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MICRO Y NANOFABRICACIN
ALTA RESOLUCIN Y PRODUCCIN
La nanotecnologa se ha convertido en un tema de gran repercusin meditica que, en cierta medida,
refleja la fascinacin que provoca la capacidad de controlar la forma y composicin de la materia a
escala atmica y molecular, usando tcnicas y aproximaciones muy diversas. Este control es el que
permite acceder a nuevas propiedades que slo se manifiestan a escala nanomtrica o moldear a
voluntad las ya conocidas, logrando con ello la sntesis de nuevos materiales con propiedades a
medida y la fabricacin de dispositivos diminutos y ultrasensibles.

La habilidad para fabricar estructuras en la micro y nanoescala es de crucial importancia, no slo en
los chips para anlisis biomolecular, sino en general en el avance de las micro y nanotecnologas y el
estudio de las nanociencias. Aspectos crticos como la resolucin, fiabilidad, velocidad y precisin son
todos aspectos que deben de ser considerados a la hora de desarrollar nuevos procesos litogrficos.
De este modo, se deben desarrollar mtodos de fabricacin que permitan reproducir en un producto
comercializable los diseos y desarrollos de prototipos realizados a escala de laboratorio. En este
sentido, cuando se requieren fabricar estructuras con una resolucin por encima de 1 micrmetro, la
tecnologa de fabricacin de referencia es la Litografa Ultravioleta convencional, donde una capa
fina fotosensible es irradiada de forma selectiva con luz de 350-450 nanmetros. Esta tecnologa
combina tiempos de produccin pequeos y un coste en equipamiento y mantenimiento reducidos.
Sin embargo, no existe una tecnologa madura que aporte estas prestaciones cuando se buscan
resoluciones sub-micromtricas, lo que limita la industrializacin de prototipos realizados en el
mbito de la nanotecnologa.

Se han realizado importantes esfuerzos a la hora de optimizar las tecnologas litogrficas sub-
micromtricas, utilizndose fuentes ms energticas como la litografa ultravioleta extrema, la
litografa con electrones, con fuentes de iones o con fuentes de rayos X. Existen hoy en da
numerosos problemas a la hora de hacer estas tecnologas productivas; entre otros: su coste que en
algunos casos supera los 50 millones de dlares- o su tiempo de fabricacin extremadamente lento
para la industria-. nicamente la litografa ultravioleta extrema, tecnologa empleada por la industria
de semiconductores que integra circuitos integrados en un chip, es una alternativa. Sin embargo, su
coste en inversin y mantenimiento anual est slo al alcance de una muy alta produccin anual
como la que se realiza en la industria de semiconductores. Este hecho, unido a la aparicin de
aplicaciones ajenas a la microelectrnica, muchas de ellas en el campo de la biotecnologa y las
aplicaciones biomdicas, ha conllevado que numerosos investigadores hayan invertido recursos en la
bsqueda de alternativas que combinen alta resolucin a un coste moderado. Algunas tecnologas
importantes, desarrolladas durante los ltimos aos, son: microcontact printing, litografa basada en
microscopia de fuerzas atmicas, litografa de nanoimpresin o litografa dip-pen, donde un
cantilver es usado para transferir molculas al substrato por capilaridad. De entre estas tecnologas,
la litografa de nanoimpresin es con diferencia la ms madura y est siendo utilizada para fabricar
lseres orgnicos, diodos emisores de luz orgnicos (OLEDS), substratos para ingeniera de tejidos y
biochips para sensorizacin de biomolculas. Esta tecnologa se est utilizando en produccin para la
fabricacin de elementos fotnicos para la industria ptica y substituir en breve a la fotolitografa
ultravioleta en la produccin de unidades de almacenamiento de datos y displays pticos.

El principio de la Litografa de Nanoimpresin (NIL) es muy simple. Un patrn, normalmente
fabricado en silicio, es transferido a una capa fina de polmero que recubre el substrato
normalmente vidrio o silicio- bajo unas condiciones controladas de presin y temperatura (figura 1a).
Este proceso de impresin da lugar a una capa residual muy fina de polmero, que es eliminado
mediante un plasma anisotrpico de oxgeno hasta alcanzar el substrato (figura 1b). Posteriormente,
se puede realizar la transferencia de motivos al substrato mediante ataques anisotrpicos en vacio,
empleando para ello gases especficos y actuando el polmero como mscara (figura 1c), o bien,


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evaporar sobre el substrato una fina capa metlica con posterior extraccin del polmero en
disolvente orgnico (figura 1d). El proceso permite la rplica de substratos a partir del patrn en
tiempos inferiores a los 15 minutos y alcanza una resolucin mnima condicionada
fundamentalmente por el molde patrn, pudiendo ser sta inferior a los 10 nm. Esta es la razn por
la que esta tecnologa ha acaparado una gran atencin de la industria y centros de investigacin unos
pocos aos despus de que fuera propuesta en la Universidad de Princeton por el grupo de S.Y. Chou
en 1995.

