膜移除。
 整合電化學效應及機械研磨於同一機構上。
 磨頭根據實際加工需要更換不同的磨粒粒度。

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拋光磨頭設計 ( 一 )

 在磨頭加上彈簧,利
用彈簧吸收研磨時所
產生的震動,同時也
由彈簧提供拋光壓力

 使磨頭貼緊工件表面
進行高點去除,除了
增加機械研磨的效率
還可以減少對工件形
狀精度的影響。
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拋光磨頭設計 ( 二 )

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應用實例 - 衝壓模具拋光
 網罩成形衝頭材料為低
碳鋼 (Fc30)
 表面粗糙度符合要求
(Ra=0.05μm)
 此製程比傳統製程減少
60% 的拋光時間

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應用實例 - 外圓管壁 光

• 拋光前
Ra=0.38 μm

• 拋光後
Ra=0.02 μm

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應用實例 - 模具自動拋光

 Ra 從 0.86 μm 降低到
0.23 μm 。
 以切削路徑 基礎並經由
CAD/CAM 軟體修改以
得到實驗所需的拋光路
徑。

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電解拋光 (EP) 簡介
• 電解拋光技術是一種陽極溶解的技術,也是電
化學技術的 一種應用。
• 電化學拋光技術是一種精密拋光技術,其利用
陽極所生成的黏稠層的作用進行拋光,不須使
用機械磨粒。
• 電解拋光所使用的電解液是酸性,可以進行很
微小的去除,除了整平表面之外也可以使表面
光澤化。
• 鈍化膜可以提高表面的抗蝕性。
• 電解拋光技術目前主要應用在半導體相關設備
的製程上。 元智大學機械工程研究所
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電解拋光的特性 ( 一 )
 降低表面的粗糙度 (Ra 、 Rmax) 提高表
面的光潔度。
 不利用物理手段進行拋光,所以不會產
生破壞層和局部殘留應力的問題。
 EP 適合對複雜形狀和高硬度之金屬進行
拋光,這些金屬很難用傳統方式來進行
拋光處理。

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電解拋光的特性 ( 二 )
 可移除表面上的損壞層和雜質,產生鈍
化膜並提高表面的抗蝕性。
 電解拋光所產生的鈍化膜因材料而異,
以不鏽鋼為例,所產生的鈍化膜是以氧
化 為主,由於表面的 的提
化 份成
升可以大幅增加表面的抗蝕性。
 電解拋光可以清除表面的 化物降低表
面的接觸電阻、改善其 接性能。
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The principle of electropolishing

 陽極金屬解離並產生
氧氣,但是要控制氧
氣的生成減少氧氣對
黏稠層的擾動。
 陰極產生氫
氣。

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Electropolishing Mechanism( 一
)
 不同的溶解速度
在電流作用下,會有一層氧化膜覆蓋在工件
表面,在表面較低處造成絕緣,並阻礙溶解,
但較高的區域覆蓋較薄,使得高低溶解速率不
同。
 電荷濃度差
Ben Franklin 指出電荷很明顯的聚集在金屬邊
緣或是尖銳的點,因為 EP 是金屬溶解,而陽
極突出部份的電荷濃度比凹處大,所以去除速
度也大於凹處。 元智大學機械工程研究所
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Electropolishing Mechanism( 二
)
 從陽極溶解出來的金屬離子會自然的擴
散到溶液中,以降低金屬表面的離子濃
度。
 所以陽極膜的外層較內層活潑,這樣的
情況使金屬離子能不斷的解離,達到金
屬的移除。
 但上述這種情況受到活性極化的影響,
將會影響其溶解的速率。
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Electropolishing Mechanism( 三
)
 The metal irons in
solution at the edge of
the anode film will
naturally migrate into
the main body of the
solution.

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表面整平的過程

(a) 初始狀況表面粗糙。
(b) 高點快速溶解低點受

保護。
(c) 加工完成後的表面情
況。

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EP 電解液
 電解拋光所使用的電解液必須要具有能夠產生
黏稠層的特性。
 電解液的組成需要以大顆粒的分子為主,使解
離後的金屬離子能夠迅速的與其結合並形成黏
稠層。
 電解拋光的電解液主要以磷酸、硫酸的水溶液
為主,並搭配一些添加劑來使用。
 目前所使用的電解液大都必須要在較高的溫度
下才有較好的拋光效果。
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製程參數
 電解液濃度—工件材料等環境因素相關

 電解液種類—工件材料等環境因素相關。
電流密度—控制電化學反應的速率。
 溫度—改變電解液的阻抗,影響反應速
率。
 電壓—加工精度。
 攪拌速度
 添加劑
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檢測 ( 一 )
 表面粗糙度檢測
檢驗表面粗糙度的改善,特別是 Rmax
 表面光澤度檢驗
表面光澤化是電解拋光的主要功能,所
以藉由表面光澤的檢查作為效果的判斷。
 顯微鏡檢測
觀察表面情況,檢查是否有針孔及點蝕發生。
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檢測 ( 二 )
 表面成份 分析
採用 ESCA 分析表面的組成,檢測鈍化
膜的組成。
 鈍化膜厚度檢測
採用 SEM ,檢驗鈍化膜的生成厚度。

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EP 的效果

 EP可以提高工件表
面的光潔度,使工件
表面光亮化。

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電解拋光應用
 半導體工業都採用不鏽鋼管為其輸送管
路,這些高品質的表面不是傳統加工所
能達到的,而電解拋光則是最常用的處
理技術。
 半導體、生醫衛生、醫藥、超潔淨管路
、接頭為 EP 主要的應用領域。

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