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PROFESOR GUA:
Dr. LUIS CIFUENTES SEVES
MIEMBROS DE LA COMISIN:
Dr. MANFREDO FIGUEROA JIMNEZ
Dr. GERARDO CIFUENTES MOLINA
Dr. RODRIGO PALMA HILLERNS
Dr. RAL QUIJADA ABARCA
SANTIAGO DE CHILE
DICIEMBRE 2007
RESUMEN
En este trabajo se propuso el diseo y desarrollo experimental de
una nueva celda de electro obtencin (EO) de cobre basada en electro
dilisis reactiva (EDR) a escala laboratorio, que pueda superar las
limitaciones de la tecnologa convencional de EO: alto consumo especfico
de energa (kWh/kg), pequea rea superficial especfica del ctodo (m2/kg)
y una baja capacidad de transferencia de masa a la superficie catdica.
Se estudiaron celdas de dos y tres compartimientos para la EO de Cu
basada en EDR. Se utiliz, como ctodos, mallas de cobre y como nodos,
barras de grafito. El catolito empleado fue sulfato cprico y el anolito sulfato
ferroso, ambos disueltos en cido sulfrico. Se determinaron los efectos de
la densidad de corriente, la temperatura, la recirculacin del electrlito y el
caudal de burbujeo de nitrgeno sobre el funcionamiento de la celda
(eficiencia de la corriente catdica, tensin de celda y consumo especfico de
energa). El diseo de tres compartimientos mejor la distribucin de la
deposicin. A esta celda se aadieron impurezas propias de la electro
obtencin industrial: Fe+2, Fe+3, Cl-, Mn+2 y el aditivo guar.
La caracterizacin fsico qumica de los electro depsitos fue realizada
mediante microscopa ptica, microscopa electrnica de barrido (SEM),
microsonda (EDS), microscopa de fuerza atmica (AFM) e ICP-masas.
El nuevo diseo de celda EO-EDR propuesto con un ctodo de malla,
una reaccin andica alternativa y agitacin por medio de burbujeo de
nitrgeno mejora los parmetros energticos, logrando reducir el gasto
energtico en un 30% en comparacin a una celda de EO de Cu de diseo
convencional a escala laboratorio (cerca de 2 kWh/kg y 350 A/m2). Todos
los depsitos obtenidos en la celda de tres compartimientos optimizada
presentan buena coherencia con el sustrato, son densos y no tienen poros.
Los anlisis microscpicos indican que todas y cada una de las impurezas
generan diferentes morfologas y tamaos en el crecimiento cristalino. Los
depsitos obtenidos a partir de la solucin con todas las impurezas ms el
guar y de la solucin con el manganeso, exhibieron superficies mas lisas,
mientras que otros depsitos demostraron mayores grados de aspereza, con
superficies que contienen ndulos, ramificaciones y lminas.
Se realizaron simulaciones computacionales para estudiar el
efecto de la agitacin por burbujeo de nitrgeno sobre la tensin de celda.
Las ecuaciones implementadas fueron la de momentum adimensional
(Navier-Stokes) y la de balance de masa. Se estudi los perfiles de campo
de velocidades, de vorticidad y del nmero de Re en funcin de la altura de
la celda y a lo largo del borde del electrodo. Puesto que la vorticidad
representa una medida de cmo el movimiento del lquido se desarrolla en
cercanas de superficies slidas, esta variable se correlacion con la fuerza
de roce. Finalmente, los parmetros hidrodinmicos simulados se
correlacionaron con los valores experimentales de tensin de celda, dando
un error de 2.5%.
SUMMARY
In this work was proposed a new design and development of a labscale copper electro winning (EW) cell based on reactive electrodialysis
(RED), which can solve the main limitations of the conventional technology of
EW: low mass transfer rates due to a low electrolyte flow rate, low specific
surface area (m2/kg) of cathodes, high energy requirements.
The aim of the present work explores another way to solve this problem
which considers the utilization of a RED cell. Particularly, two- and threecompartments were assessed. The catholyte and anolyte were synthetic
solutions prepared from cupric sulphate and ferrous sulphate, respectively,
dissolved in sulphuric acid. The cathode was made of 99.99% copper mesh.
The effect of current density, aqueous solution temperature, electrolyte
recirculation and nitrogen bubbling on cell performance, were studied.
The cell performance was characterized in terms of cathodic current
efficiency, overall cell voltage and specific energy consumption (SEC). It was
found that the overall cell voltage increases with cell current and decreases
with both temperature and nitrogen flow rate. The SEC values ranged
between 0.94 to 1.39 kWh/kg in the current density range 200-600 A/m2.
Those values are considerably improved in comparison with those obtained
using a conventional copper EW cell (2 kWh/kg at 350 A/m2).
Physicochemical characterization of copper electrodeposits obtained
in mesh electrodes was carried out. Specifically, the effect of Fe, Mn, Cl and
guar on electrodeposition composition and morphology was evaluated.
Several laboratory analysis techniques such as scanning electron
microscope (SEM), atomic force microscopy (AFM) and inductively coupled
plasma mass spectroscopy (ICP-MS) were used. It was observed that each
impurity affected the deposit differently producing changes in grain size and
surface roughness. AFM technique was proved to be very effective to
quantify and classify the surface quality.
The nitrogen bubbling was thoroughly studied by using computational
fluid dynamics simulations. The simulations performed involved the resolution
of Navier-Stokes equation coupled to the mass balance equation. Velocity
field, vorticity and local Re number profiles were studied as function of the
cell height. Also, similar profiles were computed at the electrode boundary.
Since vorticity represents a measure of how the movement of liquid near
solid surfaces is developed, this variable was correlated with the friction
force. Finally, the simulated friction force was correlated with the cell voltage
experimental values. The best correlation between voltage cell and
hydrodynamic parameters of the cell gave 2.5% error.
ii
iii
SE AGRADECE
Al Proyecto red Mecesup de materiales UCH0205
por el apoyo financiero
A la Universidad de Chile Departamento de Postgrado
beca parcial de trmino de tesis 2006
iv
AGRADECIMENTOS
En primer lugar quiero agradecer al Dr Luis Cifuentes, Director de mi tesis
doctoral, por la oportunidad de realizar esta tesis, as como la ayuda que
siempre me brind.
De forma especial a los miembros de mi comisin Dr Rodrigo Palma, Dr
Gerardo Cifuentes, Dr Raul Quijada y Dr Manfredo Figueroa por la
resolucin de dudas surgidas durante la revisin de mi tesis. Agradezco a
todos por sus acertados consejos y especial inters.
En el laboratorio de Electrometalurgia, mucha es la ayuda que recib, y por
eso mi sincera gratitud a Gloria Crisstomo por toda la colaboracin
prestada en innumerables ocasiones.
