第 26 卷第 5 期 矿 　冶 　工 　程 Vol.

26 №5
2006 年 10 月 M IN ING AND M ETALL URG ICAL ENG INEER ING October 2006

高纯纳米氧化镁制备工艺研究
1 1 2 2 1
胡章文 , 饶丹丹 , 杨保俊 , 单承湘 ,陶庭先
( 1. 安徽工程科技学院 生化工程系 ,安徽 芜湖 241000; 2. 合肥工业大学 化学工程学院 ,安徽 合肥 230009)

摘 　要 : 以 M gCl2 ・6H2 O 为原料 ,聚乙烯醇为分散剂 ,采用氨水沉淀法制备氢氧化镁 ,经煅烧得高纯纳米氧化镁 。单因子实验与正

交实验表明 ,在沉淀反应时间为 25 m in,氢氧化镁煅烧时间 3 h时 ,制备高纯纳米氧化镁的最佳工艺条件为 : 反应温度 35 ℃,原料摩
2+
尔比 (NH3 ・H2 O ∶
M gCL2 ・6H2 O ) 2. 2 ∶
1,M g 摩尔浓度 1. 3 mol/L ,分散剂用量为 2 mL ,煅烧温度 700 ℃。在此条件下 ,反应最终产
物氧化镁的纯度达到了 99%以上 。并采用 X 射线和透射电镜等对样品进行表征 ,结果表明 ,样品粒径分布窄 、
分散性良好 ,平均粒
径为 35 nm ,满足高纯纳米氧化镁要求 。该工艺流程简单 ,产品质量稳定 ,适宜于工业化生产 。
关键词 : 高纯氧化镁 ; 纳米 ; 制备工艺 ; 氨水沉淀法
中图分类号 : TQ123. 4 文献标识码 : A 文章编号 : 0253 - 6099 ( 2006 ) 05 - 0068 - 04

Prepara tion Param eters of High2pur ity Nanom eter M agnesium O x ide
HU Zhang2wen , RAO Dan 2dan , YANG B ao 2jun , SHAN Cheng2xiang , TAO Ting2xian
1 1 2 2 1

( 1. D epa rtm en t of B iochem ica l Eng ineering, A nhu i U n iversity of Technology and S cience, W uhu 241000, A nhu i, Ch ina;
2. S chool of Chem ica l Eng ineering, Hefei U n iversity of Technology, Hefei 230009, A nhu i, Ch ina )
Abstract: U sing M gC l2 ・6H2 O as p recursor, PVA as the dispersant and NH3 ・H2 O as p recip itating agent, a magnesi2
um oxide of high purity and nanometer can be p repared. The results of single factor and orthogonal experim ents indicate
that the op tim um technological conditions are as follow s: reaction tim e of 25 m ins, calcinations tim e of 3 h, reaction
of 1. 3 mol/L , disper2
2+
temperature of 35 ℃, ammonia /m agnesium p roportion of 2. 2 ∶
1 ( mole ) , concentration of M g
sant of 2 mL , calcinations temperature of 700 ℃. The morphology of the powders was characterized by transm ission elec2
tron m icroscopy ( TEM ) and X 2ray diffraction ( XRD ) . The results indicate that magnesium hydroxide particles are well
dispersed w ith a narrow size distribution and an average size is of 35 nm , and it m eets the demand for high 2purity nano 2
meter magnesium oxide. The sim p le p rocess introduced can bring steady p roduct quality and can be easily industrial2
ized.
Key words: high purity magnesium oxide; nanometer; p reparation p rocess; ammonia water p recip itating

