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Srgio Luiz Morelho

Fsica de raios X aplicada


cristalografia, nanotecnologia e
oftalmologia

Tese de Livre-Docente
Edital IF-051/2006
Departamento de Fsica Aplicada
Instituto de Fsica
Universidade de So Paulo - USP

So Paulo
2006
Prefcio

O texto original da Tese de Livre Docncia, como apresentado no ato da

inscrio ao concurso, edital IF-051/2006, fora editado em moldes similares aos

compatveis com um projeto de pesquisa. Dando nfase s pesquisas atualmente

em desenvolvimento, muito mais do que sistematizando criticamente toda a obra

realizada pelo candidato at ento.

Inconfundivelmente distinta da tese escrita, a argio de defesa da tese

perante a banca do concurso em questo conteve a necessria avaliao crtica

da obra realizado ao longo de toda a carreira cientfica.

Sabiamente a banca soube ponderar entre o texto original e o contedo

apresentado na argio, fato este que permitiu a aprovao do candidato ao

ttulo de Livre Docente.

Portanto, afim de proporcionar os interessados nesta obra, acesso a todo

material disponibilizado aos membros da banca, assim como um entendimento

claro da situao adversa enfrentada por eles, encontra-se includo ao texto

original, as imagens (slides) apresentadas juntamente com a respectiva

transcrio da argio.

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ndice

Tese Original ................................................................................................. 4

Introduo ................................................................................................ 4

Faseamento cristalogrfico de quase-cristais ............................................. 6

Otimizao e aplicaes da varredura Renninger em nanotecnologia.......... 9

Imageamento de raios X em estudos avanados de doenas oftlmicas .... 13

Referncias bibliogrficas ........................................................................ 17

Transcrio da defesa de tese..................................................................... 22

Parte I - Espao recproco hbrido


(hybrid reciprocal space) ........................................................... 23

Parte II - Imageamento de raios X no estudo da catarata


(X-ray imaging in advanced studies of ophthalmic disease) ....... 58

Parte III - Fsica de raios X em cristalografia e nanotecnologia


(X-ray physics in crystallography and nanotechnology) ............. 98

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Introduo

I. O fenmeno de interferncia entre feixes de raios X difratados

simultaneamente por um mesmo cristal, quando explorado em funo da

polarizao linear da radiao sncrotron, tem propiciado uma abordagem indita

do problema da fase em determinao de estruturas cristalinas [1,2]. Com as

melhorias j implantadas em instrumentao e os elaborados procedimentos

sistemticos de coleta e anlise de dados [3-5], estudos prticos baseado nesta

nova metodologia tm sido realizados [6]. Em andamento esta o estudo da

estrutura de cristais aperidicos, ou quase-cristais, de Al-Pd-Mn.

II. Aspectos da geometria tridimensional da difrao mltipla de raios X

fornecem uma ferramenta nica para medir parmetros de rede em monocristais

com altssima preciso, a/a 10-6; isto quando erros instrumentais so

devidamente corrigidos [7]. A pouca penetrao e a forte intensidade da difrao

Bragg-superfcie (BSD) um caso particular de difrao de 3-feixes tm

favorecido estudos da perfeio cristalina em superfcies [8-11] e

heteroestruturas [12-16] semicondutoras. Medidas livres de erros instrumentais,

combinadas com as caractersticas da BSD, esto originando uma tcnica capaz

de detectar tenses residuais nfimas na superfcie de substratos sob os quais

esto depositados estruturas de dimenses nanomtricas; no caso estudado, as

estruturas so pontos qunticos de InAs sobre GaAs (001) [7]. Explorar o

potencial da tcnica, aprimor-la e, ao mesmo tempo, contribuir para o cenrio

atual da nanotecnologia so os principais objetivos desta linha de pesquisa [17].

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Outras tcnicas de caracterizao como refletometria raio X, difrao de raios X

incidncia rasante e microscopia de fora atmica (AFM) tambm sero

empregadas.

III. Raios X duros, com energia acima de 20 keV, interagem muito pouco com

tecidos biolgicos de baixa densidade, chamados tecidos moles. Alm da baixa

absoro propriedade essencial radiografia de raios X o pouqussimo

espalhamento da radiao pelos tecidos outra propriedade da interao

radiao-tecido, esta ainda pouco explorada. Dois processos de espalhamento

so de particular importncia aqui: i) o espalhamento difuso da radiao, mais

conhecido por espalhamento de baixo ngulo, e ii) a refrao dos raios X na

interface entre regies dos tecidos com pequenas variaes de densidade.

Recentemente comeamos a explorar as diferenas existentes na magnitude

destes processos de espalhamento para mapear leses distintas que acometem o

tecido dos cristalinos (principalmente canino) com catarata [18-20]. Porm o trato

com tecidos biolgicos e a necessidade de tcnicas complementares tem

requerido uma sinergia entre diversas especialidades, gerando vrias

colaboraes e projetos de pesquisas com caractersticas dspares [21-25].

IV. Os princpios fsicos da interao da radiao X com os materiais so um

ponto comum das pesquisas mencionadas nos pargrafos acima (I, II e III), e para

as quais tenho contribudo de diversas formas, seja como colaborador,

supervisor, orientador ou ainda com contribuies individuais. Tais pesquisas,

juntamente com as referncia citadas, representam a parte mais significativa

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desta tese de Livre-Docente, mas existem ainda uma outra linha de trabalho em

fase inicial. Se trata de um trabalho independente que, a princpio, estaria mais

voltado ao ensino de Fsica Moderna do que propriamente a um trabalho de

pesquisa aplicada. Contudo a abordagem terica dada aos potenciais qunticos

unidimensionais [26], alm de fornecer uma excelente ferramenta didtica,

encontra aplicaes em tecnologia de dispositivos semicondutores, em fsica das

ligaes qumicas e em outros problemas de poucos corpos quando reduzidos

equao de Schrdinger radial.

Faseamento cristalogrfico de quase-cristais

Em 1984, D. Schechtman et. al [Phys. Rev. Lett. 53, 1951 (1984)] reportaram a

existncia de um material slido capaz de difratar eltrons como um monocristal,

mas com simetria pontual isocadrica, ou seja, com eixos de simetria 2, 3 e 5.

Cristais so arranjos peridicos de tomos, cuja periodicidade somente permite

eixos de simetria 1, 2, 3, 4 e 6. Portanto o slido descoberto no era peridico.

Surgiram assim os cristais aperidicos, ou quase-cristais. A importncia da

descoberta dos quase-cristais se deve ao fato da cristalografia de raios X, iniciada

pelo experimento de Laue em 1912, ter sido desenvolvida at a dcada de 80

sempre assumido que cristais fossem peridicos. Estava implcita a idia da

periodicidade como o estado nico da matria no amorfa, a qual teve de ser

reavaliada aps o surgimento dos quase-cristais; algo intermedirio entre o

peridico e o amorfo havia surgido.

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Picos discretos de difrao ocorrem para estruturas aperidicas porque a

transformada de Fourier de seqncias aperidicas unidimensionais, tipo

seqncia de Fibonacci, geram componentes discretos, indexveis por dois

nmeros inteiros. O padro de difrao de um cristal aperidico, ou seja seu

espao recproco, tem portanto sido indexado com um total de seis nmeros

inteiros (dois para cada dimenso).

As fases das reflexes, isto as variaes relativas nas fases das ondas de

raios X difratadas por um cristal, contm uma informao estrutural importante

que perdida quando as intensidades difratadas so medidas individualmente

como feito em cristalografia de raios X. Esta perda de informao sanada

atravs de vrios mtodos, mas no sem uma significante complicao na vida

dos cristalgrafos, a qual aumenta com a complexidade das estruturas. No caso

de cristais aperidicos, tais mtodos no se aplicam porque foram desenvolvidos

para cristais com clulas unitrias bem definidas. Conseqentemente, mesmo

depois de mais de 20 anos da descoberta do primeiro quase-cristal, e de mais de

2000 artigos sobre a estrutura atmica de cristais aperidicos, no existe

nenhuma estrutura proposta que apresente um fator de credibilidade (reliability

factor) to bom quanto aqueles usualmente obtidos para os cristais peridicos.