Mencin especial al Dr Gonzalo Montes por la ayuda prestada en el captulo
de simulacin, por todas las ideas y posibles soluciones.
Tuve la suerte de contar durante mi estada en Argentina con los valiosos
consejos del Dr Roberto Salvarezza y Dra Patricia Schilardi, para ellos
tambin va mi agradecimiento; y no podra olvidarme de Patricio Dip por toda
la ayuda prestada durante las mediciones de AFM.
Con toda seguridad durante estos largos aos de realizacin de mi tesis,
conoc muchas personas que igual me aportaron con ideas y consejos. Sera
imposible poder nombrarlos a todos ellos, pero sin duda alguna mi ms
sincera gratitud por ese desprendimiento
y ganas de transmitir
conocimiento.
Muchas Gracias!!
CONTENIDOS
RESUMEN
SUMMARY
II
NOTACIN
XV
1. INTRODUCCIN
1.1 Antecedentes
1.2 Objetivos
5
5
2. REVISIN BIBLIOGRFICA
6
10
12
14
15
15
15
16
17
17
19
20
2.4 Membranas
22
26
28
28
30
vi
2.6.1.2 Crecimiento
2.6.1.3 Inhibicin
2.6.1.4 Aditivos en la electro obtencin de cobre
2.6.2 Criterios de clasificacin de los electro depsitos
2.6.2.1 Morfologas de Fischer
2.6.2.2 Diagrama de Winand y cuantificacin de la morfologa
2.6.3 Influencia de la temperatura sobre la electro cristalizacin
34
35
37
39
40
42
46
47
48
50
51
52
54
54
55
3. PROCEDIMIENTO EXPERIMENTAL
57
57
57
58
58
59
59
60
60
60
62
63
64
64
3.3.1 Electrlitos
3.3.2 Electrodos utilizados
3.3.3 Barrido potenciodinmico
64
65
65
vii
66
66
67
68
68
69
69
70
71
73
76
4. RESULTADOS Y DISCUSIN
78
78
78
79
80
81
81
84
85
86
86
89
97
97
99
92
94
95
viii
104
109
116
122
124
124
127
130
130
133
5. CONCLUSIONES
137
6. REFERENCIAS BIBLIOGRFICAS
142
ANEXOS
150
ix
NDICE DE FIGURAS
Figura 1.
Figura 2.
11
14
16
Figura 5.
17
Figura 6.
18
Figura 7.
18
Figura 8.
21
electrometalrgica
Figura 9.
23
Figura 10.
24
aninica
Figura 11.
27
Defectos superficiales
29
Figura 13.
30
sobre un substrato
Figura 14.
31
Figura 15.
34
nmero de coordinacin m
Figura 16.
36
Figura 17.
Morfologas de Fischer
41
Figura 18.
43
49
Figura 20.
49
electrodo de la figura19
Figura 21.
57
Figura 22.
58
de grafito
Figura 23.
61
71
Figura 25.
Sistema a simular
72
Figura 26.
74
Figura 27.
78
82
83
86
87
87
93
93
94
98
99
impurezas
xi
Figura 38.
105
106
el diagrama de Winand
Figura 40.
109
Figura 41.
110
Figura 42.
111
2+
x750
112
113
Figura 45.
113
Figura 46.
114
Figura 47.
114
anlisis EDS
Figura 48.
115
Figura 49.
115
117
Mn y Cl
Figura 51.
118
Fe, Mn y Cl
Figura 52.
119
Figura 53
119
Figura 54.
120
121
124
125
126
xii
Figura 59.
128
de nitrgeno
Figura 60.
129
131
Figura 62.
132
133
134
135
xiii
NDICE DE TABLAS
TABLA 1:
60
compartimientos
TABLA 2:
63
compartimientos a 50 C
TABLA 3:
65
TABLA 4:
69
atmica
TABLA 5:
79
89
TABLA 7:
90
95
102
121
127
135
roce.
xiv
NOTACIN
a
constante de Tafel, V
Aa, Ac, Am
aj
aox
are
ae
constantes de Tafel, V
Cb
C0
ci
CEE
EC
eficiencia de corriente, %
Di
difusividad, m2/s
E0
potencial mixto, V
Ee
Fr*
Fr
G(n)
xv
corriente de celda, A
If
fuerza inica, M
i, ia, ic
icell
iCTC
iCTM
iCM
iL , iL,a , iL,c
i0 , i0,a , i0,c
(IR)a
(IR)c
(IR)m
Jst
velocidad de nucleacin
fuerza viscosa
ko
altura de la celda, m
mT
presin, Pa
xvi
p0
presin inicial, Pa
pe
PM
caudal, L/min
ri
resistencia elctrica,
Re
tiempo, s
tiempo de simulacin, s
t*
tiempo adimensional
temperatura, K
ui
u0
u0, v0, w0
componentes x, y, z de velocidad
u*
Vcell
tensin de celda, V
volumen de celda, m3
Wa
numero de Wagner
nmero de carga
, a, c
energa de adhesin
xvii
, a , c
corr
cr
sobrepotencial crtico, V
, a, c
dil, con
c -
coeficiente emprico
, 1, 2
i -
s -
, 1, 2
potencial de la matriz
potencial de solucin
xy
esfuerzo de corte
xviii
INTRODUCCIN
1.1 Antecedentes
En los ltimos aos, se han realizado varios estudios orientados a
resolver limitaciones en los diseos de celdas convencionales para la electro
obtencin (EO) de cobre. Tambin se han estado implementado nuevos
procesos tecnolgicos ms limpios, que adems de ir de la mano con el
medio ambiente producen ctodos con calidad igual o mejor a los obtenidos
en las celdas tpicas de EO de cobre. De la misma manera se ha intentado
mejorar los procesos por medio de predicciones a travs de modelos
matemticos.
La EO de cobre es un proceso electroltico donde los ctodos de
cobre se electro depositan a partir de soluciones de lixiviacin, previa
purificacin en extraccin por solventes, obtenindose como producto final
ctodos de cobre de alta pureza (99,99%). La deposicin de cobre es
realizada sobre ctodos de lmina de acero AISI 316 con poca agitacin del
electrlito, mientras que la reaccin andica es la descomposicin del agua
con evolucin de oxgeno gaseoso sobre nodos de plomo, de similar
geometra. El cobre es transportado a travs de una solucin como ion hacia
el ctodo, lugar donde ocurre la semi-reaccin Cu2++2eCu0, inducida por
la existencia de un potencial ms catdico que el de equilibrio.
