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ESTADO SLIDO
1.- OBJETIVOS:
- Conocer e identificar estructuras cristalinas (celdas unitarias) del estado slido.
- Construir en el laboratorio celdas unitarias para diferentes sistemas cristalinos.
La celda unitaria se define por la longitud de sus lados y por los ngulos que forman
dichos lados. La longitud de los lados son las distancias de repeticin de la estructura y
se denominan distancias cristalogrficas. Los ngulos entre los lados se llaman ngulos
cristalogrficos.
Puede demostrarse que existen solamente siete clases de celdas unitarias,
correspondientes a los siete sistemas cristalinos conocidos. Teniendo en cuenta
algunas variantes de las siete celdas fundamentales se pueden tener otras hasta un
total de 14, que son conocidas como celdas y redes de Bravais.
Algunas de ellas se muestran en las siguientes figuras:
6.- ILUSTRACIONES:
8.- CUESTIONARIO:
8.1.- Describir las similitudes y diferencias entre las disposiciones de
empaquetamiento de esferas cbico centrado en caras (CCC) y el
empaquetamiento hexagonal compacto (HC). , definiendo:
Empaquetamiento compacto de esferas es la disposicin de un nmero infinito de
celdas de esferas de forma que la mismas ocupen la mayor fraccin posible de un
espacio infinito tridimensional.
a) Nmero de coordinacin:
Tienen nmero de coordinacin 12 para ambos casos.
b) Huecos intersticiales:
En los dos casos hay un hueco rodeado por seis esferas (octadricas) y dos pequeos
huecos rodeados por cuatro esferas (tetradrico).
c) Celdas unidad:
Ambos se basan en la disposicin de las esferas en los vrtices de un tringulo
telesctado; En referencia a la disposicin de una capa A, existen dos posible
disposiciones B y C, Cada secuencia posible de A, B y C sin repeticiones da la misma
densidad de empaquetamiento para las esferas de un radio dado.
Las ms regulares son
HC = ABABABA
CCC = ABCABCA
Estructura
Nmero de
coordinacin
cbico
compacto
(CCP)
Hexagonal
Compacta
(HCP)
Cbica
centrada en
el cuerpo
(BBC)
12
Cbica Cbica
centrada simple
en las
caras
(FCC)
(CS)
6
Ejemplo: cristal de silicio o germanio que forma una estructura tetradrica similar a la
del carbono mediante enlaces covalentes entre sus tomos, en la figura representados
en el plano por simplicidad.
b) Semiconductor extrnseco:
Si a un semiconductor intrnseco, como el anterior, se le aade un pequeo porcentaje
de impurezas, es decir, elementos trivalentes o pentavalentes, el semiconductor se
denomina extrnseco, y se dice que est dopado. Evidentemente, las impurezas
debern formar parte de la estructura cristalina sustituyendo al correspondiente
tomo de silicio. Hoy en da se han logrado aadir impurezas de una parte por cada 10
millones, logrando con ello una modificacin del material.
Ejemplo: seleniuro de zinc (ZnSe) en silicio.
=
=
= ,