La litografa de nanoimpresin distingue dos procesos diferentes. La nanoimpresin trmica
(thermal-NIL) utiliza un patrn de impresin rgido generalmente silicio- y se aplica presin del
orden de 10-25 bar- a una capa fina de material termoplstico por encima de su temperatura de
transicin vtrea, lo que permite que el material fluya llenando las cavidades del patrn (figura 2a).
Posteriormente, se enfra el conjunto patrn-substrato y se desmoldea por debajo de la
temperatura de transicin vtrea. La nanoimpresin apoyada por luz ultravioleta (UV-NIL) utiliza
patrones transparentes rgidos cuarzo- o blandos silicona- para transferir al polmero la estructura
del molde mediante aplicacin de una pequea presin del orden de 1 bar- y curado del polmero
mediante luz ultravioleta (figura 2b). Durante los ltimos tres aos se han desarrollado sistemas
comerciales similares a los steppers utilizados en fotolitografa por la industria microelectrnica,
permitiendo la impresin de grandes reas a partir de un patrn de rea reducida.

La Unidad de Micro y Nanofabricacin ha desarrollado esta tecnologa y, una vez optimizados los
procesos de fabricacin, la est aplicando en el campo de la salud para desarrollar sistemas de
diagnstico basados en estiramiento de DNA en dispositivos nanofludicos, lseres orgnicos de
semiconductor o la modificacin superficial mediante patrones morfolgicos o de protenas de
polmeros naturales basados en polisacridos.

Figura 1a Figura 1b

Figura 1c Figura 1d


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Figura 2a Figura 2b
Dispositivos micro y nanofludicos para identificacin de DNA

Los mtodos actuales de anlisis de DNA requieren cortar cada molcula en millones de fragmentos,
replicar cada segmento, ordenarlos por tamao y reconstruir el DNA original en un proceso costoso
tanto en tiempo como en material utilizado. En cambio, la posibilidad de estirar DNA, que consiste en
linealizar molculas individuales por confinamiento en canales nanofludicos, abre nuevas
posibilidades para el anlisis de DNA y sensado bioqumico de forma rpida y utilizando una cantidad
nfima de muestra, lo que reduce considerablemente el coste del anlisis.

El estiramiento de molculas de DNA en canales nanofludicos ha sido utilizado para el estudio de las
propiedades fsicas y biolgicas de estas molculas, analizndose medidas de longitud de contorno
en tiempo real de las molculas estiradas. Se han realizado tambin mapas de restriccin utilizando
endonucleasas as como estudiado interacciones moleculares entre una protena y una molcula de
DNA. Recientemente, se estn dando los primeros pasos para desarrollar un mtodo de
secuenciacin directa de molculas individuales de DNA.

La unidad de Micro y Nanofabricacin, basndose en la tecnologa de Litografa de Nanoimpresin,
ha fabricado canales de seccin nanomtrica de hasta 50x20 nm-, integrndolos en un chip que
permite el movimiento de DNA por presin o campo elctrico [1- 2]. De este modo, se ha resuelto el
grado de estiramiento de estas molculas, obtenindose un buen acuerdo entre la prediccin terica
y los resultados experimentales. En la actualidad, se pretende demostrar que el grado de
estiramiento es el mismo para un canal dado, independientemente de la molcula de DNA, lo que
facilitara enormemente su uso en aplicaciones de diagnstico rpido.

El DNA es un polmero largo y flexible que en solucin asume una conformacin en forma de hlice
con un radio caracterstico de giro dado por (PwL
3
)
1/5
, donde P es la longitud de persistencia, una
magnitud mecnica que cuantifica la rigidez de la macromolecula y que es aproximadamente 50 nm
para una doble hebra de DNA; w es la anchura del DNA, la cual puede ser estimada en 2 nm, y L es la
longitud de contorno, es decir, la longitud de la molcula totalmente estirada. L depende del nmero
de bases en una hebra de DNA y es normalmente calculada asumiendo una distancia de 0.34 nm
entre pares de bases. El radio de giro para una molcula de DNA en solucin es del orden de unos
pocos micrmetros -2 m en nuestros experimentos-. Sin embargo, cuando las molculas de DNA
son forzadas a entrar en una seccin con dimetro mucho ms pequeo que el radio de giro, es
energticamente ms favorable para las molculas estirarse en una serie de bloques a lo largo del
canal. En el rgimen de De Gennes, es decir cuando el radio de giro es mucho mayor que el dimetro
de la seccin, y sta a su vez mayor que la longitud de persistencia, la longitud de la molcula de DNA
en el canal L
estirado
- escala con la longitud de contorno L segn L
estirado
L(wP/D
2
)
1/3
, donde D es el
dimetro del canal. De este modo, el coeficiente de extensin L
estirado
/L depende de la seccin del