Las limitaciones de las celdas convencionales de EO de cobre y la
manera de superarlas han sido estudiadas por varios autores (Cifuentes y
colaboradores, 2004a, 2005a, Coeuret, 1992, Cooper, 1985, Gupta y
Mukherjee, 1990, Kammel, 1982, Walsh, 1993). Se probaron Varios diseos
de celda (incluidos la de lecho fluidizado (Goodridge y Vance, 1979) y la
celda jaula de ardilla) y se demostr que se obtenan reducciones en los
parmetros energticos en comparacin con los diseos convencionales.
Estas nuevas tecnologas implican el uso de:
no
solamente
est
determinada
por
las
propiedades
De esta
2
1.2 Objetivos
1.2.1 Objetivos generales
Disear y optimizar experimentalmente una celda de electro obtencin de
cobre basada en EDR y la calidad fsica y qumica de los depsitos
obtenidos sobre ctodo de malla de cobre.
Desarrollar un modelo matemtico de la tensin de celda optimizada EOEDR.
1.2.2 Objetivos especficos
1)
propuesta.
3)
REVISIN BIBLIOGRFICA
2.1 Termodinmica y cintica electro qumica
2.1.1 Fundamentos Tericos
Un sistema electro qumico esta compuesto por electrodos y
electrlito (Bockris y Reddy, 1980; Bard y Faulkner, 1980). El potencial que
corresponde a una reaccin electro qumica donde las concentraciones de
las especies son 1M, la presin de los gases 1 atm y la temperatura 298K se
denomina potencial estndar (E0). El potencial de equilibrio (Ee) es diferente
al potencial estndar de la reaccin porque depende de la temperatura y las
actividades de las especies involucradas.
El potencial de equilibrio est dado, para una semi-reaccin
cualquiera de deposicin
Ox + ze Re
(1)
por la ecuacin:
Ee = E 0 +
RT aOx
ln
zF aRe
(2)
m
Q
=
PM zF
(3)
(4)
m
At
(5)
m eq I
= = Ki
At F A
(6)
Para estudiar los factores que controlan la velocidad de una reaccin electro
qumica es necesario entender las diferentes etapas involucradas:
En primer lugar, la especie a reaccionar debe atravesar la capa
difusiva en torno a la superficie del electrodo y ser adsorbida en un sitio
activo. Luego, toma parte la transferencia de carga y, finalmente, el producto
de la reaccin. Si es una especie en solucin, deber desorberse y atravesar
la capa de difusin hacia el seno del fluido. En el caso de la electro
deposicin esto no ocurre ya que el producto de la reaccin pasa a
conformar la superficie del electrodo.
Durante la electro deposicin, la tasa de la reaccin electro qumica
est determinada por la velocidad del paso ms lento. Esto da lugar a tres
regmenes de control: control por transferencia de carga (CTC), control por
transferencia de masa (CTM) y control mixto (CM).
En la figura 1 se observa un diagrama de Evans, donde en el eje de
las abscisas se representa el potencial de electrodo y en el eje de las
ordenadas la densidad de corriente. Este tipo de diagrama resulta muy til
como herramienta para comprender la cintica de las reacciones electro
qumicas.
ln i
Cu +2 / Cu 0
iL
CTM
CMixto
CTC
io
Ee , Cu
Figura 1. Regmenes de control de una reaccin catdica
iTC iTM,
control mixto
= E Ee
(7)
La ecuacin de Tafel para una reaccin andica (E > Ee), donde i se define
positiva:
= a + b log(i )
(8)
= a + b log i
(9)
10
log|i|
log|i0|
-100
Ee
100
E, mV
F
F
i = i0 exp a exp c
RT
RT
(10)
11
(11)
(12)
2.3RT
2.3RT
log i
log(i0 ) +
c F
c F
(13)
i = ( a + c )
i0 F
RT
(14)
RT
(15)
12
al
gradiente
de
concentracin,
la
constante
de
C
X
(16)
Si se produjera una escasez de reactante en la interfase electrodoelectrlito, el comportamiento de la concentracin sera como se muestra en
la figura 3 (lnea slida). El gradiente de concentracin se simplifica ya que a
travs de la capa difusa, de espesor (m) la concentracin de la especie
reactante aumenta linealmente desde cero (en la superficie del electrodo)
hasta alcanzar la concentracin presente en el seno del electrlito (figura 3,
lnea punteada). Considerando la relacin entre J y la densidad de corriente,
segn la ecuacin de Faraday 4, obtenemos la siguiente ecuacin:
i = zFD
Cb C 0
(17)
i L = zFD
Cb
(18)
13
Cb
1
iCTC
1
iCTM
(19)
(20)
14
iCM =
i0 iL ,c
i0 + iL ,c exp(
c F
RT
(21)
iCM =
i0iL ,a
F
i0 + iL ,a exp( a )
RT
(22)
15
16
17
nodos grafito
Membrana
aninica
Catolito
(Cu2+)
Anolito
(Fe2+)
(Cifuentes
colaboradores,
2003,
2004a;
Casas
colaboradores, 2000).
2.3 Electrodilisis ED y Electrodilisis Reactiva EDR
La electrodilisis (ED) es un proceso en el cual los iones son
transportados a travs de una membrana inica permeable de una solucin
a otra bajo la influencia de un gradiente de potencial (Audinos, 1983;
Strathmann, 1994). Las cargas elctricas de los iones permiten que estos
19
20
Ia
Ic
(23)
ic Ac
(24)
ia Aa =
(25)
21
(26)
(27)
conc = dil + ai f ci , I f
(28)
(29)
(30)
2.4 Membranas
La definicin exacta de membrana, que cubra todos sus aspectos
fundamentales es algo difcil de establecer. Esto debido a la gran variedad
morfolgica, estructural y de composicin que presentan los distintos
materiales agrupados bajo este trmino genrico. Ravents (2005) define
membrana como una barrera o pelcula permeoselectiva entre dos medios
fluidos, que permite la transferencia de determinados componentes de un
medio al otro a travs de ella y evita o restringe el paso de otros
componentes. Strathmann (1981) da un concepto ms general y dice que
22
membrana es una interfaz que separa a dos fases y en cierta forma restringe
el transporte de especies entre stas. Aptel y Buckley (1998) definen
membrana como un film delgado que separa dos fases y acta como barrera
selectiva al transporte de materia, tal y como puede observarse en la figura
9. Estas membranas que permiten solamente el paso de algunas materias
son conocidas como membranas semipermeables.
que
(a)
(b)
24
25
gruesos,
ndulos,
aceite
otras
impurezas
superficiales,
ctodos pueden ser rechazados por calidad fsica, por ejemplo, por la
excesiva presencia de dendritas, ndulos, cordones y estras (figura 11).
