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TRANSISTORES DE EFECTO DE CAMPO (FET)

OSWALDO JOS MACHADO, JESS ALFREDO GMEZ

Valencia, 09 de Octubre de 2014

Transistores FET

Facultad de Ingeniera UC

ndice
ndice de guras

1.

Caracteristicas generales del transistor de efecto de campo (FET)

2.

Clasicacin de los transistores FET

3.

Transistor de efecto de campo de unin (JFET)

3.1.

Estructura de fabricacin del JFET

3.2.

Simbolo circuital del JFET

3.3.

Principio de funcionamiento

3.4.

Ecuaciones caracteristicas del transistor JFET

8
11

4.

Transistor de efecto de campo de xido metlico (MOSFET)

13

5.

MOSFET tipo empobrecimiento

13

5.1.

Estructura de fabricacin del MOSFET tipo empobrecimiento

14

5.2.

Simbolo circuital del MOSFET tipo empobrecimiento

15

5.3.

Principio de funcionamiento del MOSFET de empobrecimiento

16

6.

MOSFET de acumulacin

17

6.1.

Estructura de fabricacin del MOSFET de acumulacin

17

6.2.

Smbolo circuital del MOSFET tipo enriquecimiento

18

6.3.

Principio de funcionamiento del MOSFET de enriquecimiento

19

7.
7.1.
7.2.

Regiones de operacin

22

En el JFET

22

En transistor MOSFET:

24

8.

Modelo hibrido de pequea seal a frecuencias intermedias del FET

27

9.

Aplicaciones los FETS

28

ndice de figuras
1.1.Amplicadores a) controlado por corriente, b) controlado por voltaje

3.1.Estructura bsica del JFET de canal n

3.2.Analoga del agua para el mecanismo de control de un FET

3.3.Simbolos circuitales de los JFET canal n y canal p

3.5.Efecto de la tensin

V DS .

El canal se estrecha de la zona del drenador

3.4.Polarizacin del JFET


3.6.Caracteristica
3.7.La tensin

I D Vs V DS

V GS

8
8

para

V GS = 0V

modula la anchura del canal

10
11

3.8.Obtencin de la curva de transferencia a partir de la caracteristicas de drenaje

12

5.1.MOSFET tipo empobrecimiento de canal n

14

5.2.MOSFET de empobrecimiento canal p

15

5.3.Simbolo circuital para el MOSFET tipo empobrecimiento canal n

15

5.4.Simbolo circuital para el MOSFET tipo empobrecimiento canal p

15

Transistores FET

Facultad de Ingeniera UC

5.5.Polarizacin del MOSFET de deplexin

16

5.6.Funcionamiento del MOSFET de deplexin canal n

16

5.7.Reduccin de los portadores libres en un canal debido a un potencial negativo


en la terminal de compuerta.

17

6.2.Smbolos de (a) y (b) MOSFET tipo enriquecimiento de canal n y (c) y (d)


MOSFET tipo enriquecimiento de canal p

18

6.1.MOSFET tipo enriquecimiento de canal n

18

V GS >0V.

19

6.3.Polarizacin del MOSFET de acumulacin

19

6.4.Efecto de

6.5.Efecto

V GS

; a)

V GS = 0V

b)

V GS

20

6.6.Efecto de la tensinV DS . El canal se estrecha ms en la zona del drenador.

V DS para una valor de V GS constante.


7.1.Curva caracterstica V DS contra I D
7.2.Para V DS < V DSsat el JFET se comporta como una resistencia
V GS
6.7.Caracterstica

ID

20

21
22
variable con

7.3.Zona de ruptura. Las lneas correspondientes a los distintos valores de

23

V GS

se

cruzan

24

7.4.Caractersticas ideales de un JFET de canal n.

24

7.5.Caractersticas ideales de un MOSFET de acumulacin canal n

25

V DS < V DSSAT el MOSFET se comporta como una resistencia variable


con V GS
7.7.Para V DS > V DSSAT el MOSFET se comporta como una fuente de corriente
controlada con la tensin V GS .

26

7.8.Caractersticas ideales de un MOSFET de deplexin canal n

26

7.9.Lmites de funcionamiento

27

8.1.Modelo de pequea seal a frecuencias intermedias del FET

27

9.1.Circuito generador de diente de sierra

28

9.2.Modelo de un circuito recortador o modulador

28

9.3.Modelo de un circuito digital

29

7.6.Para

25

Transistores FET

1.

Facultad de Ingeniera UC

Caracteristicas generales del transistor de efecto de campo


(FET)

El transistor de efecto de campo (Field Eect Transistor, FET) es un dispositivo de


tres terminales que se utiliza en varias aplicaciones que coinciden, en gran medida, con
las del transistor BJT. Los FETs son dispositivos

unipolares

pues, a diferencia de los

transistores bipolares, operan solo con portadores mayoritarios. Una de las diferencias
entre los dos tipos de transistor radica en el hecho de que el transistor BJT es un
dispositivo

voltaje

controlado por corriente,

mientras que el transistor FET es

controlado por

(gura 1.1), donde el voltaje en una de las terminales controla la cantidad de

corriente a travs del dispositivo. Existen dos tipos principales de FET: el transistor de
efecto de campo de unin (JFET) y el transistor de efecto de campo semiconductor de
xido metalica (MOSFET).