Ou seja, os mtodos difratometricos convencionais tem sido insuficientes para

solucionar a estrutura.

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O objetivo desta pesquisa seria aplicar o novo mtodo de faseamento

cristalogrfico que desenvolvemos [1-6] para resolver a estrutura dos quase-

cristal de Al-Pd-Mn. Atravs do mtodo esta sendo gerado um banco de dados

com as fases invariantes dos Umwegs (Umweg = difrao de 3-feixes) do Al-Pd-

Mn; o qual servir de referncia para descartar ou validar as estruturas atmicas

j propostas, ou ainda qualquer outro modelo terico da estrutura atmica que

venham a ser proposto.

No ano passado, 2005, foram feitas as medidas e o faseamento de uma srie

de Umwegs com uma acurcia muito boa em diversas polarizaes [27]. A razo

da excelente qualidade dos resultados conseqncia das reflexes do Al-Pd-Mn

apresentarem larguras intrnsecas (~150rad) maiores do que as larguras

instrumentais na estao XRD1 do LNLS; uma situao oposta quela

encontrada no faseamento do KDP [6].

Afim de confirmar e aumentar a credibilidade nos valores obtidos das fases

neste material antes de publica-los, resolvemos incluir a dependncia da energia

no faseamente, como feito no estudo anterior [5]; isto numa segunda amostra

preparada em condies similares. Experimentos estes realizados em

fevereiro/2006.

Esta pesquisa uma colaborao com a University of Guelph, ON, Canad.

Os quase-cristais foram crescidos no Guelph Laboratory of X-ray Diffraction, pelo

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aluno de doutorado, ou PhD Candidate, Marcus Miranda (mestre pela UFC, CE,

Brasil) sob orientao do Dr. S. Kycia.

Otimizao e aplicaes da varredura Renninger em

nanotecnologia

Nanoestruturas so objetos com pelo menos uma de suas dimenses inferior

a 100nm. Devido esta pequena dimenso, notveis diferenas aparecem nas

propriedades fsicas tais como a quantizao dos nveis de energia. O novo

conjunto de propriedades encontra importantes aplicaes em microeletrnica e

optoeletrnica. O desenvolvimento de materiais nanoestruturados requer novos

mtodos de sntese, e conseqentemente novos mtodos de anlise aplicveis

estruturas de dimenses to reduzidas. A nanotecnologia, que engloba um

conjunto de mtodos de sntese, anlise e processamento dos dispositivos, uma

rea de extrema importncia nos dias atuais, no somente pelos benefcios

decorrentes de aplicaes diretas desta tecnologia, mas tambm por propiciar

meios de inspecionar o comportamento da natureza numa escala to reduzida,

isto , de ftons, eltrons e tomos, em condies peculiares e inditas que so

criada a cada dia com o prprio avano da nanotecnologia.

Os dispositivos opto-eletrnicos baseados em pontos qunticos (QDs - quantum

dots) auto-organizados de InAs tm grande potencial de aplicao em redes de

comunicao de mdio alcance, como reas metropolitanas (metropolitan-area

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networks). O espectro de emisso, ou o intervalo de comprimentos de onda da luz

emitida pelos QDs, est prximo dos mnimos de absoro das fibras pticas.

Esta propriedade ptica est sendo constantemente aprimorada de modo a

viabilizar dispositivos com o melhor casamento possvel entre o espectro de

emisso dos QDs e os mnimos de absoro das fibras pticas. Contudo, o

desafio atual est em como aumentar a eficincia ptica de tais dispositivos, ou

seja, aumentar a densidade de QDs opticamente ativos.

Os QDs de InAs so obtidos via epitaxia de feixe molecular (MBE - molecular

beam epitaxy) em substratos de GaAs (001). Mas, as tenses superficiais

responsveis tanto pela formao como pelo mecanismo de auto-organizao dos

QDs tambm limitam a densidade dos mesmos. A opo encontrada tem sido o

crescimento de algumas camadas atmicas de GaAs sobre os QDs j depositados,

e assim disponibiliza-se uma nova superfcie de deposio. Todavia, uma drstica

reduo no nmero de QDs opticamente ativos ocorre aps o cobrimento. Alm

do que, tcnicas para anlise de superfcie tais como microscopia de fora

atmica (AFM - atomic force microscopy), e ainda difrao de raios X incidncia

rasante (GIXRD - grazing incidence X-ray diffraction), no so mais, em geral,

teis para investigar a estrutura fsica dos QDs enterrados (cobertos), com

exceo de casos onde ocorre um auto-ordenamento vertical dos QDs ao longo

das vrias etapas de deposio.

A necessidade de caracterizar a nanoestrutura dos QDs cobertos, para se

entender em mais detalhes as modificaes na forma, tamanho e no campo de

deformao dentro e em sua vizinhana, tem impelido o surgimento de novos

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mtodos de caracterizao, cuja ferramenta principal a difrao de raios X.

Dentro deste objetivo, a pesquisa proposta aqui segue uma linha de trabalhos

pioneiros na utilizao da difrao de n-feixes (ou difrao mltipla, n > 2) como

ferramenta para caracterizao de superfcies, heteroestruturas e nanoestruturas

semicondutoras [7-16].

A varredura Renninger (XRS - X-ray Renninger scanning) um procedimento

sistemtico para excitar casos de difrao mltipla , em princpio, o mtodo

mais preciso disponvel para determinao de parmetros de rede em

monocristais. Contudo, s recentemente foi possvel equacionar erros

instrumentais inerentes (ou residuais) ao processo de alinhamento das amostras,

viabilizando a aplicao da XRS em estudos onde h necessidade de alta

sensibilidade a pequenas variaes dos parmetros de rede. Combinando a

acurcia da XRS com as propriedades da BSD (Bragg-surface diffraction)

conseguiu-se medir um campo de deformao residual mdio em amostras com

QDs cobertos [7]. Porm a origem do campo de deformao no ficou clara, o que

nos levou a traar um metodologia mais elaborada para elucidar tal questo.

Resultados recentes obtidos numa srie de amostras preparadas

especialmente para esta pesquisa, mas ainda no publicados, mostram uma

variao significativa do campo de deformao entre amostras com QDs cobertos

e expostos. Nota-se tambm que alguns dos picos de difrao mltipla, medidos

nas amostras com QDs cobertos, apresentam leve assimetria indicando

ocorrncia de interferncia entre as ondas simultaneamente difratadas por

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reflexes Bragg distintas, como j observado em outras heteroestruturas [12]. Em

cristais semicondutores e monocristais em geral, a investigao das assimetrias

nos perfis das difraes de 3-feixes (Umwegs) tem propiciado medidas

experimentais dos valores das fases dos fatores de estrutura, mas a ocorrncia

deste fenmeno em semicondutores nanoestruturados est ainda por ser

devidamente estudada e explorada.

O objetivo aqui identificar a origem do campo de deformao medido via

XRS na superfcie dos substratos de GaAs (001) com QDs depositados,

discriminando o quanto a deformao de fato induzida pelos QDs ou se

provinda de tenso residual na superfcie do substrato oriunda, por exemplo, do

processo de acabamento da superfcie. A razo deste interesse advm da

possibilidade de existir, em cada caso, tenses de relaxao diferentes em torno

dos QDs durante o cobrimento. Contudo, a constatao de assimetria nos perfis

das BSD, embora muito discreta, impem um problema extra a ser resolvido. Isto

, antes de aplicar a XRS neste estudo, teremos de quantificar o error introduzido

pelas assimetrias das BSD.

A integra da pesquisa descrita neste item faz parte do projeto de doutorado

[17] do aluno Raul Oliveira Freitas, e esta sendo desenvolvido sob minha

orientao.

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Imageamento de raios X em estudos avanados de doenas

oftlmicas

Caracterizao microscpica de tecidos patolgicos tem uma limitao

intrnseca majoritria: a pequena rea de amostragem com relao extenso

dos tecidos. Mapear as possveis alteraes dos tecidos em escala macroscpicos

e correlacion-las com um grande nmero de casos clnicos no um

procedimento factvel para se estudar a maioria das doenas, como por exemplo

as doenas relacionadas perda de viso e, em particular, catarata.