　　氧化镁作为一种重要的无机化工产品 , 主要用于 二是有些工艺尚处于实验室研究阶段 ,属探索性的 ,甚

[ 10 ～11 ]
耐火材料和提炼金属镁 ,也用于纸浆 、
建筑材料 、
肥料 、 至有些根本不可能实现工业化生产 。
[ 1 ～3 ]
橡胶 、
塑料和粘合剂等 。纳米氧化镁是随着纳米 实验表明 ,当氧化镁含量大于 98%时 , 它的导热
材料技术的发展而生的一种新型功能精细无机材料 , 性高 ,比氧化铝高 1 倍 ,介电损失只有氧化铝的 1 /10,
由于其具有不同于本体材料的热 、 光、
电、力学和化学 同时具有耐腐蚀的性能 。它还可以用作氧化硅及氧化
等特殊性能 ,而被广泛应用于电子元器件 、高级陶瓷材 铝等各种陶瓷烧结助剂 、 稳定剂及各种电子材料用辅
料、电气绝缘材料 、
化妆品 、
香料 、
油漆 、橡胶填充剂 、
酸 助材料 ,也可作为橡胶 、 塑料工业上的特殊添加剂 。但
[ 4 ～6 ]
性气体吸附剂 、 催化剂载体等领域 。纳米氧化镁 目前 ,我国生产的氧化镁主要是含量小于 96%的轻质
有其独特的制备方法 , 目前国内外关于纳米氧化镁合 氧化镁 ,不能满足高质量耐火材料等的要求 。因此 ,在
[ 7 ～9 ]
成的报道很多 , 但实际上能够应用于工业生产的 我国高纯氧化镁的生产几乎是一个空白 , 急需开发研
[ 12 ～13 ]
不多 。一是因为设备 、 成本 、
原料 、
规模 、
投资等问题 ; 究 。本文以 M gC l2 ・6H2 O 为原料 , 添加适宜的

① 收稿日期 : 2006 203 224

基金项目 : 国家自然科学基金资助项目 ( 20471002) ; 安徽省教育厅自然科学基金重点资助项目 ( 2006KJ034A )
作者简介 : 胡章文 ( 1969 - ) ,男 ,安徽桐城人 ,副教授 ,硕士 ,主要从事无机非金属功能材料研究 。
第 5期 胡章文等 : 高纯纳米氧化镁制备工艺研究 69

分散剂 ,采用氨水沉淀法制备氢氧化镁 ,经煅烧制得高 1. 6 　样品表征

纯纳米氧化镁 ,获得了制备高纯纳米氧化镁的最佳工 用日本理学公司的 D /max - γ B 型 X - ray衍射
艺条件 。该工艺简单 ,产品质量稳定 ,适宜于工业化生 仪 ( Cu靶 ,λ为 0. 1540 nm ,管电压为 40 kV ,管电流为
产 ,有很大的发展前景 。 100 mA ,衍射速度为 4 Deg /m in, 扫描范围 2θ = 10 °
～
70 °
)分析样品晶体结构 。用日立 H - 600 型透射电子
1 　实验部分 显微镜观察微粒的大小 、
形貌 。
1. 1 　实验试剂和仪器
1 ) 主要试剂 。M gCl2 ・6H2 O , 分析纯 , 国药集团
2 　结果与讨论
化学试剂有限公司 ; NH3 ・H2 O , 分析纯 , 上海化学试 2. 1 　单因子实验
2+
剂有限公司 ; 聚乙烯醇 ( PVA ) ,分析纯 ,皖维集团 。 2. 1. 1 　反 应 温 度 的 影 响 　在 M g 摩 尔 浓 度 为 1
2 ) 主要仪器。 SX2 - 8 - 10 箱式电阻炉 ,上海实验 mol/L、 原 料摩尔 比 ( NH3 ・ H2 O : M gC l2 ・ 6H2 O ) 为
电炉厂 ; LXJ - Ⅱ离心沉淀机 , 上海医用分析仪器厂 ; 2. 4 ∶
1、分散剂量为 5 mL、
反应时间为 25 m in、
煅烧温
FC104 电子天平 ,上海精科天平仪器 ; GZX - 400 - BS - 度 800 ℃、
煅烧时间为 3 h时 ,反应温度对产物纯度的
Ⅱ电热恒温干燥箱 ,上海新苗医疗器械制造有限公司。 影响如图 2 所示 。
1. 2 　实验原理
本研究采用直接沉淀法 , 即在金属盐溶液中加入
沉淀剂 ,使生成的沉淀从溶剂中析出 ,将阴离子从沉淀
中除去 ,再经热分解制得纳米氧化镁 。常见的沉淀剂
有 NH3 ・ H2 O、NaOH、( NH4 ) 2 CO3 、Na2 CO3 等 。本实
验采用的是以 NH3 ・H2 O 作为沉淀剂 , M gCl2 溶液作
为金属盐溶液 ,以聚乙烯醇为分散剂 。
合成中涉及到的主要化学反应方程式为 :
M gC l2 + 2NH3 ・H2 O M g (OH ) 2 + 2NH4 C l
图 2 　反应温度对产物纯度的影响
M g (OH ) 2 M gO + H2 O
以氧化镁纯度和粒度为考察指标 , 确定制备高纯
由图 2 可知 ,随着反应温度的升高 ,产物的纯度也
纳米氧化镁的适宜工艺条件 。
升高 ; 但反应温度升高到 45 ℃左右 , 产物纯度达到最
1. 3 　实验方法
大值 ; 再升高温度 ,产物的纯度会逐渐下降 。这主要是
配制一定摩尔浓度的 M gC l2 溶液 100 mL ,按确定
由于温度过低 , 反应不能完全进行 ; 温度过高 , 加大
摩尔比选取一定量浓氨水于三口烧瓶中 , 加入分散剂
NH3 ・H2 O 的挥发损失 ,这些都导致产物纯度的下降 。
PVA。在一定温度和搅拌条件下 , 向氨水中加入已配
同时 ,随着反应温度的升高 ,产物的粒径逐渐减小 。
置好的 M gC l2 溶液 100 mL ,控制反应时间 25 m in。反 2+
2. 1. 2 　Mg 摩尔浓度的影响 　当原料摩尔比为 2. 4 ∶ 1、
应完毕 ,离心分离并充分洗涤至无氯离子 , 120 ℃恒温
分散剂量为 5 mL、 反应时间为 25 m in、
反应温度为 45
干燥 2 h。干燥产物放入马弗炉里煅烧 ,在一定温度下 2+
℃、 煅烧温度为 800 ℃、 煅烧时间为 3 h 时 , M g 摩尔
煅烧 3 h,获得产物 。
浓度对产物纯度的影响如图 3 所示 。
1. 4 　工艺流程
制备高纯纳米氧化镁的工艺流程见图 1。