Figura 1.1.

Amplicadores a) controlado por corriente, b) controlado

por voltaje

Que quiere decir el trmino

efecto de campo?

En los transistores FET se crea un campo elctrico que controla la anchura del camino
de conduccin del circuito de salida sin que exista contacto directo entre la magnitud
controlada (corriente) y la magnitud controladora (tensin)
Entre otras de las caracteristicas generales de los transistores FET en comparacion
a los transistores BJT, destacan:

El FET posee una alta impedancia de entrada.

A un nivel de 1M, ex-

cede por mucho los niveles de resistencia de entrada tpicos de las conguraciones
del transistor BJT, lo que es una caracteristica muy importante en el diseo de
amplicadores de ca (corriente alterna) lineales. Esto proporciona a los FET una
posicin de ventaja a la hora de ser utilizados en circuitos amplicadores
4

Transistores FET

Facultad de Ingeniera UC

Los FET son mas estables a la temperatura que los BJT,

y en ge-

neral son mas pequeos que estos ltimos mencionados (BJT), lo que los hace
particularmente tiles en chips de circuitos integrados.

el transistor BJT presenta mayor sensibilidad a los


cambios en la seal aplicada, es decir, la variacin de la corriente de salida
Sin embargo,

es mayor en los BJT que en los FET para la misma variacin de la tensin
aplicada. Por ello, tpicamente, las ganancias de tensin en alterna que presentan
los amplicadores con BJT son mucho mayores que las correspondientes a los
FET.
De forma anloga a como en los transistores bipolares existen dos tipos npn y
pnp, en los transistores de efecto de campo se habla de transistores FETs de canal
n y de canal p.

se pueden comportar como


si se tratasen de resistencias o condensadores, lo que posibilita la
Una caracterstica importante de los FET es que

realizacin de circuitos utilizando nica y exclusivamente transistores FET.

2.

Clasificacin de los transistores FET

Entre los transistores de efecto de campo se pueden distinguir dos grandes grupo:

Transistor de efecto de campo de unin (JFET)


Transistor de efecto de campo semiconductor de xido metalica
(MOSFET).
3.
El JFET (

Transistor de efecto de campo de unin (JFET)

Junction Field Eect Transistor ) es un dispositivo de tres terminales con

una terminal capaz de controlar la corriente entre las otras dos. Se pueden distinguir
dos grandes tipos:
JFET de canal n
JFET de canal p

3.1.

Estructura de fabricacin del JFET.

En la gura 3.1 se ha representado la

construccin bsica de un JEFT de canal n. Podemos observar como la mayor parte de


la estructura es de material tipo n ligeramente dopado formando un canal con contactos
hmicos en ambos extremos (terminales de

Drenaje r y Fuente ). Este canal se encuentra

inserto entre dos regiones de compuerta tipo p+ (material tipo p fuertemente dopado)
con sendos contactos hmicos que constituyen los terminales de

Puerta.

En algunos

casos los dos terminales de puerta estn accesibles (JFET de doble puerta) aunque lo
ms habitual es que ambos terminales estn cortocircuitados teniendo un nico terminal
de

Puerta

(dispositivo de tres terminales).


5

Transistores FET

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En ausencia de potencial aplicado, las dos uniones pn que aparecen estn sin polarizar. El resultado es una regin de vaciamiento o

zona de deplexin

(regin carente

de portadores libres) de forma similar a la que se vio en su da al analizar en el diodo la unin p-n en ausencia de polarizacin. Es importante recordar que una regin
de empobrecimiento no contiene portadores libres, y por consiguiente es incapaz de
conducir.

Figura 3.1.

D =

Drenaje:

Estructura bsica del JFET de canal n

(Del ingls Drain). Es el terminal por al que salen los portadores del

dispositivo (los electrones en el JFET de canal n y los huecos en el de canal p).

Fuente: (Del ingls Source). Es el terminal por el que entran los portadores.
G = Puerta: (Del ingls Gate). Es el terminal mediante el que se controla la corriente
S =

de portadores a travs del canal.


Las analogas rara vez son perfectas y en ocasiones pueden ser engaosas, pero la del
agua de la gura 3.2 da una idea del control del JFET en la compuerta y de lo apropiado
de la terminologa aplicada a las terminales del dispositivo. La fuente de presin de agua
puede ser vinculada al voltaje aplicado del drenaje a la fuente, el cual establece un ujo
de agua (electrones) desde el grifo (fuente). La compuerta gracias a una seal aplicada
(potencial), controla el ujo de agua (carga) dirigido hacia el drenaje. Las terminales
de drenaje y la fuente se encuentran en los extremos opuestos del canal, como se indica
en la gura 3.2 porque la terminologa corresponde al ujo de electrones.
6

Transistores FET

Figura 3.2.

3.2.

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Analoga del agua para el mecanismo de control de un FET

Simbolo circuital del JFET.

A continuacin se muestran los simbolos circui-

tales del JFET canal n y JFET canal p (gura 3.3)

Figura 3.3.