Embora o implante de lentes intra-oculares seja um tratamento de sucesso, a

catarata ainda uma das principais questes de sade pblica que cresce em

importncia com o crescimento das populaes e da expectativa de vida em todo

o mundo.

O sistema de viso dos mamferos so susceptveis uma variedade de

doenas relacionadas com alteraes nas propriedades pticas/fisiolgicas dos

tecidos responsveis pelo processamento da luz dentro do olho. Entender as

causas a nvel molecular necessrio para prevenir ou corrigir a perda de viso

nos estgios iniciais das doenas. Este fato tem motivado muitas pesquisas

durante as ltimas dcadas. Feixes de luz e de eltrons esto entre as sondas

mais utilizadas nessas pesquisas, mas elas tm limitaes inerentes devido

grande quantidade de luz espalhada e pouca profundidade de penetrao dos

feixes eletrnicos. Para minimizar o espalhamento de luz, de modo a aumenta a

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resoluo, procedimentos histolgicos de preparao de amostras finas so

requeridos na microscopia ptica, e procedimentos similares so necessrios na

microscopia de eltrons desde que a profundidade de sondagem muito

pequena. Conseqentemente, mtodos que utilizam feixes de luz ou de eltrons

so indicados para estudos onde alta-resoluo requerda, mas no para

estudos que envolvam alteraes patologicas em tecidos de escalas

macroscpicas.

Pelas razes mencionadas acima, estamos explorando as vantagens da

radiao X para obter imagens de boa resoluo (dezenas de micra) em tecidos

com extenso de centmetros. Isto possvel desde que, na freqncia dos raios

X, o espalhamento restrito a um ngulo muito pequeno e a profundidade de

penetrao incomparavelmente maior do que para feixes de eltrons. A

sensibilidade necessria para identificar alteraes nos tecidos conseguida por

uma tcnica de imagem onde distintos processos de interao radiao-tecido

so descriminados por difrao Bragg num cristal altamente perfeito antes da

aquisio das imagens. O potencial de tal tcnica de imageamento por raios X em

oftalmologia demonstrado aqui no estudo da catarata.

A perda de transparncia da lente do olho, ou catarata, ocorre devido ao

espalhamento de luz visvel. Embora as alteraes bioqumicas e celulares que

levam catarata ainda no so bem conhecidas, tais alteraes tm que induzir

variaes de densidade, ou flutuaes no ndice de refrao, numa escala de

comprimento D, comparvel ao comprimento de onda , de modo a explicar o

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espalhamento de luz visvel que turva as lentes com catarata. Uma vez que o

ngulo compreendido pelo espalhamento difuso da luz proporcional razo

/D, ferramentas que utilizem comprimentos de onda menores do que

microscopia de luz visvel so necessrias para sondar a natureza intrnseca dos

centros espalhadores.

Instalaes sncrotrons adaptadas para imageamento de raios X com

contraste acentuado por difrao (DEI - diffraction enhanced imaging), tm as

condies ideais das pticas de feixe incidente e transmitido para sondar

inhomogeneidades nos tecidos oculares. Nas tentativas anteriores realizadas no

LNLS [18,19], o baixo fluxo de ftons no intervalo de comprimento de onda

desejado permitiram o imageamento apenas de lentes fatiadas, com espessuras

em torno de 1 mm. Danos na superfcie devido ao corte e longo tempo de

exposio no colaboraram para estudo conclusivo de tecidos oculares por

imagens de raios X nestas primeiras tentativas.

Mais recentemente utilizamos as instalaes da estao X15A no National

Synchrotron Light Source (NSLS), Brookhaven, EUA. L imagens dos cristalinos

inteiros foram obtidas com raios X de 20 keV. A excelente resoluo angular do

sistema de aquisio de imagens permite uma alta sensibilidade pequenos

desvios angulares. Por exemplo, para um desvio de apenas 1 rad, o feixe que

incide nos detetores de reas (CCDs) experimenta uma variao de intensidade

da ordem de 30%. Como as oscilaes de intensidade no NSLS so menores do

que 5%, os sistema que utilizamos sensvel at para desvios inferiores 1 rad.

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Os experimentos realizados no NSLS mostraram que atravs do imageamento

de raios X possvel identificar a presena de tecidos calcificados no interior das

lentes, presentes na maioria dos casos de catarata parcial, e tambm mapear

reas extensas de compactao de fibras celulares que so limitadas por fissuras

de baixa densidade e correlacionadas com a simetria axial de organizao das

fibras corticais. Todos os casos analisados de catarata total apresentavam reas

de compactao, mesmo quando essas reas no geravam nenhum

espalhamento de raios X [20].

Esta pesquisa foi realizada como parte do projeto de Ps-doutoramento [22]

da Dra. Andra Antunes, sob minha superviso, e em colaborao com a

Faculadade de Medicina Veterinria e Zootecnia da USP.

Atenciosamente,

SRGIO L. MORELHO

Prof. Dr. junto ao Depto. de Fsica Aplicada

Universidade de So Paulo - USP

So Paulo, 24 de abril de 2005

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Referncias bibliogrficas
[Anexo # (do Memorial)]

[1] "Strength tuning of multiple waves in crystals"


S.L. Morelho, L.H. Avanci
Acta Crystallographica A 57, 192-196 (2001)
[Anexo 35]

[2] "Enhanced X-ray phase determination by three-beam diffraction"


S.L. Morelho, S. Kycia
Physical Review Letters 89, 015501 (2002)
[Anexo 38]

[3] "An X-ray diffractometer for accurate structural invariant phase


determination"
S.L. Morelho
Journal of Synchrotron Radiation 10, 236-241 (2003)
[Anexo 39]

[4] "Accurate triplet phase determination in non-perfect crystals - a general


phasing procedure"
S.L. Morelho
Acta Crystallographica A 59, 470-490 (2003)
[Anexo 40]

[5] "Study of crystalline structures by physical determination of triplet phase


invariants"
S.L. Morelho, L.H. Avanci, S. Kycia
Nuclear Instrum. and Methods in Physics Research B 238, 175-179 (2005)
[Anexo 43]

[6] "Automatic X-ray crystallographic phasing at LNLS"


S.L. Morelho, L.H. Avanci, S. Kycia

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Nuclear Instrum. and Methods in Physics Research B 238, 180-184 (2005)
[Anexo 44]

[7] "Strain field of InAs QDs on GaAs (001) substrate surface: characterization
by synchrotron X-ray Renninger scanning"
S.L. Morelho, L.H. Avanci, R. Freitas, A.A. Quivy
Microelectronics Journal 36, 219-222 (2005)
[Anexo 49]

[8] "X-ray multiple diffraction phenomenon in the evaluation of semiconductor


crystalline perfection"
S.L. Morelho, L.P. Cardoso
Journal of Applied Crystallography 29, 446-456 (1996).
[Anexo 16]

[9] "Sensitivity of Bragg-surface diffraction to analyze ion-implanted


semiconductors"
M.A. Hayashi, S.L. Morelho, L.H. Avanci, L.P. Cardoso, J.M. Sasaki,
L.C. Kretly, S.L. Chang
Applied Physics Letters 71, 2614-2616 (1997)
[Anexo 28]

[10] "Investigation of Bragg-surface diffraction in semiconductors and epitaxial


structures by reciprocal-space analysis"
S.L. Morelho, E. Abramof
Journal of Applied Crystallography 32, 871-877 (1999)
[Anexo 33]

[11] "Bragg-surface dynamical diffraction"


L.H. Avanci, S.L. Morelho
Acta Crystallographica A 56, 507-508 (2000)
[Anexo 34]

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[12] "Two-dimensional intensity profiles of effective satellites"
S.L. Morelho, L.H. Avanci, A.A. Quivy, E. Abramof
Journal of Applied Crystallography 35, 69-74 (2002)
[Anexo 36]

[13] "Hybrid and effective satellites for studying superlattices"


S.L. Morelho, A.A. Quivy, J. Hrtwig
Microelectronics Journal 34, 695-699 (2003)
[Anexo 42]