(a)
(b)
(c)
28
Adtomo
Vacancia
Transferencia
Directa
Ncleo 2D
Transferencia
a Adtomo
Difusin
Superficial
tomo Kink
Adtomo
29
ion
difusin
en solucin
transferencia
electrones
difusin
superficial
ad- tomo
crecimiento
ncleo
G ( n ) = c m 2 h + ( m 2 a 2 + 4mha 2 ) + m 2 a 2 ( i s )
(31)
31
G (n) = m 2 h + ( m 2 a 2 + 4mha 2 ) + m 2 a 2 ( i s )
(32)
G
m
=
hk , mk
G
h
=0
(33)
hk , mk
G3,k
32(a 2 ) 3 (1 / 2 )
n 2 2 e 2
(34)
32
G2, k
4a 4 2
=
(ne + a 2 (2 ))
(35)
2a 2 (2 )
cr =
, y de esta ecuacin se desprende el siguiente criterio:
ne
2 +
n e
> 0 favorece la nucleacin en 3D (islas)
2a 2
2 +
n e
< 0 favorece la nucleacin en 2D (capas)
2a 2
(36)
J st = k1 exp( k2 / 2 )
Para nucleacin tridimensional:
32a
( n e) 2
1
=
2
k2 =
(37a)
(37b)
(37c)
33
(38a)
a2
x =
ne(2 )
(38b)
34
2.6.1.3 Inhibicin
La inhibicin desde un punto de vista cintico, puede definirse como
la disminucin de la velocidad de uno o ms pasos parciales de la reaccin
total en el electrodo. Durante la electro deposicin de los metales, la
inhibicin se debe a la presencia en la interfase electrodo-electrlito
(superficie del electrodo), en la doble capa, o en la capa de difusin de
sustancias diferentes al metal al ad-tomo correspondiente (Winand,
1994; Fischer, 1954). La mayor parte de la inhibicin ocurre en la interfase
electrodo-electrlito, mientras que la inhibicin en el electrlito implica una
parte relativamente pequea de inhibicin. La inhibicin en la interfase
puede disminuir la velocidad de los procesos fsico, electroqumico y/o
qumico de la electro deposicin de los metales que ocurren inmediatamente
en la interfase metal-electrlito. Estas sustancias inhibidoras se llaman
inhibidores de la interfase. La mayora de estos inhibidores son sustancias
orgnicas (Winand, 1992). Estos aditivos por lo general no cubren
completamente la superficie del ctodo y no favorecen los sitios activos.
Estas sustancias interfieren el proceso catdico y son qumica fsicamente
adsorbidos y su efecto sobre los depsitos es conocido como grado de
inhibicin (Paunovic y Schlesinger, 1998). Dependiendo del origen de los
inhibidores, la inhibicin puede ser clasificada en primaria y secundaria. La
inhibicin
primaria
es
causada
por
sustancias
cuya
composicin
35
36
Todos los grupos oxhidrilo (OH) en las unidades del guar pueden
rotar de tal manera que se encuentran de un solo lado del anillo, haciendo
ese lado hidroflico. El lado opuesto es por lo tanto levemente hidrofbico
debido a los grupos CH expuestos. Los mecanismos de adsorcin del guar
en solucin acuosa fueron estudiados por distintos autores y se atribuyen,
principalmente a la presencia de puentes de hidrgeno e interacciones
hidrofbicas (Liu y colaboradores,
colaboradores, 2005).
2.6.1.4 Aditivos en la electro obtencin de cobre
Entre los aditivos usados en la electro obtencin del cobre est el in
cloruro que presenta un efecto afinador de grano e induce cambios en la
orientacin preferencial de los cristales de cobre (OKeefe y Hurst, 1978). La
presencia de antimonio en el electrlito puede generar depsitos
quebradizos, efecto que es posible contrarrestar en presencia de cloro
(OKeefe y Hurst,1978).
El efecto de las impurezas tales como los iones de Ni2+, Co2+, Mn2+ y
LIX64N fueron estudiados por Subbaiah y Das (1994). Se encontr que
estas impurezas afectan adversamente las propiedades fsico qumicas del
electrlito. La densidad y la viscosidad del electrlito de cobre aumentaron
con el aumento de concentracin de impurezas y la conductividad disminuy
con este aumento. Estos cambios provocaron una disminucin de la
densidad de la corriente lmite y del coeficiente de transferencia de masa.
Con respecto a la orientacin cristalina de los depsitos, para muy bajas
concentraciones de los iones se observ una orientacin preferencial de los
planos (111) (Subbaiah y Das, 1994).
En
el
electrlito
usado
en
EO
de
cobre
hay
usualmente
37
38
de
los
depsitos
policristalinos
presenta
una
serie
de
39
en
la
deposicin,
acentuadas
por
condiciones
de
sistemtico
de
los
aspectos
fundamentales
de
la
electro
FI
FT
BR
UD
42
(a)
C
(b)
Figura 18. (a)Tipos de electro depsitos policristalinos en funcin de
i / CMeZ+ y la intensidad de inhibicin; (b) Diagrama de Winand
43
y la
d i 2 d i1
l
(39)
donde di,j es el nmero de bordes de grano que cruza el borde j (1: inferior;
2: superior) de la zona i-sima.
De este modo, el depsito BR se caracteriza por k1<k2<k3
El depsito FT se caracteriza por tener ki=0
El depsito FT-UD 0>k1>k2>k3
El parmetro N3D corresponde al nmero de cristales nuevos que surgen al
pasar de una zona a otra. Si es igual a cero, el depsito es FT, pero si no lo
es an puede ser UD o FT-UD. Otro parmetro relevante consiste en Ei=
longitud en la direccin de crecimiento/ancho del grano. Si este parmetro es
muy cercano a 1, entonces el depsito es UD. Con esta serie de parmetros
se obtiene una descripcin completa de los depsitos metlicos en base a la
clasificacin de Fisher.
45
2 s =
ae i
(40)
s(x,y)y=0
Asumiendo
E(x,0) =
que
m-s(x,0)
existen
campos
elctricos
bidimensionales
2 s 2 s
+
=0
x 2
y 2
(41)
s
=0
x
s
=0
y
48
equipotenciales
lneas de corriente
convergencia de las
lneas de corriente
(efecto de borde)
|i|
|i | Densidad de corriente local
|iL |
| i L |Densidad de corriente
global media
Distribucin
Primaria
Secundaria
Terciaria
49
s
i =
=0
(42)
Wa =
donde
d
di
0 d
x
di
(43)
transferencia de carga.