Simbolos circuitales de los JFET canal n y canal p

Como se puede observar, la diferencia en el smbolo entre ambos tipos reside en el


sentido de la echa del terminal de puerta (G). En el JFET de canal n el terminal de
puerta se representa con una echa entrante al dispositivo, mientras que en el de canal
p es saliente. Recordar que el sentido de la echa indica el sentido de circulacin de la
corriente si la unin pn correspondiente estuviera polarizada en directa.
Para el funcionamiento ms habitual, los transistores de canal n se polarizan aplicando una tensin positiva entre drenaje y fuente
y fuente

V GS .

En el caso del JFET de canal p la tensin

V GS

VDS

y una tensin negativa entre puerta

De esta forma, la corriente circular en el sentido de drenador a fuente.

VDS

a aplicar debe ser negativa y la tensin

positiva, de esta forma la corriente uir en el sentido de la fuente hacia el drenaje.

(Figura 3.4)
7

Transistores FET

Figura 3.5.

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Efecto de la tensin

V DS .

Figura 3.4.

3.3.

El canal se estrecha de la zona del drenador

Polarizacin del JFET

Principio de funcionamiento.

3.3.1. Inuencia de V DS .

En primer lugar, se analizar el efecto que sobre el dispo-

sitivo tiene la variacin de la tensin

VDS

aplicada entre los extremos del canal. Para

ello, se supondr que inicialmente la tensin


de

V DS

V GS = 0V

y se ir aumentando el valor

desde 0V.

Al establecer una tensin

V GS = 0V

los terminales de

fuente y puerta

estn al

mismo potencial, por tanto la zona de deplexin del lado de la fuente ser semejante a
la que se tena en condiciones de no polarizacin. En el instante en que se aplique una
tensin

VDS ,

los electrones se vern atrados hacia el lado del

una corriente
corrientes

ID

drenaje, establecindose

I D en el sentido mostrado en la Figura 3.5. Bajo estas condiciones las


e I S sern iguales y se vern nicamente limitadas por la resistencia

drenaje y la fuente. Es importante notar que


polarizadas en inversa, con lo cual la corriente a su

elctrica que presenta el canal entre el


ambas uniones p-n se encuentran
travs ser prcticamente nula.

Transistores FET

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Cuando se aplica una tensin

VDS ,

(por ejemplo, 2V en la Figura 3.5) esta se dis-

tribuir a lo largo del canal, que en un principio y para tensiones pequeas, se puede
suponer uniforme. De esta forma, si se presta atencin en la polarizacin inversa de
las uniones pn, se puede observar como stas estn ms inversamente polarizadas de
la zona del drenaje que de la zona de la fuente. Si se recuerda que la anchura de la
zona de carga de espacio en una unin pn polarizada en inversa es tanto mayor cuanto
mayor sea dicha polarizacin inversa, se tendr que la anchura de estas zonas deplexin
son tanto mayores cuanto ms cerca del

drenaje

se este ubicado, o lo que es lo mismo,

la anchura efectiva del canal ser menor en la parte del

fuente.

VDS

Para valores pequeos de la tensin

drenaje

que en la parte de la

aplicada, el estrechamiento del canal no

ser importante, por lo que el dispositivo se comporta, en esencia, como una

resistencia

de forma que la relacin entre la tensin aplicada y la corriente que circula por el
dispositivo ser lineal tal y como establece la Ley de Ohm. Sin embargo, a medida
que se aumenta la tensin aplicada, el estrechamiento del canal se va haciendo ms
importante, lo que lleva consigo un aumento de la resistencia y por tanto un menor
incremento en la corriente ante un mismo incremento de la tensin aplicada. (gura3.6)
Si se continua aumentando la tensin

VDS ,

el canal se estrecha cada vez ms, espe-

cialmente cerca de la zona del drenaje, hasta que ambas zonas de deplexin de tocan.
La tensin

VDSSAT

VDS

para la cual se produce el estrangulamiento del canal se denomina

(gura 3.6.b). Para tensiones

VDS

aplicadas superiores a este valor, la pen-

diente de la curva (I D vsVDS ) se satura, hacindose aproximadamente cero, mantenindose la corriente

ID

prcticamente constante a un valor denominado

I DSS

(Corriente

drenaje-fuente de saturacin) que es la mxima corriente que podemos tener para un


determinado JFET (caracterstico para cada JFET). (Figura 3.6.c).

Transistores FET

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Figura 3.6.

3.3.2. Inuencia de V GS .
VGS < 0V ,

Caracteristica

I D Vs V DS

para

Si se supone, en primer lugar

V GS = 0V

VDS = 0V ,

para valores de

las uniones pn estn polarizadas inversamente. Una polarizacin inversa de

dichas uniones incrementa el ancho de la zona de deplexin disminuyendo la anchura


efectiva del canal n. Por tanto la resistencia del canal aumenta, de manera que en la
zona de comportamiento hmico, es decir, para valores pequeos de la tensin
10

VDS ,

Transistores FET

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Figura 3.7.
aplicada donde la relacin
mas negativa sea

VGS .