[14] "Simulation of hybrid reflections in the X-ray multiple diffraction


experiments"
S.L. Morelho, L.P.Cardoso
Journal of Crystal Growth 110, 543-552 (1991).
[Anexo 9]

[15] "Hybrid multiple diffraction in renninger scan for heteroepitaxial layers"


S.L.Morelho, L.P. Cardoso, J.M. Sasaki, M.M.G. de Carvalho
Journal of Applied Physics 70, 2589-2593 (1991).
[Anexo 10]

[16] "Structural properties of heteroepitaxial systems using hybrid multiple


diffraction in renninger scans"
S.L. Morelho, L.P. Cardoso
Journal of Applied Physics 73, 4218-4226 (1993)
[Anexo 12]

[17] "A radiao X no estudo de dispositivos semicondutores nanoestruturados:


desenvolvimentos e aplicaes"
Projeto de Pesquisa, nvel: Doutorado-direto
Aluno: Raul de Oliveira Freitas
Bolsa: CNPq
Vigncia: maro/2006 - presente

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[Anexo 8]

[18] "Diffraction enhanced X-ray imaging of mammals crystalline lens"


A. Antunes, M.G. Hnnicke, A.M.V. Safatle, C. Cusatis, P.S.M. Barros,
S.L. Morelho
Nuclear Instrum. and Methods in Physics Research B 238, 28-31 (2005)
[Anexo 45]

[19] "High contrast radiography of normal and cataractous canine lenses"


A. Antunes, M.G. Hnnicke, C. Cusatis, S.L. Morelho
Journal of Physics D: Applied Physics 38, A85-A88 (2005)
[Anexo 48]

[20] "X-ray imaging in advanced studies of ophthalmic diseases"


A. Antunes, A.M.V. Safatle, P.S.M. Barros, S.L. Morelho
Medical Physics, aceito (2006)
[Anexo 51]

[21] "In vitro Raman spectroscopy of healthy mammals crystalline lenses"


A. Antunes, S.E. Abud-Filho, M.L.A. Temperini, S.L. Morelho
Laser Physics Letters 2, 415-420 (2005)
[Anexo 47]

[22] "Caracterizao topogrfica por contraste de fase de amostras de cristalino


animal com radiao sncrotron"
Projeto de Pesquisa, nvel: Ps-Doutorado
Pesquisador: Dra. Andrea Antunes
Bolsa: CNPq
Vigncia: agosto/2003 - julho/2005
[Anexo 8]

[23] "Determinao de elementos majoritrios e trao em cristalino de mamferos:


estudo histolgico comparativo qumico"

Tese de Livre-Docente Edital IF-011/2006 pgina 20


Colaborao Internacional CAPES/GRICES, No. 140/05
Coordenador: Srgio L. Morelho
Vigncia: maro/2005 - maro/2007.
[Anexo 5]

[24] "Raios X no estudo da catarata "


Projeto de Pesquisa, nvel: Mestrado
Aluno: Wagner Fernando Fazio
Bolsa: CNPq
Vigncia: agosto/2005 - presente
[Anexo 8]

[25] "Caracterizao morfolgica e determinao de mapas de elasticidade de


tecidos oculares por microscopia de fora atmica (AFM)"
Projeto de Pesquisa, nvel: Mestrado
Aluno: Fernanda Virginia Gozzo
Bolsa: CNPq (aguardando)
Vigncia: maro/2006 - presente
[Anexo 8]

[26] "General recursive solution for one-dimensional quantum potentials"


S.L. Morelho
Revista Brasileira de Ensino de Fsica, a ser submetido (2006)
[Anexo 53]

[27] Ver relatrio final do projeto "Algoritmo para determinao da fase de


reflexes Bragg e aplicaes"
Auxlio Pesquisa FAPESP, No. 02/10387-5.
[Anexo 5]

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Transcrio da defesa de tese apresentada aos membros da banca
do concurso de Livre Docncia, edital IF-051/2006

"Prezados Senhores,

vou falar aqui sobre contribuies ao entendimento da fsica de raios X aplicada

cristalografia, nanotecnologia e oftalmologia."

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Parte I - Espao recproco hbrido
Slide 1:

"A possibilidade de crescer finas camadas monocristalinas (epilayer) sobre a

face de outro monocristal (substrate) tem viabilizado conquistas fundamentais em

tecnologia de semicondutores. Crescimentos epitaixiais so hoje um dos

processos mais importantes usados na confeco de dispositivos

nanoestruturados. Materiais com mltiplas camadas, tais como superredes e

poos qunticos, ou mesmo fios e pontos qunticos, requerem epitaxia em algum

estgio de seus processos de preparao.

Os primeiros, e mais simples, arranjos instrumentais para caracterizao

estrutural de camadas epitaxiais, utilizavam fontes de raios X divergentes (X-ray

focus 40m) e filmes (film) fotogrficos para registrar as linhas de difrao da

camada e do substrato (imagem a). Das separaes entre as linhas se

determinava a diferena entre os parmetros das redes cristalinas.

A mais de 25 anos atrs, Isherwood e colaboradores, ao utilizarem tal arranjo

instrumental, observaram linhas extras [J. Cryst. Growth 54, 449 (1981)], como

pequenos traos inclinados sobre as linhas de difrao esperadas, como visto

nesta imagem (imagem a). O fenmeno foi atribudo ao reespalhamento dos feixes

difratados entre as redes da camada e do substrato, e denominado de reflexo

hbrida.

Contudo, somente dez anos aps a publicao do trabalho de Isherwood,

Brown e Halliwell, surgiu uma descrio quantitativa do fenmeno, viabilizando a

simulao das reflexes hbridas (imagem b) [J. Cryst. Growth 101, 543 (1991)]. "

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Slide 2:

"A geometria tridimensional intrnseca das reflexes hbridas implica, na

prtica, que elas ocorrem apenas em direes especficas do espao, ou seja, para

excitar uma reflexo hbrida necessrio satisfazer tanto o ngulo de incidncia

mega () como o ngulo azimutal phi ().

Isto pode ser visto nesta figura (figura esquerda), onde SL e LS denotam

reflexes hbridas como estas aqui em baixo (figuras a e b, direita).

O uso de feixes colimados permitiria portanto investigar detalhadamente as

condies angulares onde reflexes hbridas so excitadas. Fato que foi explorado

primeiramente com radiao X convencional (X-ray tube), levando proposio

de mtodos para anlise de camadas epitaxiais via reflexes hbridas [J. Appl.

Phys. 70, 2589 (1991); 73, 4218 (1993)].

Feixes colimados em duas direes ortogonais e intensos so comuns em

instalaes sncrotrons. Ento, alm de revelar outras propriedades das reflexes

hbridas [Appl. Phys. Lett. 73, 2194 (1998)], a radiao sncrotron e as respectivas

pticas de feixe incidente ofereciam as condies ideais para explorar o

fenmeno.

Contudo, em algum momento, achamos que seria infrutfero continuar a

explorar tal fenmeno, isto pelos seguintes motivos:

- Embora instalaes sncrotrons sejam de fcil acesso, a demanda da

indstria de semicondutores por anlises rotineiras, inviabiliza o uso de tcnicas

restritas aos sncrotrons;

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- E, os difratmetros comerciais no pareciam ter uma ptica de feixe

incidente apropriada, com relao ao requisito de colimao em direes

ortogonais, para empregar os mtodos propostos. "

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Slide 3:

"Embora o fenmeno reflexo hbrida houvesse deixado de ser interesse de

pesquisa, encontramos, com certa freqncia, fenmenos semelhantes ao estudar

superredes de camadas epitaxiais via difrao de raios X sncrotron, isto tanto no

LNLS como no ESRF.

Nos limitamos apenas descrever os novos aspectos do fenmeno, motivados

mais pelo fato de sabermos explica-los, do que por esperar um retorno

significante desses trabalhos [J. Appl. Cryst. 35, 69 (2002), Microelectron. J. 34, 695

(2003)]."