De esta forma la homogeneidad del depsito se puede ver por el
nmero de Wagner, el cual depende de:
50
La proporcionalidad con
d
, que representa la pendiente de
di
Algunas
observaciones
importantes
referidas
al
control
por
52
(44)
53
u
(u + (u )T ) + (u )u + p = F
t
u = 0
(45)
(46)
(u + (u )T ) + (u)u + p = F
(47)
54
xy =
du x
, entonces
dy
xy
u
(48)
K = n (u + (u )T )
(49)
(50)
p = p0
(51)
(52)
(53)
(54)
(55)
56
PROCEDIMIENTO EXPERIMENTAL
3.1 Celda de electro obtencin de cobre basada en electrodilisis
reactiva (EDR) de 2 compartimientos
3.1.1 Diseo de la celda
Para superar las limitaciones de las celdas convencionales, se ha
propuesto un diseo simple de una nueva celda de electro obtencin de
cobre basada en electrodilisis reactiva. Esta celda que consta de dos
compartimientos se construy de acrlico y las dimensiones de los
compartimientos fueron 65x55x120 mm3. Los compartimientos catdico y
andico estaban separados por membranas aninicas Ionac 3475 de
manera de evitar el transporte de cationes entre los electrlitos. Estos
compartimientos estn comunicados entre s por ventanas de 5*4 cm2 de
rea. Para mantener la hermeticidad entre los compartimientos se usaron
sellos de goma de 2 mm de espesor. El rea aparente de estas membranas
queda determinada por el rea de las ventanas, es decir 20 cm2. La celda de
EO basada en EDR se representa en la figura 21.
Ctodo
nodo
Burbujeo
de
nitrgeno
57
La
agitacin
constante
del
electrlito
se
logr
mediante
la
3.1.2 Electrodos
El ctodo utilizado (figura 22a) fue una malla, hecha de alambre de cobre
(dimetro 0.25 mm) de 99.9 % de pureza, con superficie aparente de 4.95
cm2 aprox. El nodo (figura 22b) fue una barra cilndrica de grafito de 4.8
mm de dimetro y 33 mm de altura, con rea expuesta aproximadamente
igual a la del ctodo.
(a)
(b)
concentraciones
de
las
soluciones
presentes
en
cada
59
I, mA
im, A/m2
T, C
400
808
200
30
600
1212
300
30
800
1616
400
30
400
808
200
50
600
1212
300
50
800
1616
400
50
400
808
200
60
600
1212
300
60
800
1616
400
60
60
61
ensanchar
el
compartimiento
catdico
para
permitir
la
62
N2, L/min
capas
Cu
mL/min
1
0.8
200
960
2.5
0.8
200
1260
0.8
200
1060
2.5
1.6
400
960
2.5
1.6
400
1260
1.6
400
1060
2.5
2.4
600
960
2.5
2.4
600
1260
2.4
600
1060
2.5
63
64
Impurezas
Concentracin de
las impurezas, g/L
1
2
3
4
no
no
2+
Mn
0.075
Cl
0.015
2+
Mn ; Cl
2+
0.075; 0.015
3+
Fe ; Fe
2+
Mn ; Cl ; Fe ; Fe
0.2; 0.8
2+
3+
65
66
Este sistema
67
68
Ctodo
Cu
Impurezas
malla
Mn2+,Cl-
0.231; 0.0247
malla
2+
2.4
EDR
EDR
Cl
Mn ,Fetotal,
-
malla
guar
0.04
2.4
EDR
lmina
guar
0.04
0.32
EDR
lmina
no
no
0.32
Convencional
Convencional
lamina
2+
Mn ,Fetotal,
Cl-
69
de
fluidos,
electromagnetismo
mecnica
estructural,
70
Gradiente de
presin
Electrodo
Membrana
Posible perfil de
velocidades
Caso Newtoniano donde se
desarrolla perfil parablico
Entrada de nitrgeno
71
Electrodo
Zona 1: capa
lmite
hidrodinmica
compuesta de
solucin
Zona 2: mezcla:
lquido+gas
Zoom
Zona 3:
solucin
Entrada de
nitrgeno
72
1 2 *
1
u *
= p +
u *
*
Re
Fr
t
(56)
u
Q
, donde U se calcula por la frmula: U =
S
U
nmero de Froude Fr * =
U2
g L
nmero de Reynolds Re =
altura de la celda =
tiempo t* =
t U
L
(57)
UL
y
L
(58)
73
y*=y/L
=1
=0.9
=0.8
=0.7
=0.6
=0.5
=0.4
=0.3
=0.2
=0.1
=0
Figura 26. Posiciones en el sistema para trazado de perfiles
Las ecuaciones 56 y 47 tienen el problema que toman en cuenta un
solo fluido. Para evitar resolver en forma separada la ecuacin del gas y del
lquido, se escribieron las ecuaciones en trminos de la posicin para as
poder utilizar el espectro de zonas definidas (figura 26). De esta manera, la
ecuacin a utilizar es:
1 2
1
u
= p +
u
Fr
Re
t
(59)
74
la forma:
1 u
1 2
1 g
+ (u )u = p + u +
t
U 2L
(60)
(61)
1 + 2
2
1 + 2
2
1 2
2
1 2
2
(62)
(63)
75
del vector velocidad. Una condicin de no slip significa que la velocidad del
fluido es igual a la velocidad de la frontera, generalmente cero. Normalmente
esto se usa para las paredes.
Parte superior de la celda:
n (u +(u)T) = 0
76
N2
(64)
nitrgeno.
El efecto de la cada de potencial IR N2 atribuida al nitrgeno es proporcional
a la diferencia de las tensiones de celda:
IR N2 =Vcell,N2 Vcell
(65)
77
RESULTADOS Y DISCUSIN
4.1 Celda de dos compartimientos de EO-EDR de Cu
En esta etapa, para superar las limitaciones de las celdas
convencionales, se trabaj con un diseo simple de una celda de electro
obtencin de cobre basada en electrodilisis reactiva. Se han estudiado los
parmetros energticos de funcionamiento de celda y se han establecido las
condiciones ptimas las cuales permiten minimizar costos de operacin del
nuevo diseo de celda. El estudio de la calidad fsica de los electro depsitos
obtenidos, tambin contribuy para realizar modificaciones en el diseo
inicial de la celda EO-EDR.
4.1.1 Barrido Potenciodinmico
Para determinar la densidad de corriente de operacin de la celda se
realiz un barrido potenciodinmico de la oxidacin del ion ferroso a frrico.
La curva de la polarizacin se observa en la figura 27.
i, A/m2
iL= 1820 A/m2
Fe2+ Fe3+ + e
E, V
Figura 27. Curva de barrido potenciodinmico para la reaccin andica
Fe2+ Fe3+ + e. T = 50 C, [Fe (II)] = 56 g/L, nodo de grafito
78
Parmetros
de
funcionamiento
de
la
celda
de
dos
compartimientos
En la celda de dos compartimientos las experiencias realizadas fueron
de acuerdo a la tabla 1. En esta parte del trabajo se busc obtener los
parmetros ptimos de funcionamiento de esta celda.