图 1 　制备高纯纳米氧化镁的工艺流程

1. 5 　分析方法
2-
产品中 M gO 含量及 Ca、Fe、A l、Cl、Si、SO4 、
盐酸
图 3 　料液浓度对产物纯度的影响
不溶物等主要指标按 GB 9004 - 88 进行测试 。
 70 矿 　冶 　工 　程 第 26 卷

结果表明 , 产物纯度随着浓度的升高而升高 , 当
2+
M g 摩尔浓度升高到 1. 2 mol/L , 产物纯度达到最大
2+
值 ,随后 ,产物纯度随 M g 摩尔浓度的升高而降低 。
同时高浓度利于形成晶粒 ,能得到较小的晶粒 ; 浓度低
不利于晶粒生成 ,得到的产物粒径也较大 。
2. 1. 3 　原料摩尔比 ( NH3 ・H2 O ∶
M gC l2 ・6H2 O ) 的影
2+
响 　当 M g 摩尔浓度 1. 0 mol/L , 分散剂量 5 mL , 反
应时间 25 m in, 煅烧温度为 800 ℃, 煅烧时间为 3 h
时 , 原料摩尔比对产物纯度的影响如图 4 所示 。
图 6 　煅烧温度对产物纯度的影响

由图 6 可以看出 ,随着煅烧温度的升高 ,产物纯度

也随之升高 。煅烧温度太低 , 时间短 , M g ( OH ) 2 纯度
低 ,温度过高 ,时间长 ,又会使 M gO 粒子粘连长大 。
2. 2 　正交实验
在单因素实验基础上 ,根据正交实验方法 ,以产物
M gO 纯度为考察指标 , 对影响 M gO 纯度的反应温度 、
图 4 　原料配比对反应产物的影响 原料配比 、
料液浓度 、
煅烧温度 、
分散剂用量 5 个因素 ,
5
采用正交实验 L16 ( 4 ) 方法进行制备高纯纳米氧化镁
结果表明 , 原料摩尔比越大 , 反应产物纯度越高 。
工艺条件优化研究 。正交实验因素水平表见表 1 所
因为配比越大 ,可以使反应进行的比较完全 ,因而产物
列 ,正交实验及其分析结果见表 2 所示 。
的纯度也就高 。
2+
2. 1. 4 　分散剂用量的影响 　当 M g 摩尔浓度为 1. 0 对实验结果进行极差分析 , 根据极差大小判断各
mol/L、 原料摩尔比为 2. 4 ∶
1、反应时间为 25 m in、
煅烧 影响因素的顺序 。由表 2 中 R 项可知 , 各因素极差分
2+
温度为 800 ℃、
煅烧时间为 3 h时 ,分散剂用量对反应 别为反应温度 RA = 1. 15, 原料摩尔比 RB = 0. 89,M g
产物纯度的影响如图 5 所示 。 摩尔浓度 RC = 1. 00, 分散剂用量 RD = 0. 84, 煅烧温度
R E = 0. 96,故各因素对氧化镁纯度影响的显著性顺序
2+
依次为 : 反应温度 A、
M g 摩尔浓度 C、
煅烧温度 E、
原
料摩尔比 B、
分散剂用量 D。得到的较优水平组合为
A2 B1 C3 D1 E3 。按此较优水平组合进行实验 , 得到的氧
化镁的纯度都在 99%以上 , 该结果表明 A2 B1 C3 D1 E3
为最佳条件 。即制备高纯纳米氧化镁的最佳条件为反
2+
应温度 35 ℃, 原料摩尔比 2. 2 ∶
1, M g 摩尔浓度 1. 3
图 5 　分散剂量对产物纯度的影响 mol/L ,分散剂用量为 2 mL ,煅烧温度 700 ℃。