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Slide 4:

"Aplicaes das reflexes hbridas, que pareciam fadada ao esquecimento,

tem um captulo recente e, talvez, o mais importante, capaz de levar o fenmeno

queles que seriam os mais interessados em explora-lo, ou seja, industria de

semicondutores com seus difratmetros comerciais.

Encontrar este fenmeno parecia uma sina, mesmo quando no o

procurvamos sua ocorrncia era evidente em muitos dos nossos experimentos.

Porm, ao participar da XTOP 2006, a apenas dois meses atrs, fomos,

literalmente, encontrado pelo fenmeno.

O Dr. Domagala, do Instituto de Fsica da Academia Polonesa de Cincias, me

convidou para assistir sua palestra na conferncia, onde ele exps vrios

resultados obtidos num difratmetro comercial ao investigar o espao recproco

de amostras com camadas epitaxiais.

Intrigado com as contribuies extras de intensidades difratadas (additional

peaks), ele questiona quais informaes estariam contidas nessas contribuies

extras.

Embora parecia bvio que fossem reflexes hbridas, ele no havia

conseguido correlacionar seus resultados com a formulao matemtica que

havamos desenvolvido.

Foi somente ai que percebemos que faltava uma descrio geral do fenmeno,

ou seja, faltava descreve-lo num linguagem comum aos pesquisadores

acostumados com as tcnicas de difrao de raios X de alta resoluo, as

mesmas utilizadas para analisar o espao recproco das estruturas epitaxiais."

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Slide 5:

"A difrao de raios X num monocristal qualquer pode ser descrita pela sua

rede recproca, que uma rede discreta de pontos peridicos no espao recproco,

isto , no espao de momento onde o feixe incidente, com vetor de onda k0,

representado por uma superfcie esfrica.

O termo difrao de raios X de alta resoluo (HRXRD) designa um conjunto

de procedimentos que permitem mapear a forma de um dado ponto da rede

recproca (rlp), para da tirar informaes como tenso e mosaicidade presentes

na amostra (crystal).

Sendo que, pelo menos uns 15 anos, j existem difratmetros comerciais

aptos a realizar tais tcnicas de alta resoluo."

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Slide 6:

"At o presente momento, o espao recproco de um sistema epitaxial

camada/substrato sempre fora visualizado como uma superposio de duas

redes recprocas, uma da camada (epilayer) e outra do substrato (substrate).

De acordo com esta viso simplista, o mapeamento do espao recproco em

torno de reflexes simtricas (symmetric) permite determinar a discordncia de

rede, isto a diferena entre os parmetros de rede da camada (a) e do

substrato (a0), apenas na direo de crescimento da camada, ou seja, na direo

perpendicular ao plano da camada. Medida esta suficiente para uma

caracterizao completa apenas de sistemas sem relaxao de tenses elsticas,

ou seja, de camadas totalmente tencionadas.

Quando h relaxao total ou parcial das tenses elsticas, os parmetros de

rede da camada (a||) e do substrato (a0) na direo paralela ao plano da camada

tambm so diferentes (a|| a0). Sendo assim, o estado de relaxao somente

poder ser medido, diretamente, pelo mapeamento do espao recproco em torno

de uma reflexo assimtrica (asymmetric).

Aqui ilustramos estas duas situaes, de camada tencionada ( esquerda) e

de camada parcialmente relaxada ( direita), para o caso de substratos cbicos

orientados na direo 001 [(001) Growth]."

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Slide 7:

"Apesar da difrao de raios X de alta resoluo ser uma das ferramentas

mais utilizadas para anlise estrutural de filmes epitaxiais, e isto a pelo menos

uma dcada, o espao recproco desses materiais muito mais complexo do que

uma simples superposio de redes recprocas.

Para introduzir o quo complexo tais espao recprocos so de fato, vamos

relembrar um outro fenmeno de difrao que tambm ocorre em monocristais.

A difrao mltipla de raios X um fenmeno conhecido que ocorre em

qualquer rede recproca tridimensional.

Quando uma difrao mltipla excitada, a transferncia de momento se d

atravs de reflexes consecutivas, o que equivale a somar os vetores recprocos

dessas reflexes (P*=S+C). E, embora ela possa alterar a intensidade relativa das

reflexes Bragg, nenhum ponto extra gerado no espao recproco porque

adies de vetores recprocos sempre terminam sobre um ponto da rede recproca

j existente, ou seja P* igual a P."

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Slide 8:

"Por outro lado, quando duas redes recprocas distintas esto superpostas,

como nos sistemas epitaixiais camada/substrato, a soma de vetores recprocos

pode terminar num local vazio do espao recproco, ou seja, P* diferente de P.

Isso ocorre quando um vetor recproco da soma no pertence mesma rede

dos outros vetores. Nesses casos, pontos recprocos hbridos so gerados, como

representado aqui por esta esfera em laranja."

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Slide 9:

"Ao contabilizarmos todas as possveis seqncias de reflexes envolvendo

vetores de difrao de ambas as redes, percebemos que os pontos recprocos

hbridos formam uma sub-rede em torno de cada ponto da rede recproca do

substrato.

Para melhor visualizar isto, vamos considerar o caso de um substrato cbico,

com parmetro de rede a0, e orientao 001. Ento, a|| e a sero os parmetros

de rede da camada nas direes paralela e perpendicular ao plano da interface

camada/substrato, respectivamente.

Assumindo tambm que no existam rotaes nem tores relativas entre as

redes, os vetores de base (a*, b*, c*) de ambas as redes recprocas sero paralelos

entre si, ou seja aL*//aS*, bL*//bS*, onde o subscrito L indica camada e S

substrato.

Tomando como referncia um ponto da rede recproca do substrato, cujo

vetor de difrao P, e contabilizando em P* todas as possveis soma de dois

vetores de difrao onde apenas um deles pertena camada, teremos a posio

relativa, P, de todos os pontos recprocos hbridos em torno de P.

Ao fazer isto, obtemos que a rede recproca hbrida (HRL) uma rede de

pontos discretos, indexados por nmeros inteiros, h', k', l', e com periodicidades,

a*, b*, e c*, determinadas exclusivamente pelas diferenas entre os

parmetros de rede, ou seja, pela discordncia das redes."

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Slide 10:

"Conseqentemente, a configurao espacial da rede recproca hbrida

depende do estado de relaxao da camada epitaxial

Por exemplo, num sistema epitaxial com camada totalmente tencionada, sem

relaxao, os pontos da rede recproca hbrida (hrlp) formam uma rede

unidimensional alinhada ao longo da direo de crescimento, tanto no caso de

reflexes simtricas (002, 004 e 006) como assimtricas (224).

Isso ocorre porque no havendo discordncia de rede paralela interface (a||

= a0), as periodicidades a* e b* da rede hbrida so nulas, fazendo com que

todos os pontos hbridos com ndices h'k'l', sejam coincidentes com o ponto 00l'.

Nestes exemplos, as posies dos pontos hbridos (em laranja), com l' positivo

ou negativo, e dos ns recprocos do substrato (S) e da camada (L), foram

calculadas assumindo a maior que a0."

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Slide 11:

"Totalmente diferentes so os casos dos sistemas epitaxiais com relaxao

total ou parcial da tenso, ou seja, quando h discordncia de rede paralela

interface, isto a|| diferente de a0.

Nestes casos, a rede recproca hbrida deixa de ser unidimensional e se torna

tridimensional.

Portanto, o espao recproco de um sistema epitaxial no uma simples

superposio de duas redes recprocas. Devido aos processos de reespalhamento

dos feixes difratados, tal espao recproco se constitui de inmeros pontos em

torno de cada n da rede recproco do substrato (S).

A diferena dos pontos hbridos em relao aos ns recprocos normais esta

no fato deles somente serem excitados em valores especficos do ngulo azimutal

phi (), ou seja, do ngulo de giro da amostra em torno do vetor de difrao do

substrato."

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Slide 12:

"Uma propriedade interessante dos pontos hbridos o fato da forma deles

dependerem da presena ou no de gradientes de tenso ou composio

responsveis pelos parmetros da camada, a|| e a, variarem ao longo da

espessura da camada.