En la tabla 5 se presentan los resultados de los experimentos
realizados a diferentes intensidades de corriente y temperaturas del
electrlito. Tambin, se resumen la tensin de celda promedio, la eficiencia
de corriente catdica y el consumo especfico de energa para diferentes
condiciones.
Tabla 5. Eficiencia de corriente, consumo especfico de energa (CEE) y
tensin de celda de dos compartimientos.
CEE,
Eficiencia
Masa de cobre
Exp. T, C
Tensin
kWh/kg de
de
electrodepositada,
de
Cu
corriente,
g
celda,V
%
1
30
1.10
1.861
98.15
0.95
2
30
1.42
2.770
97.37
1.23
30
2.42
3.760
99.15
2.06
50
0.78
1.871
98.67
0.66
50
1.06
2.811
98.82
0.91
50
1.38
3.670
96.76
1.47
60
0.74
1.808
95.32
0.66
60
1.05
2.783
97.84
0.91
60
1.24
3.772
99.46
1.05
79
y de las
kT
6ri
(66)
80
81
(a)
(b)
Figura 28. Electro depsitos obtenidos sobre ctodo de malla para i = 800
2
A/m , T=50 C. (a) cara expuesta; (b) cara opuesta
82
(a)
(b)
Figura 29. Electro depsitos obtenidos sobre ctodo de malla para i = 1600
2
A/m , T=50 C. (a) cara expuesta; (b) cara opuesta
A esta densidad de corriente existe una cobertura completa en ambas
caras del electrodo, pero el espesor del depsito en la cara expuesta a la
membrana es mayor que en la cara opuesta. Tambin se observa que a
ambas densidades de corriente existe un mayor depsito en los bordes del
ctodo que en el centro. Este fenmeno, llamado efecto de borde, ha sido
estudiado previamente por Cifuentes y Mella (2006a). La distribucin
espacial de la densidad de corriente y el potencial en un reactor
83
el
desarrollo
del
diseo
de
la
celda
de
dos
(67)
Tensin de celda, V
1.2
1260 ml/min
sin N2
1
0.8
1060 ml/min
con N2
0.6
0.4
960 ml/min
con N2
0.2
0
0
50
100
150
200
250
300
Tiempo, min
86
1.6
1260 ml/min
sin N2
Tensin de celda, V
1.4
1.2
1
1060 ml/min
con N2
0.8
0.6
0.4
960 ml/min
con N2
0.2
0
0
50
100
150
200
250
300
Tiempo, min
1.6
Tensin de celda, V
1.4
1260 ml/min
sin N2
1.2
1
1060 ml/min
con N2
960 ml/min
con N2
0.8
0.6
0.4
0.2
0
0
50
100
150
200
250
300
Tiempo, min
87
mismo
efecto
se
presenta
en
los
compartimientos
CEE,
kWh/kg
de Cu
0.94
1.21
3.742
1260
98.7
1.04
1.29
3.792
1060
99.5
1.09
1.31
7.575
960
99.78
1.11
1.54
7.558
1260
99.5
1.31
1.36
6.845
1060
99.2
1.15
1.48
11.019
960
98.9
1.27
1.62
10.866
1260
98.4
1.39
1.57
10.921
1060
98.4
1.35
Malla de
Cu
(esttico)
1.80
95
1.60
5.70
jaula de
ardilla2
Cu
particulado
(mvil)
1.91
96.7
1.67
5.88
lecho mvil3
Cu
particulado
(mvil)
2.55
96.7
2.25
3.70
convencional6
Lmina de
Cu
(esttico)
1.98
91.0
1.98
2.93
condiciones : CLM: 1071 A/m 2, 50 C, 40 g/L del Cu; CJA y celda de tres
compartimientos: 1000 A/m 2, 50 C, 40 g/L del Cu; CONV6: 280 A/m2,
49 C, 42 g/L Cu
2
movimiento rotacional de la jaula (30 RPM)
3
movimiento de paletas rotatorias en un cilindro esttico (40 RPM)
4
CEE= consumo especfico de energa
5
Tasa de produccin volumtrica en kg Cu por hora por m3 de celda
6
Datos de planta industrial de EO de cobre
En la tabla 7, los valores de la tensin de celda, la eficiencia de
corriente catdica y el consumo especfico de energa se presentan para la
90
TPV =
mdep
vt
(68)
(3%). Cuando se compara la celda utilizada en este trabajo con una celda
convencional de cobre, reducida a la misma escala, el VPR de la celda de
tres compartimientos supera en 95 %.
Esto demuestra las ventajas del diseo de la celda de tres
compartimientos en comparacin con la tecnologa convencional de electro
obtencin. Adems, existen algunas ventajas adicionales de la tecnologa de
EO-EDR: i) la disponibilidad y el bajo costo de sulfato ferroso en el norte de
Chile y otras partes del mundo; ii) el alto valor comercial de los compuestos
frricos que se pueden obtener del anolito usado. Estas consideraciones
demuestran las ventajas potenciales de los diseos alternativos de la celda
que apuntan superar las limitaciones de la tecnologa convencional.
4.2.5 Morfologa de los electro depsitos
A simple vista es muy poca la diferencia existente entre el aspecto
fsico de los electro depsitos obtenidos en la celda EDR de tres
compartimientos. Por esta razn, se decidi analizar aquellos depsitos
donde la tensin de celda y el consumo especfico de energa fueron
menores. Las electro deposiciones se las realiz sobre una, dos y tres
capas de ctodos de malla. Las condiciones de la electro deposicin fueron:
densidad de corriente de la celda 1600 A/m2, caudal de recirculacin del
electrlito y caudal de burbujeo de nitrgeno 960 mL/min y 2.5 L/min,
respectivamente. En las figuras 33-35, A es la cara delantera del ctodo que
se encuentra ms cercana a una de las membranas (MA1), y B es la cara
posterior del ctodo la cual se encuentra a mayor distancia de la membrana
(MA2).
En la figura 33 se puede ver que el electro depsito obtenido en la
celda de tres compartimientos es homogneo y similar en ambas caras del
ctodo (caras A y B). El efecto de borde (crecimiento preferencial del
depsito en los bordes del ctodo) es evidente.
92
93
como pigmento y tambin se usa como abrasivo para pulir. Sulfato frrico se
utiliza como floculante, en especial para aguas residuales industriales. Por
otra parte, ambas soluciones frricas son agentes oxidantes fuertes y se
pueden utilizar en el proceso hidrometalrgico de lixiviacin. Ambas
posibilidades realzan la viabilidad econmica del proceso propuesto.