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canal, que es caracterstica de cada chip, y por tanto, la determinacin del grado de extensin para
un determinado chip proporciona un mtodo para identificar molculas de DNA.

El diseo del chip para estiramiento de DNA se muestra en la figura 3. El chip se compone de una
base de silicio, conteniendo microcanales para el transporte del fluido y nanocanales para el
estiramiento de DNA, inmovilizacin y deteccin (figura 4). La figura 4 muestra un corte transversal
del dispositivo micro y nanofludico, donde se observan canales de seccin nanomtrica de
dimensiones aproximadas 50x50 nm - rodeados de canales -por los que no circula el DNA a estudiar-
de seccin micromtrica. Los chips fabricados con canales de 80x80 nm se llenaron con una solucin
conteniendo -DNA tintado con un marcador fluoerescente. Todas las longitudes de las muestras de
-DNA fueron analizadas por fluorescencia y estudiadas en un histograma (figura 5), tomndose ms
de 300 imgenes durante un tiempo aproximado de 30 segundos. El histograma revel que la
longitud promedio del -DNA en los nanocanales es de 6,0 +/-0,3 m, estimndose un grado de
estiramiento de 0,33. Si consideramos este grado de estiramiento en el rgimen de Gennes descrito
anteriormente, encontramos que el dimetro terico del nanocanal debiera ser de 107 nm, muy
prximo al valor experimental fabricado.

La unidad de micro y nanofabricacin est extendiendo el uso de estos chips a otras molculas de
DNA con el fin de demostrar que el grado de estiramiento es el mismo para un mismo chip y
condiciones de dilucin de la muestra de DNA.


Figura 3


Figura 4


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Figura 5
Lseres Orgnicos de Semiconductor

En los ltimos aos se ha desarrollado una intensa actividad investigadora en el campo de los lseres
orgnicos de estado slido con retroalimentacin distribuida (DFB), con el fin de obtener dispositivos
baratos, cuya longitud de onda de emisin se pueda sintonizar en un amplio rango de longitudes de
onda en la zona visible y en el infrarrojo cercano del espectro. En este contexto, la Unidad de Micro y
Nanofabricacin ha trabajado en la fabricacin de lseres DFB unidimensionales (1D) basados en
pelculas polimricas dopadas con molculas orgnicas activas como medio lser. En este trabajo los
esfuerzos se han centrado en obtener umbrales lser pequeos y buenas fotoestabilidades,
logrndose umbrales de excitacin de 1 J/pulso y fotoestabilidades superiores a los 500 minutos, lo
que supone la mayor fotoestabilidad encontrada en un lser DFB en material orgnico a condiciones
ambientales [3-6].

La figura 6 muestra el set-up ptico de excitacin y anlisis de emisin lser y el resonador fabricado
en poliestireno dopado con un derivado de perylenediimide, compuesto por una red unidimensional
de periodo 368 nm y fabricada mediante Litografa de Nanoimpresin. La figura 7a muestra el umbral
de excitacin de luz para un lser de Nd:Yag a 532 nm operando a 10 Hz y con un tiempo de pulso de
10 ns para diferentes concentraciones en peso de perylenediimide. La figura 7b muestra la
fotoestabilidad del lser cuando ste es excitado a 4 J/pulso.

En la actualidad se est trabajando en el diseo y fabricacin de redes 2D en diferentes materiales
orgnicos curados por temperatura (thermal-NIL) o por luz (UV-NIL) que permitan obtener un alto
factor de calidad y un bajo umbral de excitacin, de modo que sean excitados con un lser de diodo o
un LED (Light Emitting Diode). Se busca que estos lseres sean monomodo para que puedan ser
utilizados como biosensores baratos desechables, midiendo el desplazamiento en la longitud de onda
de emisin como consecuencia de las molculas objetivo que se han adsorbido o enlazado a la
superficie del polmero.