Quando isto ocorrer, os pontos hbridos devero ter um formato alongado,

direcionados de acordo com as propriedades elsticas da camada e tambm

dependendo do valor de l'.

Por exemplo, no plano l' = 0, as elongaes dos sero voltados para o n

recproco do substrato, e a dimenso da elongao depender somente da

variao do a||. "

Se existir uma discordncia desde a interface, como ilustrado aqui (figura

direita), os pontos hbridos h'k'0 sero distintos do n do substrato (em verde).

Caso contrrio (figura esquerda), dever se observar apenas uma deformao

do n do substrato.

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Slide 13:

"Aps elaborarmos esta descrio das reflexes hbridas no espao recproco,

nos lembramos de um resultado antigo [Appl. Phys. Lett. 71, 2614 (1997)], obtido

quando estudvamos os efeitos de implantao inica em semicondutores.

O mapeamento do espao recproco em torno da reflexo 004 do GaAs

mostrou, alm da contribuio esperada, uma intensidade extra (GaAs:Se) que

fora atribuda formao de uma camada do prprio GaAs, mas com clula

unitria deformada pela tenso de acomodao dos ons implantados.

Contudo, havia ficado sem uma explicao detalhada o processo pelo qual

esta intensidade extra aparecia no mapa. Suspeitamos agora que se trata de um

dos pontos hbridos com l' = 0 que ocorrem ao lado do n recproco do substrato

(S). S que neste caso, a camada deformada de GaAs fez a vez da camada

epitaxial. Esta medida talvez tenha sido uma das primeiras evidncias da

existncia da rede recproca hbrida.

Como uma concluso preliminar, diria que o espao recproco de sistemas

epitaxiais est muito mais interessante do que nunca, e que, existe muito

trabalho a ser feito para explorar o potencial deste fenmeno."

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Slide 14:

"Bom, no sei se convenci vocs da existncia da rede recproca hbrida

(HRL). Mas, independentemente de vocs acreditarem ou no, o fato que ela

existe, e aqui esta a comprovao experimental

Estas imagens so mapas recprocos em torno da reflexo 002 obtidos num

difratmetro comercial, modelo X'pert MRD Philips, numa amostra com uma

camada epitaxial de seleneto de zinco (ZnSe), de um mcron de espessura,

crescida sobre GaAs 001.

Em (a), a direo cristalogrfica 110 estava contida no plano de incidncia, a

qual a orientao mais comum quando se analisa esses materiais. Isto se deve

ao fato dos planos 110 serem planos de clivagem do substrato GaAs e, portanto,

paralelos s bordas laterais das amostras. Nesta orientao notamos que, apenas

os ns recprocos do substrato (S) e da camada (L) so excitados.

J nos outros mapas, (b), (c) e (d), obtidos para outras orientaes azimutais,

ou seja, para outros valores do ngulo phi (, slide 8) de rotao da amostra em

torno da direo 001, vrios pontos hbridos so visveis, numerados de 1 11."

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Slide 15:

"Nesta tabela, todos os pontos hbridos visveis nos mapas (slide 14) so

identificados.

As posies so condizentes com uma camada relaxada, com parmetros a||

e a muito prximos do parmetro aL esperado para o ZnSe quando livre de

tenses. Porm, a pequena diferena entre os valores destes parmetros indica

uma camada sob um mnimo de tenso residual expansiva (a|| > a).

Como a camada esta relaxada, pontos hbridos ao longo da direo 001, como

os pontos 5, 8 e 9 (slide 14), no podem ser explicados com seqncias de duas

reflexes apenas, so necessrias seqncias de trs reflexes para explica-los

(coluna P' ).

Os perfis elpticos dos pontos hbridos (nos mapas, slide 14) no so

decorrentes de gradientes de tenso, mas sim da mosaicidade da camada.

Esta fato foi constatado comparando-se as orientaes experimentais (coluna

E) dos pontos hbridos com as orientaes expiradas para o caso de existir

gradiente de tenso (coluna G) ou mosaicidade (coluna M).

Como vocs podem ver (comparando as colunas E e M), a mosaicidade era

responsvel pela forma elptica dos pontos hbridos.

Mas a exata orientao (valores de M), somente foi obtida admitindo-se uma

anisotropia espacial da mosaicidade, ou seja, que as larguras mosaicas no plano

(in-plane) e fora do plano (out-plane) da camada fossem diferentes."

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Slide 16:

"Para um dado pondo hbrido (HRLP, figura esquerda), o vetor recproco C

da camada inclinado em relao ao plano da amostra e, portanto, sensvel

anisotropia espacial da mosaicidade. Em outras palavras, a desorientao

espacial do vetor recproco da camada se projeta no plano de incidncia, dando

forma elptica os pontos hbridos.

As orientaes dos pontos hbridos (, figura no alto direita) dependem da

anisotropia mosaica de acordo com este grfico (figura em baixo direita, onde

= M).

Ao compararmos as curvas tericas com os valores experimentais (quadrados

+ barra de erro), obtemos o valor de 0,67 para a razo entre as larguras mosaicas

no plano e fora do plano (in-plane/out-plane, slide 15)*."

*
Para maiores detalhes J. Appl. Cryst. 40, 546 (2007)
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Slide 17:

"Como concluso deste tpico, sobre difrao de raios X em sistemas

epitaxiais, gostaria de enfatizar que a rede recproca hbrida existe.

E, sem uma descrio sistemtica do fenmeno, como a que descrevemos

aqui, a excitao acidental de uma reflexo hbrida pode comprometer a anlise

dos materiais mesmo por tcnicas usuais de difrao de raios X.

Por outro lado, o entendimento adequado de suas propriedades (das reflexes

hbrida) fornece informaes tridimensionais da camada, isto mesmo em

geometria de difrao simtrica e de alto ngulo.

Por exemplo, do mapa recproco de uma nica reflexo simtrica foi possvel

determinar:

-As discordncias de rede paralela e perpendicular;

-O estado de tenso;

-A ausncia de gradiente de tenso ao longo da espessura;

-E ainda, a desorientao espacial dos blocos mosaicos da camada.

Mas, o mais importante, o fato do fenmeno reflexo hbrida poder agora

ser explorado em difratmetros comerciais, ou seja, no mais necessrio

utilizar instalaes sncrotron para investigar ou empregar as reflexes hbridas

na anlise de estruturas epitaxiais. Fato este que colabora para que, com o

tempo, o fenmeno passe a ser vastamente utilizado em pesquisas aplicadas."

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Parte II

"Nesta parte da argio vou falar sobre o trabalho que estamos

desenvolvendo em fsica mdica, mais particularmente em oftalmologia

Qual a relevncia de usar a radiao X no estudo doenas oftlmicas?

exatamente esta a questo que eu gostaria de esclarecer.

Antes de iniciarmos nosso trabalho nesta rea, ningum havia se dado conta

do potencial que certas tcnicas de imageamento por raios X tm em

oftalmologia.

E, a noo de quo grande esse potencial, o que eu vou tentar expor

aqui."

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Slide 1:

"Quais doenas oftlmicas podem ser estudadas por imageamento de raios X?.

So doenas que alteram as propriedades pticas e/ou fisiolgicas dos tecidos

oculares.

Onde tecidos oculares so aqueles responsveis pelo processamento da luz visvel

dentro do olho, tais como a retina, a crnea e o cristalino.

Catarata a denominao geral dos males que acometem o cristalino, induzindo

uma perda da sua transparncia. uma das doenas mais comuns, e a lder mundial

das causas de cirurgias oftlmica, algo entre 8 a 10 milhes de cirurgias por ano. Sem

contar que, como o aumento da expectativa de vida das populaes, a incidncia da

catarata tambm tem aumentado.

Portanto, em termos de sade das populaes, existe um grande interesse por

tratamentos corretivos e/ou preventivos da catarata.

Mas, para avanarmos alm do conhecimento atual sobre a catarata, ou seja, para

que haja um maior entendimento sobre esta doena e tratamentos mais eficientes

possam ser pesquisados e desenvolvidos, novas tcnicas analticas so necessrias.