La tensin

ID

(Figura

Por ltimo, para tensiones

V GS

modula la anchura del canal

VsVDS es lineal, la pendiente ser tanto menor cuanto

??).

V GS

sucientemente negativas, podra llegar a cerrarse

por completo el canal, aun cuando

V DS = 0V .

Esto sucede cuando la tensin

alcanza o disminuye por debajo del valor de tensin llamadoV GSOf f .

V GSOf f

V GS

es un valor

caracteristico de cada JFET, ya que indica el voltaje por debajo del cual (recordar que
se est hablando de valores negativos de tensin) el canal est completamente vaciado
no habiendo posibilidad de circulacin de corriente (I D
la corriente

VDS

= 0) por mucho que se aumente

(Salvo que dicha tensin sea lo sucientemente elevada para perforar

las uniones pn polarizadas en inversa.

3.4.

Ecuaciones caracteristicas del transistor JFET.

ID

(3.1)

V GS ,

Como ya se analiz ante-

V GSOf f , controla la cantidad


de corriente de drenaje (ID ). Para un JFET de canal n, el V GSOf f es negativo y para
uno de canal p, el V GSOf f es positivo. Como V GS controla a ID , la relacin entre estas
1
dos cantidades es muy importante. La ecuacin de Shockley dene la relacin entre ID
y V GS de la siguiente forma:
riormente, para un rango de valores

desde 0 hasta

2

V GS
= IDSS 1
V GSOF F

El trmino al cuadrado en la ecuacin (3.1) produce una relacin no lineal entre

V GS la cual genera una curva que


decreciente V GS . Un dato importante radica
entre

ID

crece exponencialmente con la magnitud


en el hecho de que las caracteristicas de

trasnferencia denidas por la ecucacin de Shockley no se ven afectadas por la red en la

1William

Bradford Shockley (1910-1989) coinventor del primer transistor y formulador de la teora


del Efecto de campo empleada en el desarrollo del transistor y el FET
11

Transistores FET

Figura 3.8.

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Obtencin de la curva de transferencia a partir de la carac-

teristicas de drenaje
cual se emplea el dispositivo. Tambin se puede tener esta ecuacin (3.1) de la siguiente
forma:

r
VGS = V GSOf f

(3.2)

ID
IDSS

3.4.1. Analisis (grco) de la ecuacin de Shockley.

Se puede obtener la curva de

transferencia a partir de la ecuacin de Shockley o a partir de las caracteristicas de


salida. En la gura 3.8 aparecen dos grcas, con la escala vertical en miliamperes en
cada una. Una de ellas es la grca

V DS .

ID

contre

V GS , en tanto que en la otra es ID

contra

Con las caractersticas de drenaje de la derecha del eje Y, se puede trazar una

lnea horizontal de la regin de saturacin de la curva denotadaV GS


El nivel de corriente resultante para ambas curvas es
la curva

V GS = 0

ID

IDSS .

=0

V al eje

ID .

El punto de interseccin en

contraV GS ser como se muestra, puesto que el eje vertical, se dene como

V.

3.4.2. Resistencia y capacitancia de entrada.

Un JFET opera con su unin compuerta-

fuente porlarizada en inversa. Por lo tanto, la resistencia de entrada en la compuerta


es muy alta. Esta resistencia de entrada elevada es una ventaja de los JFET sobre el
transistor bipolar (recordar que el BJT opera con la unin base-emisor polarizada en
directa). Las hojas de datos de los JFET especican frecuentemente la resistencia de
entrada dando un valor para la

corriente inversa de compuerta I GSS es un cierto voltaje

compuerta-fuente. Entonces, la resistencia de entrada puede determinarse usando la


siguiente ecuacin:
12

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RIN

(3.3)
La capacitancia de entrada

C iss



VGS

=
IGSS

de un JFET es considerablemente mas grande que la

de un transistor bipolar, pues el JFET opera con la unin pn polarizada en inversa.


Recordar que una unin pn polarizada en inversa funciona como un capacitor, cuya
capacitancia depende de la cantidad del voltaje inverso.

3.4.3. Resistencia drenaje-fuente.

Como se pudo ver en la curva del drenaje, arriba

de la regin de estrangulamiento, la corriente del drenaje es relativamente constante


dentro de un rango de voltajes drenaje-fuente. Por consiguiente, un cambio grande en

V DS

produce slo un cambio muy pequeo en

ID.

La razon de estos cambios es la

resistencia de drenaje-fuente del dispositivo (r ds ):

rds =

(3.4)

VDS
ID

En las hojas de datos especican frecuentemente a este parmetro como una conductancia de salida

g os

o como admitancia de salida

y os .

Los valores tpicos para

rds

son

del orden de varios millares de ohms.

4.

Transistor de efecto de campo de xido metlico (MOSFET)

El MOSFET es la segunda categora del transistor de efecto de campo. Diere del


JFET en que no tiene estructura de unin pn; en vez de ello, la compuerta del MOSFET
est

aislada

del canal mediante una capa de bixido de silicio

(SiO2 ).

Entre ellos, se

pueden distinguir dos grandes grupos:


MOSFET de
MOSFET de
Los terminos

deplexin o de empobrecimiento
acumulacin o de enriquecimiento

enriquecimiento y empobrecimiento
5.

denen su modo de operacin.

