CRECIMIENTO DE PELICULAS DE DIOXIDO DE TITANIO CON ARCO CATODICO: 1.- PARTE EXPERIMNTAL: 1.1.

- Antecedentes:

1.1.1. Descripcin del equipo DC1

Los films de TiO2 estudiados en este trabajo fueron sintetizados empleando el equipo DC1 del Grupo de Descargas Elctricas del Instituto de Fsica del Plasma. Este equipo fue diseado y dispuesto para generar descargas arco de corriente continua en vaco o a baja presin con inyeccin de gases; una fotografa y un esquema del mismo pueden encontrarse en las Figuras 2.1 y 2.2, respectivamente. La cmara de vaco es un cilindro de acero inoxidable de 25 cm de dimetro y 40 cm de longitud. El arco se produce entre la cmara, que acta como nodo conectada a tierra, y un ctodo cilndrico colocado en forma coaxial en el interior de la misma. El ctodo se halla rodeado por un cilindro de cobre, elctricamente flotante, que acta como blindaje, impidiendo que los spots se muevan hacia la pared lateral del ctodo, mantenindolos en su superficie frontal. El diseo del equipo permite cambiar el ctodo, ya sea para su reposicin una vez consumido, o para un cambio de material. En este trabajo se utiliz un ctodo de titanio grado 2 de 5,5 cm de dimetro y 5 cm de largo. Los electrodos se encuentran aislados elctricamente entre s mediante una pieza de polipropileno, y ambos son refrigerados por agua con circulacin forzada mediante una bomba centrfuga. El circuito elctrico del equipo, esquematizado en la Figura 2.2, est compuesto por una fuente de corriente continua de alta potencia (18 kW, 150 A), en paralelo con un banco de capacitores de 165 mF, conectada a los electrodos a travs de una bobina de 2,8 mH. La descaraga se inicia con un electrodo auxiliar mvil (trigger) que inicialmente est en contaco con el ctodo, y luego, al encender la fuente, es retirado hacia adelante. Por este electrodo, conectado a tierra a travs de una resistencia de 2,5 , circula una fraccin de la corriente total; y, al ser alejado del ctodo, dispara un arco auxiliar a partir del cual se genera el canal de corriente de la descarga principal. El trigger consiste en una barra de tungsteno, de 1 mm de dimetro y 5 cm de largo, que se sostiene con una barra de acero inoxidable que sale al exterior de la cmara a travs de una perforacin en la pieza aislante. Una vez encendida la descarga, los capacitores y la inductancia protegen a la fuente de los picos de corriente de alta frecuencia que se generan al aparecer y desaparecer los spots, proporcionando estabilidad al arco.

Figura 2.1. Cmara de descarga del equipo DC1. El sistema de vaco est compuesto por una bomba difusora asistida por una bomba mecnica Varian SD-451. La presin de base es del orden de 10-2 Pa. Para la inyeccin de gases se emplea un sistema controlador de flujos que cuenta con tres caudalmetros, que operan en los rangos de 10, 50 y 100 sccm, y una fuente reguladora de caudal. Los caudalmetros miden el flujo de gas entrante y lo ajustan al valor fijado en la fuente. Para medir la presin se utiliz un cabezal Pirani (Edwards APG-L), que mide en el rango de 104 10-2 Pa, conectado a una fuente digital Edwards Active Gauge Controller. La cmara de vaco, como se aprecia en la Figura 2.1, cuenta con distintas bridas que pueden utilizarse como bocas de evacuacin, o donde pueden colocarse vlvulas de alivio o de inyeccin de gas, medidores de presin y/o ventanas. Sobre la tapa posterior, contraria a la posicin del ctodo, puede colocarse una sonda para medir parmetros del plasma, o bien un sustrato (sobre un porta-muestras o un calefactor) para obtener recubrimientos, tal como se muestra en la Figura 2.2. Para este trabajo se emple un calefactor operado por un controlador Novus N2000 que permite fijar la temperatura y controlar la rampa de calentamiento. El calefactor puede operar en vaco hasta los 500 C. La temperatura del sustrato, medida con una termocupla colocada entre la muestra y la superficie del calefactor, puede controlarse con una precisin de ~ 10 %.

1.1.2. Obtencin de recubrimientos

Para la obtencin de los recubrimientos de TiO2 se fij la corriente del arco en 130 A y se emplearon flujos de entrada de oxgeno en el rango 30 40 sccm, resultando presiones de trabajo del orden de 3 Pa. En todos los casos se dej evacuar el sistema hasta alcanzar la presin de base, y se abri la entrada de O2 simultneamente con el encendido del arco. Se utilizaron sustratos de vidrio de 33 cm2 y de silicio (100) dopado con boro de 21 cm2. Los mismos fueron colocados sobre el calefactor, ubicndose a 26 cm del ctodo. Se obtuvieron muestras a temperatura ambiente y a 400 C. En el segundo caso, los sustratos se calentaron, previamente a la deposicin, a razn de 40 C/min, y luego se enfriaron naturalmente dentro de la cmara, demorando aproximadamente 2 h en alcanzar la temperatura ambiente. Con el fin de obtener films de distintos espesores, el tiempo de exposicin a la descarga se vari entre 0,5 y 10 min. En los casos de mayor exposicin, los depsitos se realizaron en intervalos de 1 min para evitar un excesivo calentamiento del equipo, esperando 10 min entre descargas sucesivas. Para determinar la masa depositada, las muestras fueron pesadas antes y despus de la deposicin con una balanza analtica con resolucin de 0,1 mg. Las pelculas que se depositaron amorfas (a temperatura ambiente) fueron sometidas a un tratamiento trmico posterior con el fin de cristalizar el material. El tratamiento se efectu en un horno a 400 C durante 1 hora en ambiente de aire a presin atmosfrica. Las muestras fueron calentadas a razn de 10 C/min y enfriadas naturalmente dentro del horno. Para estudiar la uniformidad en la deposicin, incluso a escalas mayores al tamao de las muestras obtenidas, se obtuvieron recubrimientos a distintas posiciones radiales. En este caso, se utilizaron sustratos de vidrio de 22 cm2 ubicados a 26 y a 30 cm del ctodo. Los mismos fueron montados sobre un porta-muestras que permite sujetar 7 muestras a la vez en posiciones radiales de 0 a 11 cm. Estos recubrimientos fueron obtenidos solamente a temperatura ambiente y con un tiempo de exposicin de 30 s.

