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el diamante. Sobre el sustrato de cristal, se contaminan en forma muy controlada tres zonas,
dos de las cuales son del mismo tipo, NPN o PNP, quedando formadas dos uniones NP.
La zona N con elementos donantes de electrones (cargas negativas) y la zona P de
aceptadores o huecos (cargas positivas). Normalmente se utilizan como elementos
aceptadores P al Indio(In), Aluminio (Al) o Galio (Ga) y donantes N al Arsnico (As)
o Fsforo (P).
La configuracin de uniones PN, dan como resultado transistores PNP o NPN, donde la letra
intermedia siempre corresponde a la caracterstica de la base, y las otras dos al emisor y al
colector que, si bien son del mismo tipo y de signo contrario a la base, tienen diferente
contaminacin entre ellas (por lo general, el emisor est mucho ms contaminado que el
colector).
El mecanismo que representa el comportamiento semiconductor depender de dichas
contaminaciones, de la geometra asociada y del tipo de tecnologa de contaminacin (difusin
gaseosa, epitaxial, etc.) y del comportamiento cuntico de la unin.
Transistor de efecto de campo de unin, JFET, construido mediante una unin PN.
Transistor de efecto de campo MOS, MOSFET, donde MOS significa Metal-xidoSemiconductor, en este caso la compuerta es metlica y est separada del canal
semiconductor por una capa de xido.
Fototransistor
Los fototransistores son sensibles a la radiacin electromagntica en frecuencias cercanas a la
de la luz visible; debido a esto su flujo de corriente puede ser regulado por medio de la luz
incidente. Un fototransistor es, en esencia, lo mismo que un transistor normal, slo que puede
trabajar de 2 maneras diferentes:
Como fototransistor, cuando la luz que incide en este elemento hace las veces de
corriente de base. (IP) (modo de iluminacin).
2. Fabricacin de transistores
En la fabricacin de transistores, la tcnica planar (su nombre se debe
a que todas las
operaciones tienen lugar sobre el mismo plano del cristal que sirve de
soporte), se
basa en la utilizacin de una plaquita de silicio, tipo P o N, que
constituir el colector.
El proceso ser tal y como sigue:
- Por uno de los lados de la plaquita se deposita una capa de xido de
silicio,
practicndose mediante tcnicas fotoqumicas una abertura o
ventana.
- A travs de la abertura practicada, se difunde el material donador o
aceptor,
formndose la base del transistor.
- A continuacin, se procede a una nueva deposicin de xido de
silicio, sobre la
cual, mediante la misma tcnica (tcnica fotoqumica), se practica
una ventana menor
que la anterior, en la cual se difundir el emisor.
La fabricacin del BJT indicada en la figura 3.1 casi siempre se modifica aadiendo un
nuevo paso al proceso como en la figura 3.2. Las dos regiones n+ conocidas como capa
enterrada, entre las capas n y p se depositan antes del crecimiento epitaxial. Recurdese
que con el smbolo n+ se designa una regin n con mayor concentracin de dopado que
otra designada simplemente como de tipo n. La utilizacin de las regiones n+ cumple dos
funciones: (1) mejora la formacin de la capa epitaxial; (2) la mayor densidad de
electrones en la capa n+ reduce la resistencia en serie entre la unin de colector y el
terminal del propio colector.
3.3- Fabricacin del TR pnp
Las resistencias de colector se logran utilizando un par de transistores pnp en
configuracin de fuente de corriente. Las dos clases de tales transistores mas
corrientemente empleados son el pnp lateral y el pnp vertical. En la figura 3.2 puede
apreciarse que la base, el colector y la regin aislada forman un transistor pnp parsito.
El termino lateral se refiere al hecho de que los tres elementos estn ubicados en un
plano horizontal contrariamente al plano vertical de los transistores npn. Anlogamente
un dispositivo pnp vertical parsito se forma por la base y el colector del transistor npn
y el sustrato del tipo p. Estas observaciones conducen a la fabricacin de los tipos de
transistores pnp empleados en circuitos integrados. El pnp lateral, cuya seccin
transversal es el de la figura 3.3 se forma implantando las regiones tipo p de emisor y de
colector al mismo tiempo que se fabrican las bases de dispositivos npn. Asimismo se
forman simultneamente el contacto n+ de base del transistor pnp y los emisores n+ del
BJT npn. As vemos que tanto los transistores npn como los pnp se fabrican segn las
mismas secuencias del proceso. Todo lo que se necesitan para el pnp son ventanas
adicionales en las mascaras. El transistor lateral pnp tiene un valor de F
considerablemente menor que el del npn. Esto es debido a que el emisor de tipo p no
puede inyectar portadores minoritarios en la base tipo n con la misma eficacia que lo
hace el emisor tipo n+ en la base tipo p de un BJT npn. Adems la mayor rea de la base
y el hecho de que algunos de los huecos inyectados migren hacia el sustrato hace que
disminuya el numero de huecos que llegan al colector. Por tanto los transistores pnp
laterales se emplean en circuitos con poca corriente de colector. El transistor pnp
vertical se emplea donde se requieran mayores corrientes y potencias. En la figura 3.4
esta representado este dispositivo y en ella se ve que tambin puede fabricarse
simultneamente y con los mismos procesos empleados para los transistores npn. Los
dos pasos simultneos son: (1) la fabricacin de las regiones p de emisor del transistor
pnp y las bases de los npn. y (2) la fabricacin de la regin n+ de base del sustrato pnp y
los emisores de los transistores npn.
El sustrato debe conectarse a la tensin ms negativa del circuito. Por tanto un transistor
pnp vertical solo se puede utilizar si su colector esta a una tensin negativa fijada. A esta
configuracin se le denomina seguidor de emisor y ser comentada mas adelante.
3.3.1- Transistor Parsito
Cuando se usa el transistor bsico como diodo aparece un transistor parsito cuyo
colector es el sustrato, la capa epitaxial es la base y la base tipo p es el emisor. En la
figura 3.5(a) se muestra el circuito equivalente de este transistor parsito. Aunque su
estructura hace que sea un dispositivo muy ineficaz.
Fabricacin de Transistores
Existe una variante para seales dbiles que son las de aleacin difusa.
Estos son bsicamente iguales a los de aleacin, pero haciendo que el
emisor forme en una aleacin de In como Ge tipo N fuertemente
dopado como muestra la figura de la izquierda. Esto es debido a que
APLICACIONES
2. AMPLIFICADORES MULTI-ETAPAS
En muchos casos, no es suficiente un solo circuito amplificador para un
requerimiento de tensin, corriente y potencia pedido, y por lo tanto, se hace
necesario colocar varios amplificadores en cascada. Esto es, que la salida de un
amplificador sirve para excitar al siguiente.
3 AMPLIFICADORES DE POTENCIA
En un sistema de amplificacin que entrega una cantidad considerable de
potencia, las ganancias de voltaje y corriente son importantes en el sistema pre
amplificador. En la etapa de salida se necesita una buena ganancia en Potencia.
4. AMPLIFICADORES DE VIDEO
El amplificador de acople RC tiene un ancho de banda aceptable. Sin embargo, el
desarrollo de algunos campos de la electrnica tales como sistemas de radar, y
televisin involucran la necesidad de amplificadores con ganancia relativamente
constante hasta algunos megaciclos.
5. AMPLIFICADORES SINTONIZADOS
En muchas aplicaciones, tales como receptores, transmisores, etc, se emplean
amplificadores de banda estrecha que utilizan circuitos resonantes. Tales
amplificadores se denominan amplificadores sintonizados.