MOSFET tipo empobrecimiento

En la presente parte, se ver que las caractersticas de este modelo son bastante
similares a las de un JFET entre las condiciones de corte y saturacin con

IDSS

adicionalmente tiene las tiene las caractersticas que se extienden hasta la regipon de
polaridad opuesta de

V GS .

Ellos a su vez se subdividen en:


MOSFET de deplexin de canal p
MOSFET de deplexin de canal n
13

Transistores FET

Figura 5.1.

5.1.

Facultad de Ingeniera UC

MOSFET tipo empobrecimiento de canal n

Estructura de fabricacin del MOSFET tipo empobrecimiento.

truccin bsica del MOSFET tipo empobrecimiento de

canal n

de puede apreciar en la

gura 5.1. Se forma una placa de material tipo p a partir de base de


como

La cons-

silicio

y se conoce

sustrato. Es la base sobre la cual se construye el dispositivo. En algunos casos, el

sustrato se conecta internamente a la terminal de fuente. Sin embargo, muchos dispositivos individuales cuentan con una terminal adicional etiquetada SS, lo que produce un
dispositivo de 4 terminales como se muestra en la gura MOSFET tipo empobrecimiento de canal n. La fuente y el drenaje estan conectados mediante contactos metalicos
a regiones tipo n dopadas vinculadas a un canal n como se muestra en la imagen 5.1.
Tambin la compuerta esta conectada a una supercie de contacto metlica aunque
permanece aislada del canal n por una capa de bioxido de silicio (SiO2 ) muy delgada.

SiO2 sea una capa aislante es que no hay una conexin


electrica entre la terminal de compuerta y el canal de un MOSFET.
Ademas la capa aislante de SiO2 en la construccin de un MOSFET es la responsable
de la muy deseable alta impedancia de entrada del dispositivo.
La razn de que la capa de

Por lo general, la resistencia de entrada de un MOSFET es mucho mayor que la de


un JFET tpico, aun cuando la impedancia de entrada de la mayora de los JFET es
sucientemente alta en la mayora de las aplicaciones. A causa de la alta impedancia
de entrada, en esencia la corriente de compuerta (IG ) es de 0 A para conguraciones
polarizadas en cd.
En el caso de un MOSFET tipo empobrecimiento canal p es exactamente a la inversa
de la que aparece en la gura 5.1. Es decir, ahora el sustrato es tipo n y el canal es tipo
p como se muestra a continuacin en la gura 5.2
14

Transistores FET

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Figura 5.2.

5.2.

MOSFET de empobrecimiento canal p

Simbolo circuital del MOSFET tipo empobrecimiento.

En la gura 5.3

se puede apreciar el simbolo circuital del MOSFET de deplexin de canal n. Se proporcionan dos simbolos para reejar el hecho de que en algunos casos el sustrato esta
disponible de manera externa, en tanto que otros no. En la gura 5.4 se muestra el
simbolo circuital del MOSFET de deplexin de canal p.

Figura 5.3.

Simbolo circuital para el MOSFET tipo empobrecimiento

canal n

Figura 5.4.

Simbolo circuital para el MOSFET tipo empobrecimiento

canal p
15

Transistores FET

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Figura 5.5.

Polarizacin del MOSFET de deplexin

Para el funcionamiento ms habitual, los transistores MOSFET tipo empobrecimiento


se polarizan tal y como aparece en la Figura 5.5.
Los transistores MOSFET de deplexin de canal n se polarizan aplicando una tensin
positiva entre drenador y fuente (V DS ) y una tensin entre puerta y fuente (V GS ) que
puede ser negativa o positiva, segn se ver al analizar el funcionamiento del dispositivo.
De esta forma, la corriente circular en el sentido de drenaje a fuente. En el caso del
MOSFET de acumulacin de canal p, la tensin
tensin

V GS

V DS

a aplicar debe ser negativa y la

positiva o negativa, de esta forma la corriente uir en el sentido de la

fuente hacia el drenaje.

Figura 5.6.

5.3.

Funcionamiento del MOSFET de deplexin canal n

Principio de funcionamiento del MOSFET de empobrecimiento.

este caso, si se aplica una tensin

V GS

En

> 0 (ver gura 5.6), se atraern ms electrones

hacia la zona de la puerta y se repelern ms huecos de dicha zona, por lo que el canal
se ensanchar. Si por el contrario damos valores

V GS

< 0 el efecto ser el contrario,

disminuyndose la anchura del canal (Figura 5.7). En denitiva, se vuelve a tener de


nuevo un efecto de modulacin de la anchura de un canal en funcin de una tensin
16

Transistores FET
aplicada

V GS .

Facultad de Ingeniera UC

Sin embargo, si se sigue disminuyendo el valor de

V GS

podr llegar

un momento en que el canal desaparezca por completo, esto suceder cuando

V GSOf f .
V DS tendramos

disminuya por debajo de un valor

En cuanto al efecto de la tensin

V GS

exactamente lo mismo que en los

dos casos analizados anteriormente.

Figura 5.7.