Tcnicas com sensibilidade para alteraes microscpicas em tecidos extensos, com

dimenses de dezenas de milmetros, e ainda assim aplicveis com facilidade em um

grande nmero de amostras.

Justamente a necessidade de tais tcnicas foi o que nos chamou a ateno, porque

estes pr-requisitos poderiam, a priori, serem satisfeitos pela radiao X.

O curto comprimento de onda dos raios X minimiza o espalhamento angular da

radiao pelos tecidos, o que melhora muito a razo entre resoluo-de-imagem e

penetrao. Sem conta que, vrias amostras podem ser expostas simultaneamente em

poucos minutos. "

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Slide 2:

"A catarata a opacidade do cristalino (lens), tambm chamado de lente do

olho. Do ponto de vista da fsica, essa opacidade causada pelo espalhamento da

luz visvel.

Quais os possveis centros espalhadores de luz visvel?

Quais os fatores que induzem o surgimento desses centros espalhadores?

So as grandes questes no entendimento dessa doena que ainda no esto

esclarecidas.

Portanto, h a necessidade de uma ferramenta analtica que permita

correlacionar os fatores que induzem a catarata, tais como idade, medicamentos,

diabetes, causas congnitas, e outras alteraes fisiolgicas de um modo geral,

com a natureza dos centros espalhadores."

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Slide 3:

"A olho nu, h muito espalhamento para se identificar a natureza dos centros

espalhadores.

Quando olhamos para um cristalino com catarata, vemos apenas que ele esta

opaco como na foto ao lado (figura no alto direita), mas no d para ver o que

esta causando o espalhamento da luz.

Para minimizar o espalhamento de luz visvel, procedimentos histolgicos so

necessrios, ou seja, laminar o tecido para poder analisa-lo em mais detalhes.

Com microscopia ptica (Light), tem se encontrado algumas estruturas multi-

lamelares capazes de atuarem como centros espalhadores. Sendo que a resoluo

ptica chega, no mximo, alguns micra.

Com a microscopia de transmisso de eltrons (TEM) a resoluo bem

maior, chegando a dcimos de micra.

Porm os eltrons, por serem partculas carregadas, tm uma penetrao

muita baixa no tecido, de modo que somente amostras muito finas podem ser

analisadas por TEM.

Portanto, embora ambas tcnicas de microscopia forneam informaes em

escala de micra e at de sub-micra, elas perdem a informao macroscpica, ou

seja, a informao de como as alteraes esto distribudas ao longo da extenso

dos tecidos

Isto, alm das dificuldades existentes na preparao das amostras."

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Slide 4:

"Uma alternativa tem sido a microscopia de varredura de eltrons (SEM -

scanning electron microscopy), a qual permite mapear reas relativamente

grandes, de alguns milmetros, e ainda magnificar com boa resoluo reas de

maior interesse.

O tecido do cristalino constitudo de fibras celulares. E, indcios da

compactao de fibras na catarogeneses tm sido obtidos atravs da SEM.

Mas a tcnica tambm requer um certo preparo das amostras para se expor a

superfcie a ser analisada.

Procedimento este que impede um levantamento da configurao espacial das

reas de compactao numa mesma amostra.

Deste modo, podemos concluir que, de um modo geral, as tcnicas de

microscopia ptica e eletrnica so limitadas para investigarmos a distribuio

dos centros espalhadores e as flutuaes de densidades em tecidos patolgicos

extensos, com dimenses de centmetros, ou seja, nos cristalinos inteiros."

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Slide 5:

"Por que raios X?

Quais as vantagens?

Primeiro, a penetrao da radiao X de alta energia infinitamente maior

que a de um feixe de eltrons, de modo que os raios X podem atravessar toda a

espessura das lentes.

Segundo, o espalhamento da radiao mnimo, o que favorece a resoluo

das imagens. Isto porque o ngulo de espalhamento (angular spreading) da

ordem de /D onde o comprimento de onda e D o dimetro do centro

espalhador.

Desse modo, ao passarmos da luz visvel, 500 nm, para a radiao X,

0,1 nm, o ngulo de espalhamento, por um mesmo centro espalhador, reduzido

por um fator de 5000 vezes.

Alm da absoro, a qual muito baixa mas ocorre, e do espalhamento, o

qual num jargo mais comum para quem trabalham com raio X seria o

espalhamento baixo ngulo (small angle scattering); existe ainda um terceiro

processo de interao radiao-matria que ocorre quando um feixe de raios X

transpassa uma amostra, que o fenmeno da refrao.

O fato interessante que o espalhamento ( baixo ngulo) e a refrao so

processos angularmente resolvidos.

Conseqentemente, poderamos, a princpio, mapear seletivamente

flutuaes de densidade extensas e distribuies de centros espalhadores.

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Ou em outras palavras, localizar via refrao a interface entre regies de

densidades diferentes com extenso de dezenas de micra. E, via espalhamento,

identificar a presena de partculas microscpicas.

Para se ter uma idia da resoluo angular necessria para separar os

processos de refrao e espalhamento, vamos fazer algumas estimativas.

Usando a lei de Snell, podemos calcular a deflexo de um feixe de raios X

ao cruzar a interface entre duas regies com diferena n no ndice de refrao,

como ilustrado nesta figura (figura esquerda).

Na freqncia dos raios X o ndice de refrao n, difere da unidade por uma

quantidade muito pequena, da ordem de 1,510-6 .

Isto para ftons com energia de 20keV e num meio com densidade eletrnica

(e) prxima da gua.

Nestas condies, uma flutuao de densidade da ordem de 10% produziria

ento um deflexo que pode chegar a 1 micro-radiano ( 1rad) quando o

ngulo de incidncia na interface for prximo de 90o, ou seja, quando a direo

do feixe incidente for quase tangente interface entre estas regies."

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Slide 6:

"Usando a teoria de espalhamento de raios X baixo ngulo para partculas

esfricas (small angle X-ray scattering for spherical particles), fizemos uma

estimativa de como o espalhamento da radiao depende do dimetro D dos

centros espalhadores.

Cada curva do grfico mostra a intensidade espalhada (I/I0) em funo do

ngulo de espalhamento 2. Como podemos ver, quanto menor o dimetro da

partcula, isto , do centro espalhador, maior ser o intervalo angular sob o qual

a radiao espalhada.

Se tomarmos o ngulo de espalhamento (desenho inserido) como sendo o

ngulo onde a intensidade espalhada vale 50% da intensidade mxima, ou seja,

I/I0 = 0,5, obteremos que o ngulo de espalhamento poder ser estimando pela

expresso = 0,58/D.

Ao compararmos o ngulo de espalhamento com a magnitude da deflexo

devida refrao (barra verde), vemos que, os dois efeitos so angularmente

resolvidos para centros espalhadores com dimetros menores que 20 micra (D =

20m), isto para ftons de 20keV ( = 0,062nm).

Resumindo, estes clculos mostram que, a presena de flutuaes de

densidade extensas, com dezenas de micra, podem ser identificadas pelo

fenmeno de refrao. Enquanto que, flutuaes localizadas, atuando como

centros espalhadores de pequeno dimetro, com D < 20 micra, podem ser

identificadas pelo espalhamento baixo ngulo que elas produzem."

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Tese de Livre-Docente Edital IF-011/2006 pgina 72
Slide 7:

"Sabendo-se que o espalhamento e a refrao ocorrem em intervalos

angulares distintos, a questo passa a ser como, na prtica, este fato pode ser

usado no estudo de tecidos oftlmicos.

Em outras palavras, precisamos de um sistema de imagens com resoluo

angular de micro-radianos para separarmos os dois processos.

Tal sistema de imagem existe em estaes sncrotrons, como a X15A do

National Synchrotron Light Source (NSLS) em Brookhaven, adaptada para realizar

uma tcnica de imagem conhecida por DEI - diffraction enhanced imaging, ou

imageamento com contraste acentuado por difrao.

Nesta tcnica, esquematizada aqui em acima (figura a), os raios X

transmitidos pela amostra difratam num cristal perfeito, chamado de cristal

analisador (analyzer), antes de ser captado pelo detetor de imagens (CCD).

