Estudio del patr on de difracci on de la luz generado por una rendija empleando una fotorresistencia

Carlos L. Cruz and Alex Rodriguez

Escuela de F sica, Universidad Nacional de Trujillo, Per u (Dated: Realizaci on: Noviembre 13, 2013)

I.

INTRODUCCION

La difracci on es uno de los fen omenos m as importantes relacionados con el car acter ondulatorio de la luz que se observa cuando un frente de onda ondas se encuentra con un obst aculo o una rendija de dimensiones comparables a su longitud de onda (). El obst aculo, que puede ser un pequen o objeto (pelo, hilo no, etc.), interrumpe el paso de una pequen a porci on del frente de onda mientras la rendija permite el paso s olo a una pequen a parte del mismo. Si utilizamos obst aculos o rendijas recytangulares muy estrechos y ondas incidentes planas, observaremos, a una distancia sucientemente grande, la difracci on de Fraunhofer, es un fen omeno que recibi o su nombre por Joseph von Fraunhofer (1787-1826), f sico alem an que fue uno de los pioneros en el estudio de la difracci on. Este fen omeno nos permitir a relacionar de forma matem aticamente sencilla el ancho de la rendija y la longitud de onda con las caraceristicas del patr on de difracci on observado. Si irradiamos varios obst aculos o rendijas se produce adem as la interferencia de las ondas difreactadas por cada rendija. El patron correspondiente es un patr on de interferencia que est a modulado por la difracci on.

Para ilustrar lo anterior se puede pensar un sencillo experimento en el cual la luz procedente de una fuente puntual se hace incidir sobre una pantalla en la cual se haya abierto una ranura. Mientras la ranura sea bastante amplia, sobre otra pantalla paralela a la primera se formar a una franja iluminada que puede correctamente interpretarse como la proyecci on geom etrica de la ranura (Fig. 1, izquierda y centro); tambi en podr a observarse que dicha franja iluminada var a su anchura seg un la ranura se haga m as amplia o m as estrecha. Ocurre sin embargo que si la ranura se hace muy estrecha entonces la zona de iluminaci on en la pantalla se ampl a evidenciando as que, en este caso, la luz no se propaga en forma rectil nea (Fig. 1 derecha); este fen omeno llamado difracci on se presenta cuando una onda (cualquiera que sea su naturaleza) se encuentra con obst aculos cuyas dimensiones son comparables con la longitud de onda.

II.

DIFRACCION

Figura 1. Obtenci on de un patr on de difracci on

El principio de propagaci on rectil nea de la luz ha sido fundamental para la descripci on de los fen omenos desde el punto de vista de la optica geom etrica. Gracias a ese principio las ondas luminosas se pueden reemplazar con los rayos que representan las direcciones de propagaci on de los frentes de onda y con base en esto se puede obtener relaciones sencillas que dan cuenta, con buena aproximaci on, del comportamiento de algunos sistemas opticos. Sin embargo, ya desde el siglo XVII Grimaldi hab a observado que la luz ten a la capacidad de bordear obst aculos de la misma forma como lo hacen las ondas que se propagan sobre la supercie de un estanque; este hecho contradec a el principio de propagaci on rectil nea y reforzaba la teor a acerca de la naturaleza ondulatoria de la luz.

El fen omeno de la difracci on establece el l mite de aplicabilidad de las leyes de la optica geom etrica porque esta se basa en el principio de propagaci on rectil nea que es el que precisamente falla cuando los obst aculos y/o rendijas que se interponen al paso de la luz tienen dimensiones comparables con su longitud de onda. Por u ltimo el fen omeno de la difracci on es un fen omeno de tipo interferencial y como tal requiere la superposic on de ondas coherentes entre s . Los efectos de la difracci on disminuyen hasta hacerse indetectables a medida que el tama no del objeto aumenta comparado con la longitud de onda.

carloscp 19 @hotmail.com leo warlion@hotmail.com

Figura 2. Patr on de difracci on

2
DE FRESNEL VS DIFRACCION DIFRACCION DE FRAUNHOFER

Cerca del origen, y

d, por lo que sen

tan

Entrando en detalle, cuando se presenta difracci on (caso de la Fig.1 derecha), en la pantalla se observa un conjunto de franjas brillantes y oscuras, que conforman el llamado patrn de difraccin producido por una rendija. Este patrn de difraccin presenta una franja central relativamente ancha y brillante y, a ambos lados, otras franjas brillantes de intensidad decreciente (Fig.2). Si la fuente de luz y la pantalla se encuentran muy lejos de la abertura se dice que se presenta difracci on de Fraunhofer (o de campo lejano); si alguna de ellas o ambas no esta sucientemente lejos, se dice que se presenta difracci on de Fresnel (o de campo cercano). En este laboratorio se har a un montaje experimental que corresponde a la difracci on de Fraunhofer.
POR ABERTURA DIFRACCION RECTANGULAR

Figura 4. Disposici on de equipos. Circuito para la fotorresistencia.

De esta forma, la ec.(1) se transforma en, a = m; m = 1, 2, ... (2)

El ancho angular del primer m aximo es, = 2 a (3)

Y el ancho angular para los m aximos laterales es, = a (4)

Posiciones de los m nimos intensidad. En el caso de la difracci on de Fraunhofer a trav es de una rendija rectangular estrecha de ancho a, se puede demostrar que los m nimos de intensidad se presentan para aquellas posiciones que cumplen la condici an expresada en la siguiente ecuaci on: asen() = m ; m = 1, 2, ... (1)

As mismo para un an alisis detallado de las ondas secundarias esf ericas muestra que la intensidad I , relativa a I0 , que se obtendr a si no hubiera rendija es, sen
2

En la Fig. 3 se ilustra el signicado de cada una de las magnitudes presentes en esta expresi on. Aqu es la longitud de onda de la luz monocrom atica empleada (en nuestro caso, luz de un l aser).

I = Io donde

(5)

a sen

(6)

III.

METODOLOG IA EXPERIMENTAL

Figura 3. Patr on de difracci on

Montar un puntero l aser a una distancia razonable d en direcci on hacia una sola rendija. La rendija debe tener un espesor considerable en comparaci on con la longitud de onda de la luz proveniente del l aser. La pantalla ser a, en este caso, la fotorresistencia. Una vez armado el circuito, desplazar la fotorresitencia y llevar registro de las variaciones de los voltajes. La Fig. 4 muestra la disposici on experimental de los equipos y el circuito utilizado. Registrar una cantidad considerable de medidas para los desplazamientos x, y voltajes V para lograr describir el comportamiento de la gr aca, como tambien plasmar dicha gr aca a partir de tabla de mediciones que se obtiene.

[1] E. Hecht, Optica, Madrid (2000)

Addison-Wesley Iberoamericana,

[2] Alonso, M. Finn, E, F sica, Addison Wesley Iberoamericana, Madrid, 1992.