4.2.7 Consideraciones acerca del escalamiento de la celda de tres
compartimientos
Este trabajo no incluy el proceso experimental de escalamiento para
ambos reactores estudiados. Entre las componentes de la tensin de celda
para la celda de tres compartimientos (ecuacin 67), a composicin del
electrlito y temperatura constantes, los sobre potenciales de las reacciones
andica y catdica, as como las cadas hmicas a travs de las
membranas, dependen de la densidad de corriente de celda y de fenmenos
locales del transporte de masa y son independientes del tamao del reactor.
La diferencia del potencial de equilibrio permanece constante con el tamao
de la celda. De esta manera, solamente las cadas de potencial en el anolito
y catolito son funciones directas de la geometra de la celda, es decir,
funciones de la distancia entre el nodo y el ctodo, factores que deben ser
considerados en un eventual proceso de escalamiento.
En el caso actual (ver figura. 23), las distancias relevantes son entre el
nodo 1 - membrana 1 (AM1), membrana 1 - ctodo, ctodo membrana 2
(AM2), y la membrana 2 nodo 2, donde el "1" corresponde al lado
izquierdo de la figura 23 y el "2"
figura.
En la tabla 8 se muestra el efecto de diferentes distancias entre
electrodo -membrana sobre la tensin de celda.
95
Ee a
c IRa
IRc
IRm Vcell
Config.
____________________________________________________
1
0.40
0.15
0.05
0.25
0.55
0.40
1.80
0.40
0.15
0.05
0.25
0.27
0.40
1.52
0.40
0.15
0.05
0.50
1.08
0.40
2.58
____________________________________________________
1
la
configuracin
1,
que
1
10
10
30
10
60
corresponde
2
10
10
10
10
40
a
la
3
10
40
40
30
120
celda
tres
96
propios de la electro obtencin industrial de cobre como ser: Fe2+, Fe3+, Cl-,
Mn2+ y el guar, se estudiaron los parmetros energticos y se realiz la
caracterizacin fsico qumica de los electro depsitos.
4.3.1 Barrido Potenciodinmico a diferentes caudales de nitrgeno
En esta etapa de la investigacin, para determinar la zona de
trabajo de la celda EDR de tres compartimientos y establecer con certeza
cual es el caudal de burbujeo de nitrgeno ptimo con todas las impurezas
aadidas (Fe2+, Fe3+, Mn2+, Cl- y guar), se ejecutaron cuatro barridos
potenciodinmicos de la reaccin catdica (Cu2++2eCu0). Todos los
barridos fueron realizados sobre una malla de cobre, la temperatura fue de
50 C, los caudales de nitrgeno fueron QN2= 0, 0.5, 1 y 2.5 L/min,
simultneamente en todos los barridos se us agitacin por medio de
recirculacin del electrlito (QE= 960 mL/min).
97
10000
i, A/m
12000
8000
2+
Cu +2e Cu
iL=4150 A/m
6000
iL=4050 A/m
4000
iL=3950 A/m
2
iL=3750 A/m
2000
icell=1650 A/m2
-0.3
-0.2
-0.1
0.0
0.1
0.2
E vs ENH, V
98
4.3.2
Parmetros
de
funcionamiento
de
la
celda
de
tres
Tensin de celda, V
1.65
1.60
1.55
Cl1.50
1.45
1.40
0
20
40
60
80
100
120
Tiempo, min
Figura 37. Curvas tensin de celda versus tiempo para diferentes impurezas
Observando el grfico tensin vs tiempo, se puede apreciar que
existen dos grupos de curvas distribuidos de manera regular. El primer grupo
con la menor tensin de celda promedio corresponde al catolito sin
impurezas y al catolito con adicin de Mn2+. El segundo grupo, donde la
tensin de celda fue mayor, correspondi a las experiencias, donde al
catolito se aadieron cada una de las impurezas (FeTOT, Cl-) y las
combinaciones de todas estas (Fe2+, Fe3+, Cl-y Mn2+) y el aditivo guar. La
mayor tensin de celda obtenida fue en la experiencia, donde se aadieron
al catolito todas las impurezas y el aditivo guar, alcanzando un valor de
1.591 V.
99
100
101
Tabla 9. Eficiencia de corriente y consumo de energa de la celda de EOEDR de tres compartimientos con impurezas en el electrlito
Impurezas
Masa de
Eficiencia
Consumo
Tensin
cobre
de
especfico de
de celda
electro
corriente, %
energa, kWh/kg
promedio,
de Cu
depositada,
g
Sin impurezas
5.5632
98
1.27
1.480
Mn2+
5.6960
99
1.24
1.475
Cl -
5.8125
100
1.28
1.555
Mn2+; Cl -
5.5775
98
1.35
1.571
3+
5.4738
96
1.37
1.557
Fe2+; Fe3+;
5.4279
96
1.37
1.550
5.4497
95
1.40
1.591
2+;
Fe
Fe
102
Sin
impurezas
10 m
20 m
Mn
10 m
20 m
Cl
10 m
20 m
Fetotal
10 m
20 m
Fetotal, Mn, Cl
10 m
20 m
10 m
20 m
Figura 38.
Micrografas pticas que muestran la microestructura de cobre depositado
sobre ctodo de malla con diferentes impurezas: Fe, Mn, Cl y guar. El lado
izquierdo x400 y el lado derecho x800
105
ClFe2+, Fe3+
Fe , Fe , Cl-, Mn2+
2+
3+
Mn2+
Sin Impurezas
Fe2+, Fe3+, Cl-, Mn2+ y guar
Intensidad
de
Inhibicin
106
107
108
Aguja
Ctodo de
cobre
Figura 40. Electro adsorcin del aditivo guar en la superficie del ctodo
La rugosidad de las superficies de los electro depsitos fue
corroborada con las tcnicas SEM y AFM.
4.4.2 Anlisis con Microscopa Electrnica de Barrido (SEM)
Las morfologas de los depsitos obtenidos a partir de soluciones que
contenan diferentes impurezas y un aditivo (guar) se analiz usando la
tcnica del SEM. Todas las micrografas SEM se realizaron de la parte
central de ctodo de malla de tres capas, tal como se indica en la figura 41.
El estudio SEM realizado a pequeas magnificaciones (x35-x100)
muestra un depsito con un recubrimiento total del sustrato en las diferentes
caras del ctodo, adems se observa una buena cohesin a lo largo de los
alambres de la malla. En todos los casos estudiados los electro depsitos no
presentan grietas ni huecos.