1.1.2.1.- Prametros de obtencin:

I= 130 P=3Pa Sustratos: -vidrio = 3x3 cm2 -silicio dopado con boro = 2x1cm2 Distancia sustrato-catodo = 26cm T= ambiente 25C y 400C

2.- RESULTADOS ESPERADOS

2.1.-DIAGRAMA:
CATODO PLASMA GAS CON P BAJA

SUSTRATO

PLASMA IONIZADO

FLUJO DE O2

2.3.- FILMS EN SUSTRATO DE VIDRIO: FOTOCATALISIS:

FILMS DE VIDRIO FOTOCATALISIS Uv Cr 6+ EDTA Cr 3+

2.4.- FASES RESULTANTES CON:

FASE SUSTRATO T= 300C

SIN CON V (-50) POLARIZACION POLARIZACION 100V ANATASA RUTILO AMORFO AMORFO RUTILO

3.- PRUEBA A REALIZA: A longitud de onda de 352 nm se leen las soluciones de Cr +6 en KCrO4, ponindolas en contacto con las pelculas obtenidas a partir de arco catdico, luego de estar en contacto con una lmpara, preparando blancos para luego realizar la lectura en un equipo de espectrofotometra UV-vis. Para realizar la estadstica de este trabajo se realizaran 4 sistemas, para resaltar las propiedades de la pelcula de dixido de titanio como los poros que esta presenta.

3.1.- Comparacin con Dip-coating: Parametros de obtencin de las pelculas de dixido de titanio: -sustrato: vidrio 3x3 cm2

Suspensin de TiO2 al 5% p/v V= 100mL pH = 2.5 (HClO)

Preparacin de las muestras por dip-coating Las muestras de P-25 utilizadas como referencia para los estudios de fotocatlisis fueron crecidas sobre sustratos de vidrio de 33 cm2 por inmersin dip-coating. Estos films fueron preparados a partir de una suspensin de TiO2 Degussa P-25 (Degussa AG) 5% p/v en agua desionizada ajustada a pH 2,5 con HClO4 (Merck) 1 M. Los sustratos de vidrio fueron inmersos una vez en la suspensin coloidal, y luego retirados a una velocidad constante de 3,3 mm/s. Debido al mecanismo de sujecin de las muestras, se recubri solamente un rea de 23 cm2. Luego de la impregnacin se removi el recubrimiento de una de las caras. Los

films se secaron en estufa a 75 C durante 20 horas y, luego, fueron calcinadas en mufla a 400 C durante 1 hora. La temperatura de la mufla fue incrementada a razn de 7,5 C/min y luego los films fueron enfriados naturalmente dentro de la misma hasta alcanzar la temperatura ambiente. La masa depositada fue determinada a partir del pesaje de las muestras, antes y despus de la deposicin, con una balanza Mettler AE 163 con una resolucin de 10-5 g.

4.- BENEFICIOS ESPERADOS Los resultados que se esperan en este trabajo dependen mucho del tipo de deposicin que se dan para la obtencin de las pelculas de dixido de titanio. Los beneficios se ven afectados tambin del tipo de sustratos con el que trabajamos, aqu se trabajan con dos sustratos, con vidrio y silicio, utilizando un ctodo de titanio de 5 cm de largo, con una corriente de gas de O2.

V= 20-50V I= 1x105 A P< 1kPa

e-

iones

SUSTRATO

En los diagramas de rayos X se estudiaron el espesor, mostrando que esta depende del tiempo de exposicin a la carga.

CATODO

ANODO

Ti

SUSTRATO

O2,

5.- CONCLUSIONES: 5.1.- El mtodo de arco catdico, a pesar de que se obtienen pelculas delgadas, estas se pueden someter a un posterior tratamiento trmico para su cristalizacin, a una mayor temperatura se obtiene una menor rugosidad. 5.2.- El sustrato puede variar, como se muetsra en este trabajo, se utilizaran sustratos de vidrio y de silicio, existiendo una menor rugosidad en una pelcula obtenida en un sustrato de vidrio que en un sustrato de silicio. 5.3.- El catodo de titanio usado en el arco catdico, se consumir al formar el plasma metalico, el cual se ionizar posteriormente para luego formar nuestra pelcula de dixido de titanio, la cual puede ser aprovechada en fotocatlisis para la obtencin de agua potable.

6.- RECOMENDACIONES: 6.1.- Al obtener pelculas de dixido de titanio por el mtodo de arco catdico, se obtienen pequeas macropartculas presentes en las pelculas, estas macropartculas son gotas de titanio metalico que no e ionizo para la formacin de la pelcula. Este inconveniente se puede arreglar con la incorporacin de filtros que estn alrededor del catodo.

7.- REFERENCIAS BIBLIOGRAFICAS:

7.1.- Crecimiento de pelculas de dixido de titanio con un arco catdico: funcionalizacin de superficies

Kleiman, Ariel Javier 2011

Tesis Doctoral Facultad de Ciencias Exactas y Naturales Universidad de Buenos Aires www.digital.bl.fcen.uba.ar
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