Reduccin de los portadores libres en un canal debido a un

potencial negativo en la terminal de compuerta.

6.

MOSFET de acumulacin

Ellos a su vez se subdividen en:


MOSFET de acumulacin de canal p
MOSFET de acumulacin de canal n

6.1.

Estructura de fabricacin del MOSFET de acumulacin.

Como se pue-

de ver en la Figura 6.1 en la que aparece representada la estructura bsica para un


MOSFET de canal n, se parte de una zona de material semiconductor tipo p de silicio
y de nuevo se conoce como sustrato. Como con el MOSFET tipo empobrecimiento,
el sustrato en ocasiones se conecta internamente a la terminal fuente La fuente y el
drenador se conectan de nuevo mediante contactos metlicos a regiones tipo n dopadas,
pero observe que en la gura no existe un canal entre las dos regiones tipo

dopadas.

Esta es la principal diferencia entre la construccin de los MOSFET tipo empobrecimiento y los tipo enriquecimiento:

del dispositivo.

La capa de

SiO2

la ausencia de un canal como componente construido

sigue presente para aislar la plataforma metlica de

la compuerta de la regin entre el drenador y la fuente pero, ahora, simplemente est


separada de una seccin del material tipo p.
17

Transistores FET

Figura 6.2.

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Smbolos de (a) y (b) MOSFET tipo enriquecimiento de

canal n y (c) y (d) MOSFET tipo enriquecimiento de canal p

Figura 6.1.

6.2.

MOSFET tipo enriquecimiento de canal n

Smbolo circuital del MOSFET tipo enriquecimiento.

Los smbolos gr-

cos de los MOSFET tipo enriquecimiento de canales n y p se dan en la gura 6.2


La linea punteada entre el drenador (D) y la fuente (S) se selecciona para reejar el
hecho de que no existe un canal entre los dos en condiciones sin polarizacion, la cual
es la nica diferencia entre los smbolos para los MOSFET tipo enriquecimiento y tipo
empobrecimiento.
Para el funcionamiento ms habitual, los MOSFET de acumulacin deben polarizarce
de la siguiente manera: (Figura 6.3). Los transistores MOSFET de acumulacin de
canal n se polarizan aplicando una tensin positiva entre drenador y fuente (V DS ) y
una tensin positiva entre puerta y fuente (V GS ). De esta forma, la corriente circular
18

Transistores FET

Facultad de Ingeniera UC

Figura 6.4.

Efecto de

V GS

; a)

V GS = 0V

b)

V GS >0V.

en el sentido de drenador a fuente. En el caso del MOSFET de acumulacin de canal p


la tensin

V DS

a aplicar debe ser negativa y la tensin

V GS

negativa, de esta forma la

corriente uir en el sentido de la fuente hacia el drenaje.

Figura 6.3.

6.3.

Polarizacin del MOSFET de acumulacin

Principio de funcionamiento del MOSFET de enriquecimiento.

6.3.1. Inuencia de V GS .

En primer lugar, si aplicamos una tensinV GS

gura 6.4.a) aunque se aplique una tensin

V DS

= 0V ,

(Fi-

no circular corriente alguna por el

dispositivo, ya que la unin de drenaje est polarizada en inversa.


Sin embargo, cuando

V GS

>0V aparece un campo elctrico que lleva a los electrones

hacia la zona de la puerta y aleja de dicha zona a los huecos, no pudindose establecer
una corriente por estar la puerta aislada. Para valores pequeos de esta tensin

V GS

aplicada se crear una zona de carga de espacio (sin portadores), sin embargo, si se
sigue aumentando el valor de esta tensin, la acumulacin de electrones se har lo
sucientemente importante como para decir que tenemos una zona n, es decir, se formar
un canal de tipo n que unir los terminales de drenador y fuente (Figura 6.4.b).
19

Transistores FET

Facultad de Ingeniera UC

Figura 6.5.

Efecto

De esta forma, cuanto mayor sea la tensin

V GS

V GS
aplicada mayor ser la anchura del

canal formado, es decir, de nuevo se tiene un efecto de modulacin de anchura del canal
con la tensin

V GS .

Por otra parte, se puede apreciar que en este dispositivo se produce un efecto de
variacin de una carga almacenada con una tensin aplicada. Este es precisamente el
efecto que se produce en un condensador. De esta forma, se puede ver que, de alguna
manera, este dispositivo puede comportarse como un condensador.
Si se observa la gura 6.5, se pueude apreciar que el voltaje

V GS

modla el ancho

del canal, pero no basta con que esa tensin sea solo positiva sino que deber superar
un determinado nivel de tensin

6.3.2. Inuencia del voltaje V DS .

Si una vez que se ha formado el canal, se aplica una

tensin positiva, por el canal circular una corriente

ID

en el sentido del drenador hacia

la fuente. Si ahora se presta atencin en la relacin de tensiones


ser

V DS

> 0 se tiene que

V GD

<

V GS

V DS = VGS VGD ,

al

, por lo tanto la anchura del canal ser menor

del lado del drenador. (Figura 6.6)

Figura 6.6.

Efecto de la tensinV DS . El canal se estrecha ms en la

zona del drenador.