109
Figura 41. Regin del anlisis de SEM para los ctodos de malla
En este anlisis las imgenes representadas en las figuras 42-48 de
los depsitos de cobre son micrografas obtenidas con los electrones
secundarios los cuales generan imgenes de apariencia tridimensional, es
por eso, que se utiliz estas imgenes para discutir la forma y morfologa del
depsito. Sin embargo, cuando se quiere analizar las
diferencias en la
composicin qumica del depsito, se utilizan las imgenes obtenidas con los
electrones retrodifundidos. La intensidad de emisin de los electrones
retrodifundidos depende del nmero atmico medio de los tomos de la
muestra, as los tomos ms pesados producen mayor cantidad de
electrones retrodifundidos. Una imagen originada por los electrones
retrodifundidos revela diferencias en la composicin qumica por diferencias
de contraste.
En la figura 42 se muestra un cuadro comparativo de todas las
micrografas SEM (x500) de los electro depsitos de cobre con diferentes
impurezas.
110
Sin impurezas
Fe
Fe, Cl, Mn
Cl
Cl, Mn
111
morfologa
globular.
Debido
que
ocurre
una
cristalizacin
112
una forma nodular definida, sin embargo se observa el aumento del tamao
de los cristales.
113
Figura 47. Micrografa de depsito con Fe2+; Fe3+; Mn2+; Cl - x 750 y anlisis
EDS
114
(a)
(b)
Figura 48. Fe2+; Fe3+; Mn2+; Cl -, guar (a) x 500; (b) x 2000
Con los perfiles de altura que el equipo mide, el software del AFM
calcula la rugosidad cuadrtica media (root mean squared roughness) Rrms,
de acuerdo a la siguiente expresin (Digital Instruments Veeco Metrology
Group, 2000):
Rrms =
(Z
i =1
Z ave ) 2
N
(69)
117
118
119
120
impurezas, g/L
nm
malla
EDR
Mn2+,Cl-
0.075; 0.015
126
malla
EDR
Mn2+,Fetotal, Cl-
0.075; 1; 0.015
296
malla
EDR
guar
0.04
103
lmina
EDR
guar
0.04
239
lmina
Convencional
no
no
460
lamina
Convencional
Mn2+,Fetotal, Cl-
0.075; 1; 0.015
453
121
123
1.2
= 0
0.8
= 0.08
= 0.1
= 0.2
0.4
= 0.4
= 0.6
0
0.45
0.46
0.47
0.48
0.49
0.5
=0.08
0.8
=0.1
=0.2
=0.4
=0.6
0.4
0
0.45
0.46
0.47
0.48
0.49
0.5
125
60
dV/dX
50
40
30
20
10
0
0.45
-10
0.46
0.47
0.48
0.49
0.5
0.1
0.2
0.3
0.4
0.5
0.6
-20
-30
-40
a) 0.25 Lmin-1
dV/dX
60
40
20
0.1
0.2
0.3
0
0.45
0.46
0.47
0.48
0.49
0.5
0.4
0.5
0.6
-20
-40
-60
b) 1.25 Lmin-1
Figura 58. Perfiles de vorticidad para dos caudales limites
Se puede observar que la vorticidad en el lado derecho del electrodo para
ambos caudales lmite tiene modulo positivo indicando el sentido correcto
del vector para la regin 0.455 < x <0.477. En los perfiles de vorticidad se
observa un pequeo hombro en la zona 0.455< x< 0.459 en la regin de
126
trmino de la capa hidrodinmica (ver figura 25, zona 1), llegando a su valor
mximo en la zona de cambio de fase (liquido-liquido+gas).
Se puede observar, como a medida que aumenta el caudal, la vorticidad
aumenta.
4.3.1.2. Cada de potencial atribuida al nitrgeno acoplada con los
parmetros fluidodinmicos
La fuerza de roce Fr (Denkov y colaboradores, 2005) sobre la
superficie del electrodo esta dada por:
dV
Fr = y dA
dx
A
(70)
Fr, *10-4N
1.055
0.5
1.017
0.038
1.440
0.990
0.065
1.600
0.984
0.071
1.635
2.5
0.981
0.074
1.640
Tipo de
Caudal de
Tensin de
agitacin
nitrgeno, L/min
celda, V
mecnica
burbujeo de
nitrgeno
127
1.02
Vcell, V
1.01
y= 0.982+0.15*exp (-2.94*x)
0.99
0.98
0.97
0
0.5
1.5
2.5
QN2, L/min
(71)
128
0.08
y = 1903.4x - 0.2365
IRN 2,V
0.06
0.04
0.02
0.00014
0.00015
0.00016
Fr, N
0.00017
(72)
(exp)
129
= 0.984V, IRN2(exp)
130
0.25 L/min
1.25 L/min
131
t=0.1s
t=0.5s
t=5s
t=10s
t=1s
t=14s
t=3s
t=20s
132
Fr, N
0.00016
1.25L/min
0.00012
0.5L/min
0.25L/min
0.00008
0.00004
0
0
10
15
t, s
20
133
0.25L/min
1.25L/min
0.03
0.5L/min
0.025
0.02
0.015
0.01
0
10
15
t, min
20
134
Factor
nitrgeno, L/min
temporal, f
1.25
Error, %
0.996
0.060
0.3
0.5
0.990
0.145
1.2
0.25
0.6
0.999
0.250
1.0
1.25L/min
0.5L/min
1
Fr, N
IRN2, V
0.96
0.96
Fr, N
IRN2, V
0.9
0.9
Fr
Fr
IRN2
IRN2
0.92
0.92
0.8
0.8
0.88
0.88
0.7
0.84
0
t, min
10
t, min
10
0.25L/min
1
Fr, N
IRN2, V
0.8
0.8
Fr
IRN2
0.6
0.6
0.4
0
t, min
10
N2
MAX _ IR
Fr
= K *
MAX _ Fr
N2
(73)
135
136
CONCLUSIONES
Celda de electro obtencin de cobre basada en electrodilisis reactiva
(EDR) de dos compartimientos
137
600
A/m2.
Los
valores
de
consumo
energtico
son
138
139
140
IR
N2
MAX _ IR
Fr
= K *
MAX _ Fr
N2
141
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149
ANEXOS
A1 Estudio de la superficie por medio de electrones Auger (AES)
Impurezas
Concentracin de
las impurezas, g/L
no
2
3
Mn
Fe2+; Fe3+
Calentamiento
de la muestra T,
C
no
20
Mn2+
2.31
20
2+
2.31
200,400 y 600
0.996; 2.43
20
20
2+
2+
3+
Mn ; Cl ; Fe ; Fe
20
20
no
20
150
realizados a
dN/dE:[a.u.]
4
5
6
Cl
S
8
9
Cu
0
N
C
200
400
Cu
O
600
800
1000
151
(a)
(b)
152
153
Compartimiento andico
Compartimiento catdico
Estanque recirculacin
catolito
Estanque recirculacin
anolito
nodos
Ctodo
Rectificador
Multmetro
Nitrgeno
Bao termostatizado
Bomba peristltica
K
C
D
A
A
154