由图 5 可以看出 , 产物纯度随分散剂用量的增加 表 1 　正交实验的因素和水平

先降低后升高 ,当分散剂用量为 4 mL 时 ,产物的纯度 水平 反应温度 原料摩尔 Mg2 + 摩尔浓度 PVA 用量 煅烧温度
达到最大 。同时分散剂的不同用量对形成不粘连 、 形 序号 (A ) / ℃ 比 (B ) ( C) / (mol・L - 1 ) (D ) /mL ( E) / ℃
1 30 2. 2: 1 1. 0 2 600
状和大小均匀的粒子也有很大的影响 。
2+ 2 35 2. 4: 1 1. 2 3 650
2. 1. 5 　煅 烧 温 度 的 影 响 　当 M g 摩 尔 浓 度 为 1
3 40 2. 7: 1 1. 3 4 700
mol/L、 原料摩尔比为 2. 4 ∶ 1、
分散剂量为 5 mL、 反应时
4 45 3. 0: 1 1. 5 5 800
间为 25 m in、 反应温度为 45 ℃,煅烧时间为 3 h 时 ,煅
烧温度对反应产物的纯度的影响如图 6 所示 。
第 5期 胡章文等 : 高纯纳米氧化镁制备工艺研究 71

表 2 　正交实验及其极差分析结果
实验号 因素 A 因素 B 因素 C 因素 D 因素 E MgO 纯度 / %
1 1 1 1 1 1 99. 08
2 1 2 2 2 2 96. 42
3 1 3 3 3 3 98. 26
4 1 4 4 4 4 97. 46
5 2 1 2 3 4 98. 70
6 2 2 1 4 3 98. 21
7 2 3 4 1 2 99. 45
8 2 4 3 2 1 96. 96 图 8 　样品 TEM 效果图
9 3 1 3 4 2 96. 44
10 3 2 4 3 1 96. 07
11 3 3 1 2 4 95. 80 3 　结 　　论
12 3 4 2 1 3 97. 60
以 M gC l2 ・6H2 O 溶液作为金属盐溶液 , 聚乙烯醇
13 4 1 4 2 3 99. 70
14 4 2 3 1 4 96. 27 为分散剂 ,采用氨水沉淀法制备氢氧化镁 ,经煅烧得高
15 4 3 2 4 1 97. 48 纯纳米氧化镁 。单因子实验与正交实验表明 , 在沉淀
16 4 4 1 3 2 96. 86 反应时间为 25 m in,氢氧化镁煅烧时间 3 h 时 ,沉淀反
K1 391. 22 392. 92 388. 95 392. 4 387. 59
应与煅烧制备高纯氧化镁的最佳工艺条件为 : 反应温
K2 392. 32 386. 97 389. 2 389. 88 387. 97 2+
度 35 ℃, 原 料 摩 尔 比 2. 2 ∶1, M g 摩 尔 浓 度 1. 3
K3 388. 91 386. 56 393. 03 388. 89 393. 77
K4
mol/L ,分散剂用量为 2 mL ,煅烧温度 700 ℃。在此条
388. 31 386. 88 392. 68 389. 57 388. 23
k1 98. 78 98. 75 98. 34 99. 15 98. 07 件下 ,反应最终产物氧化镁的纯度达到了 99%以上 ,
k2 99. 21 98. 03 98. 65 98. 45 98. 34 满足了高纯氧化镁的要求 。 XRD 分析表明 , 产品结晶
k3 98. 15. 97. 86 98. 96 98. 31 99. 03 良好 。 TEM 分析表明 ,样品粒径分布窄 、
分散性好 , 其
k4 98. 06 98. 12 97. 96 98. 58 98. 54 平均粒径为 15 nm。该工艺简单 ,产品质量稳定 ,适宜
R 1. 15 0. 89 1. 00 0. 84 0. 96
于工业化生产 ,有很大的发展前景 。
优水平 A2 B1 C3 D1 E3
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