De nuevo el comportamiento es el mismo que se ha visto anteriormente para el JFET.
Para valores de tensin

V DS

pequeos, el estrechamiento del canal no ser importante,


20

Transistores FET

Figura 6.7.

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Caracterstica

ID

V DS

para una valor de

V GS

constante.

por lo que la relacin entre la tensin aplicada y la corriente que circula ser lineal tal
y como establece la Ley de Ohm. A medida que el valor de

V DS

aumente, el estre-

chamiento comenzar a ser importante, variando la resistencia que presenta el canal y


perdiendo la linealidad de la caracterstica. Hasta que la tensin

V DS

alcance el valor

V DSsat , momento en el cual el canal se habr cerrado por completo. A partir de este
V DS , por encima de este valor V DSsat , la
corriente I D se mantiene constante. (Figura 6.7)
Para niveles de V GS > VT , la corriente de drenaje est relacionada con el voltaje de
de

instante, si seguimos aumentando la tensin

la compuerta a la fuente aplicado por la siguiente relacion no lineal:

(6.1)

ID = k (VGS VT )2

Sabiendo ademas que


(6.2)

VDSsat = VGS VT
21

Transistores FET

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El trmino no lineal al cuadrado es el que produce la relacin no lineal (curva) nentre

ID

V GS .

El trmino k es una constante que es una funcin de la construcin del

dispositivo. El valor de k se determina a partir de la siguiente ecuacin (proveniente


de la ecuacn 3.1), donde

ID(encendido)

VG(encencdido). son

los valores de cada uno en un

punto particular de las caractersticas del dispositivo:

k=

(6.3)

7.

7.1.

En el JFET.

ID(encendido)
(VG(encencdido). VT

Regiones de operacin

Regin de trodo: Es tambin conocida como zona hmica; En esta

regin el JFET se comporta como una resistencia lineal cuyo valor se controla mediante
el voltaje entre compuerta y fuente
valores muy pequeos de
para valores de

V DS

V DS

V GS .

Esta resistencia solamente ser lineal para

en DC o con seales de muy baja frecuencia. Se da

inferiores al de saturacin, es decir, cuando

V DS V GS V GSof f .

(Figura 7.1)

Figura 7.1.
La relacin

I D VDS

Curva caracterstica

V DS

contra

ID

en la regin de trodo es parablica, y se describe mediante la

siguiente ecuacin:

" 


2 #
VGS
VDS
VDS
I D = IDSS 2 1

V P (VP )
VP

(7.1)

En donde

VP

IDSS

son parmetros del JFET cuyos valores por lo general aparecen

en las caractersticas tcnicas del dispositivo. Para los JFET de canal  n


nmero negativo. Ya que

V GS

VP

es un

es siempre negativo, la unin entre compuerta y canal se

mantiene siempre con polarizacin inversa. Esto da como resultado que la corriente de
la compuerta tienda a cero.
La resistencia lineal equivalente del JFET viene dada por la expresin (Figura 7.2):
22

Transistores FET

Figura 7.2.

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Para

tencia variable con

V DS
V GS

<

V DSsat

(7.2)

rDS

el JFET se comporta como una resis-

2IDSS
=
VP


1
VGS
1
VP

Para operar dentro de la regin de trodo, el voltaje de drenaje a compuerta debe ser
menor que:

V DG < VP

(7.3)

Regin de estriccin:

Esta regin comprende estados denominados saturacin (Ocurre

cuando el voltaje drenaje-surtidos es menor al voltaje drena-surtidos de saturacin) y


ruptura (Ocurre cuando la tensin inversa es mayor a la tensin de ruptura que nos
ofrece el fabricante, generando as que el dispositivo quede inoperativo); En la regin
de estriccin, las caractersticas de

I D VDS

son (idealmente) lneas rectas horizontales

cuyos mximos se determinan mediante el valor de

V GS .

Se deduce que en estriccin, el JFET opera como una fuente de corriente constante
con el valor de la corriente controlada mediante

V GS , esto ocurre debido al achicamiento

de la regin por la cual circula la corriente debido al aumento del campo elctrico dentro
del transistor, originado por el incremento de la diferencia de potencial entre los puertos
de drenaje y compuerta; adems esta fuente de corriente constante presenta idealmente
una resistencia innita. Tambin, la impedancia de entrada a esta fuente controlada
(observando entre las terminales de control G y S) es idealmente innita. La relacin
de control se obtiene aproximadamente por la ley cuadrtica (Ver ecuacin 3.1).
23

Transistores FET

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Figura 7.3.
valores de

Zona de ruptura. Las lneas correspondientes a los distintos

V GS

se cruzan

La regin de estriccin es til para aplicaciones que comprendan el uso del JFET
como un amplicador. Por esta razn a la regin de estriccin se le llama tambin la
regin activa.
Para operar dentro de la regin de estriccin, el voltaje de drenaje a compuerta debe
ser mayor que

V P :
V DG > VP

(7.4)
Curvas caractersticas

Figura 7.4.

7.2.

Caractersticas ideales de un JFET de canal n.

En transistor MOSFET:.

7.2.1. MOSFET de acumulacin:


Regin hmica
24

Transistores FET

Figura 7.5.