Figura 6


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Figura 7a Figura 7b
Ingeniera de Tejidos

La investigacin en kits que permitan una diferenciacin optima de clulas madre en diferentes
lneas celulares (clulas de hueso, cartlago, piel) sin recurrir a concentraciones elevadas de
factores de crecimiento, consiste un campo de investigacin muy activo durante los ltimos aos. El
objetivo que se persigue es tanto la diferenciacin in-vitro y la insercin del material en la zona a
regenerar (desde piel a rganos vitales) como la realizacin del injerto y la diferenciacin in-vivo. De
este modo, se ha trabajado en obtener matrices extracelulares, tanto en dos como en tres
dimensiones, en diferentes materiales que representan la superficie sobre la que se mueve la clula.
As, se ha estudiado como la topografa del material controlada en la escala del micrmetro y
nanmetro juega un papel fundamental en la morfologa celular (alineamiento, estiramiento,
esparcimiento) y repercute notablemente en su diferenciacin y en la proliferacin celular; motivo
este ltimo por el que un tema de investigacin importante se centra en evitar la proliferacin y
extensin de clulas tumorales.

La Unidad de Micro y Nanofabricacin trabaj inicialmente en estudiar la influencia de la topografa
sobre la morfologa y diferenciacin de clulas madre mesenquimales en clulas de hueso
(osteoblastos), analizando parmetros como el alineamiento, estiramiento, rea ocupada por la
clula y produccin de la enzima fosfatasa alcalina en dicha diferenciacin (figura 8). Este estudio se
desarroll en materiales sintticos biocompatibles y biodegradables como la policaprolactona.

En la actualidad, se trabaja en materiales naturales basados en polisacridos, los cuales se obtienen a
travs de medios y desechos naturales, como el condroitn sulfato y varios derivados del cido
hialurnico. Estos materiales, mucho ms complejos de procesar que los sintticos, se han estudiado
y optimizado para permitir su micro y nanoestructuracin mediante UV-NIL (Figura 9a). La
combinacin de micro-contact printing con polielectrolitos resistentes a la absorcin de protenas
(molculas de PLL-g-PEG) ha permitido inmovilizar patrones de protenas sobre estos materiales,
desarrollndose patrones de protenas tales como la estreptavidina, albmina o fibronectina (figura
9b), facilitando puntos de anclaje a la membrana celular, y por tanto, incidiendo en su movimiento y
en su diferenciacin. En la actualidad se trabaja en la elaboracin de un kit que permita una
diferenciacin ptima de clulas madre mesenquimales en clulas de hueso [7].


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Figura 8

Figura 9a Figura 9b




Referencias propias:
[1] Design and fabrication using nanoimprint lithography of a nanofluidic device for DNA stretching
applications. E. Abad, S. Merino, A. Retolaza, A. Juarros. Microelectronic Engineering 85, 818 (2008).
[2] Single molecule DNA stretching in nanofluidic chips fabricated by thermal imprinting and anodic bonding.
E. Abad, S. Merino, A. Retolaza, A. Juarros, R. Marie, A. Krinstensen. Microelectronic Engineering 88, 300
(2011).
[3] Highly photostable organic distributed feedback laser emitting at 573 nm. V. Navarro-Fuster, E. M. Calzado,
P.G. Boj, J.A. Quintana, J.M. Villalvilla, M.A. Daz Garca, V. Trabadelo, A. Juarros, A. Retolaza, S. Merino. Applied
Physics Letter 97, 171104 (2010).
[4] Highly photostable solid-state organic distributed feedback laser fabricated via termal nanoimprint
lithography. V. Trabadelo, A. Juarros, A. Retolaza, S. Merino, MG. Ramirez, V. Navarro-Fuster, JM. Villalvilla, PG.
Boj, JA. Quintana, MA. Daz Garca. Microelectronic Engineering 87, 5, 1428 (2010).
[5] Efficient organic distributed feedback lasers with imprinted active films: M.G. Ramrez, P.G. Boj, I. Vragovic,
J.M. Villalvilla, I. Alonso, V. Trabadelo, S. Merino, M.A. Daz Garca. Optic Express 19, 23, 22443 (2011).
[6] Film thickness and grating depth variation in organic second-order distributed feedback lasers. V.N.
Navarro, I. Vragovic, E.M. Calzado, P.G. Boj, J.A. Quintana, J.M. Villalvilla, A. Retolaza, A. Juarros, D. Otaduy, S.
Merino, M.A. Daz Garca. Aceptado en Journal of Applied Physics (2012).
[7] Actividad realizada en el marco del proyecto europeo Find and Bind: Mastering sweet cell-instructive
biosystems by copycat nano-interaction of cells with natural surfaces for biotechnological applications. Pgina
web: www.findandbind.eu