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Doutorado Rogerio
1.
Poliuretano (PU)
2. Microscopias ptica e eletrnica de varredura pela espectroscopia Raman, FTIR, UVvisvel, RMN
Espectroscopia Raman
A espectroscopia Raman uma tcnica fotnica de alta resoluo que proporciona, em
poucos segundos, informao qumica e estrutural de quase qualquer material, composto
orgnico ou inorgnico permitindo assim sua identificao.
3. Difrao de Raio-X
http://www.fisica.ufs.br/npgfi/cursos/sincrotron/aulas/Difracao%20de%20Raiosx_Escola.pdf
4. Medida de Condutividade Eltrica
1. Anlises trmicas
Analise termogravimtrica ( Ocorre a degradao em uma determinada temperatura,
precedida de 3 etapas intermediarias definidas. Primeira etapa da volatilizao da
agua , seguida do incio da degradao do acido dopante
(http://www.iq.ufrgs.br/cpgqui/mprof/downloads/12_cp/tga.pdf )
Condutividade
A tcnica de Van Der Pauw utilizado para a determinao da resistividade e portadores de
carga em semicondutores . Tcnica tambm chamada quatro cantos ou quatro cantos
tcnica. Normalmente, esta tcnica aplicada sob a forma de amostras de filmes finos.
O objectivo da experincia Van der Pauw determinar a densidade de portadores de carga ns
de medir a tenso de salo VH. Para medir a tenso de VH Hall, uma corrente I forado a fluir
atravs do par oposto de contactos 1 e 3 e o Hall tenso VH (= V24) medido em par restante
transversal dos contactos 2 e 4.
Alm da resistividade pode ser demonstrado que existem duas resistncias RA e RB
caractersticas que esto relacionados com a resistncia RS de folha por a equao:
amostra (d) tem de ser muito menor do que a distncia entre os contactos (L). Erros relativos
causadas por diferentes valores de D 0 so da ordem de D / L. Valores tpicos de D = 0,5
milmetros valores tpicos de L = 5mm D / L ~ 0,1
Para a medio confivel necessrio que os contatos esto hmico, ou seja, no uma linha
reta em um grfico de corrente versus tenso, ou o que o mesmo, obedecendo a lei de Ohm :
Analise reolgica
(http://chasqueweb.ufrgs.br/~ruth.santana/analise_instrumental/aul
a4d.html)
Nos processamentos de polmeros, o material fica sujeito a vrios
tipos de
deformaes, devido geometria complexa dos
equipamentos de extruso e injeo. Durante a extruso, o polmero
sofre cisalhamento no interior da estrutura e elongao na matriz, o
que provoca o aparecimento de tenses normais e inchamento.
Tambm ocorrem cisalhamento e deformao em regime transiente e
cisalhamento elevado no molde. A morfologia e propriedades
mecnicas do polmero ser determinada por estas tenses,
tornando-se necessrio conhecer o comportamento destes materiais
durante o fluxo.
http://qnesc.sbq.org.br/online/qnesc11/v11a03.pdf