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Caractersticas ideales de un MOSFET de acumulacin ca-

nal n

Figura 7.6.

Para

V DS < V DSSAT
V GS

el MOSFET se comporta como una

resistencia variable con

Se da para valores de

V T,

V DS ,

inferiores al de saturacin, es decir, cuando

V DS V GS -

Para estos valores de tensin el canal se va estrechando de la parte del drenador,

principalmente, hasta llegar al estrangulamiento completo para

V DSSAT .

En esta zona

el transistor se comporta aproximadamente como una resistencia variable controlada


por la tensin de puerta, sobre todo para valores pequeos de
que nos aproximamos al valor de

V DSSAT ,

y para cada valor de

V DS , ya que a medida
V GS se va perdiendo la

linealidad debido al estrechamiento del canal que se aproxima al cierre.


25

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Figura 7.7.

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Para

V DS

>

V DSSAT

el MOSFET se comporta como una

fuente de corriente controlada con la tensin

V GS .

Regin de saturacin:

V DS
de V DS

V DSSAT .

Esta zona se da para valores

>

Ahora la corriente

riante frente a los cambios

y slo depende de la tensin

ID

V GS

permanece invaaplicada. En esta

zona el transistor se comporta como una fuente de corriente controlada por la tensin
de puerta

V GS .

La relacin entre la tensin

V GS

aplicada y la corriente

ID

que circula

por el canal en esta zona viene dada por la ecuacin 6.1

7.2.2. MOSFET de deplexion.

Posee los mismos estados y condiciones de funciona-

miento que el MOSFET de acumulacin, su curva caracterstica es la siguiente:

Figura 7.8.

Caractersticas ideales de un MOSFET de deplexin canal n


26

Transistores FET

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En cualquier caso el funcionamiento del transistor debe estar siempre dentro de la


zona marcada por las caractersticas propias del transistor. Es decir no se deben superar
los lmites de

I DM AX

, ni de

V DSSAT

Figura 7.9.
8.

ni por supuesto la curva de la potencia mxima.

Lmites de funcionamiento

Modelo hibrido de pequea seal a frecuencias intermedias del


FET

Las frecuencias intermedias son conjunto de frecuencias de la seal de entrada cuya


longitud de onda es mucho ms pequea que las dimensiones del circuito sin tener en
cuenta las componentes de continua. Cuando una seal vara en el tiempo de forma tal
que sus componentes son de frecuencias intermedias, se dice que es una seal alterna.
El modelo de pequea seal a frecuencias intermedias del FET viene dada por una red
de dos puertas, el cual viene representado por modelos hbridos

Figura 8.1.

Modelo de pequea seal a frecuencias intermedias del FET

Se puede observar que la corriente de puerta es cero, y de salida viene dada por:

(8.1)

ID = gd vDS + gm vGS

Donde gm es la transconductancia y gd es la conductancia de salida


27

Transistores FET

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9.

Aplicaciones los FETS

Los FET se utilizan como interruptores tanto en circuitos digitales como analgicos. Las caractersticas no ideales de los dispositivos tienen especial inuencia
en aplicaciones como interruptor analgico y merecen un anlisis especco.
Circuito generador de diente sierra:

Figura 9.1.

Circuito generador de diente de sierra

Circuito recortador o modulador: El amplicador A es bsicamente un amplicador diferencial no inversor utilizado con dos propsitos: aislar la seal de entrada y
mejorar la precisin. La seal de control (vg) es una onda cuadrada entre (-VDD)
y (+VDD) que habilita o no la conduccin de Q1, cuando conduce se produce el
muestreo de la seal de entrada cargando al capacitor a ese valor, si est cortado
el capacitor retiene su carga y mantiene la tensin de salida en el valor deseado.
El circuito seguidor de salida asla al capacitor evitando su descarga y mejorando
el mantenimiento de la tensin de salida.

Figura 9.2.

Modelo de un circuito recortador o modulador


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Circuitos digitales: Los circuitos digitales que se realizan utilizando transistores


MOS de canal N se identican como lgica N-MOS; lo que utiliza transistores
P como lgica P-MOS. Si bien originalmente fueron ms usados los dispositivos
de canal P, actualmente los N-MOS son preferidos, pues producen circuitos ms
rpidos y que ocupan menor rea de silicio. Son utilizados en circuitos integrados
de alta escala de integracin como memorias y microprocesadores pero no resultan
apropiados para circuitos de propsitos generales, en esos casos son reemplazados
por circuitos de tecnologa CMOS.

Figura 9.3.

Modelo de un circuito digital

Mientras vi se mantiene en 0 V (nivel bajo) el transistor Q1 no conduce y la salida


permanece en un nivel alto prximo a VDD (VDD-VT2). Cuando vi conmuta a VDD
el transistor Q1 entra en conduccin y la salida conmuta a un nivel mnimo que depende de la relacin entre las resistencias de conduccin de Q1 y Q2 Para un buen
funcionamiento ese nivel debe ser inferior a VT. La salida (vo) ser una onda cuadrada
de VMN a (VDD-VT2) desfasada ciento ochenta grados respecto a la entrada.

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