O feixe transmitido pela amostra (figura b) contm contribuies dos trs

principais processos de interao radiao-matria que ocorrem quando o feixe

incidente (seta 0) transpassa um tecido:

- Da absoro (seta 1) que apenas reduz a intensidade do feixe direto

(retngulo preto);

- Da refrao (setas 2) que deflete, por um ngulo no muito maior que 1

micro-radiano (1rad), os raios que passam pelos contornos das flutuaes

extensas de densidade;

- Do espalhamento baixo ngulo (setas 3), gerado por centros espalhadores,

e que cobre um intervalo angular amplo, da ordem de 0,58 /D.

Tese de Livre-Docente Edital IF-011/2006 pgina 73


A imagem coletada no CCD uma convoluo do feixe transmitido (figura b)

com a curva de refletividade do analisador (figura c), cujo perfil intrnseco tem a

forma aproximada de um tringulo:

- O centro da curva (letra P) corresponde ao mximo da condio de difrao,

isto , quando o ngulo (figura a) entre o feixe transmitido e o analisador igual

ao ngulo de Bragg B;

- Os ombros da curva (letras S) so as posies onde a intensidade refletida

metade do valor mximo. Tal que, a diferena angular da condio de Bragg, =

- B, vale metade da largura total meia altura (FWHM) da curva de

refletividade. Esta largura igual a 3,5 micro-radianos na montagem disponvel

na X15A para ftons de 20keV;

- Nos extremos da curva (letras T) a intensidade refletida menor que 2% da

intensidade mxima, e a diferena angular maior a largura total da curva.

Deste modo, dependendo da posio angular do analisador, podemos

seletivamente acentuar uma ou outra contribuio do feixe transmitido.

Nos extremos (T), os nicos raios refletidos pelo analisador na direo do

CCD so aqueles espalhados por pequenos centros espalhadores. Deste modo, os

extremos da curva de refletividade so sensveis ao espalhamento ( baixo

ngulo), e de onde vm as principais contribuies s imagens de espalhamento

das amostras.

Os ombros (S) so muito sensveis pequenas deflexes dos raios, por

exemplo, uma deflexo de 1 micro-radiano causa uma variao da ordem de 30%

na intensidade do feixe refletido. Portanto, dos ombros da curva temos

contribuies s imagens de refrao.

Tese de Livre-Docente Edital IF-011/2006 pgina 74


O centro da curva (P) apresenta forte sensibilidade perda de intensidade do

feixe direto, ou seja, do feixe transmitido sem sofrer deflexo. Sendo assim, as

imagens de absoro contm informao:

- da absoro de massa, ou absoro fotoeltrica, a qual muito baixa para

tecidos biolgicos;

- e uma outra informao, equivalente quela disponvel nas imagens de

espalhamento, pois os centros espalhadores, ao espalharem a radiao num

intervalo angular relativamente amplo (setas 3) em relao largura total da

curva de refletividade, reduzem a intensidade do feixe direto."

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Slide 8:

"As primeiras tentativas de imagear cristalinos de mamferos, tais como

cachorro, porco, cavalo e coelho, foram no Laboratrio Nacional de Luz

Sncrotron (LNLS), em Campinas, numa montagem provisria adaptada estao

XRD2 pelo grupo de tica de raios X da Universidade Federal do Paran.

Caractersticas tcnicas da fonte sncrotron limitam a mxima energia de

ftons pouco mais de 10keV, acima da qual o fluxo de ftons cai abruptamente.

A baixa energia, combinada com detalhes particulares da montagem

instrumental, impediram que lentes inteiras fossem imageadas, de modo que foi

necessrio fatia-las para que imagens como as mostradas aqui fossem obtidas.

Alm disso, a curva de refletividade do analisador era muito larga, com 50

micro-radianos, o que reduzia muito a sensibilidade do arranjo ao efeito de

refrao.

Mesmo assim, conseguimos realizar alguns trabalhos [J. Phys. D: Appl. Phys.

38, A85 (2005); Nucl. Instr. Meth. B 238, 28 (2005)] que foram importantes por

abrirem caminho para os experimentos que realizaramos no sncrotron de

Brookhaven."

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Slide 9:

"As primeiras imagens de lentes inteiras foram obtidas na estao X15A (slide

7), com ftons de 20keV

Nas imagens de cima temos uma lente sadia (imagem a) e uma lente com

catarata (imagem b), ambas expostas no ar.

Devido diferena de densidade eletrnica entre o ar e as lentes, ocorre um

espalhamento significante de radiao na interface ar/lente. De modo que, o que

vemos nestas duas primeiras imagens, a e b, basicamente a morfologia das

superfcies das lentes.

Podemos ver que a lente sadia apresenta uma superfcie mais lisa do que

daquela com catarata, a qual parece estar mais enrugada.

Embora exposies no ar forneam informaes morfolgicas da superfcie,

nosso objetivo era analisar o interior das lentes. Para tal utilizamos um recurso

comum quem trabalha com DEI, o qual consiste em expor as amostras imersas

em gua, reduzindo assim a diferena de densidade entre o meio externo e o

tecido e, conseqentemente, eliminando o espalhamento da superfcie.

Por meio deste recurso conseguimos obter imagens do interior das lentes,

como visto nestas imagens de baixo, das mesmas lentes mostradas em a e b, mas

que agora foram expostas imersas em gua. Na lente sadia (imagem c)

constatamos apenas que o tecido no interior da lente tem densidade uniforme,

como era de se esperar.

Nossa surpresa foi quando olhamos a lente com catarata (imagem d). Num

primeiro instante achamos que tinha alguma coisa errada com o CCD, como se

alguns pixels estivessem queimados

Tese de Livre-Docente Edital IF-011/2006 pgina 79


Levou alguns tempo at nos darmos conta de que estvamos vendo algo que

ningum havia visto antes,

E de que, todas as estruturas observadas nesta imagem (imagem d) existiam

de fato dentro da lente, mas que no eram visveis a olho nu e nem com raios X

quando a lente era exposta no ar (imagem b). "

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Slide 10:

"Vamos olhar estas estruturas internas na lente com catarata em mais

detalhes:

- Na imagem de refrao (imagem d), obtida no ombro da curva de

refletividade do analisador ( = -1.2rad, slide 7), podemos ver que as estruturas

tm um cerne com densidade uniforme capaz de refratar os raios X, criando estas

sombras na parte de baixo delas e dando esta aparncia de textura em relevo que

observada aqui.

- Na imagem de espalhamento (imagem a), obtida na cauda da curva de

refletividade ( = -4.5 rad, slide 7), vemos claramente um forte espalhamento

(de baixo ngulo) em torno das estruturas, como se elas fossem constitudas a

partir de aglomerados de pequenas partculas que se coalesceram na regio

central de cada uma delas para formar um cerne de densidade uniforme, capaz

de refratar os raios X como observado na imagem de refrao (imagem d).

A alta densidade das estruturas foi evidenciada via imagem de absoro de

massa (mass aborption image, canto inferior esquerdo na imagem b), assim como

atravs de uma radiografia convencional (imagem b), obtida colocando-se um

image plate entre a amostra e o cristal analisador.

A exposio lateral da amostra usada aqui (imagem b) para comprovar que

as estruturas estavam localizadas em torno do ncleo da lente.

Estas imagens indicam que, as estruturas so devido algum processo de

mineralizao do tecido, provavelmente uma calcificao

Tese de Livre-Docente Edital IF-011/2006 pgina 82


Mas, isto somente poderia ser confirmado com uma anlise elementar, a qual

foi realizada posteriormente no sncrotron de Campinas, via micro-fluorescncia

de raios X, que comprovou a calcificao do tecido.

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Slide 11:

"A amostra com tecidos calcificados na regio nuclear (slide 10) era uma

catarata hipermatura, que quando a remoo cirrgica da lente ocorre muito

depois do animal ter perdido a viso.

Na maioria dos casos, as calcificaes esto mais limitadas ao crtex das

lentes, como nestas imagens de refrao (imagem de cima esquerda) e

espalhamento (imagem de baixo esquerda) de uma lente com catarata parcial

onde apenas uma regio do tecido esta comprometida. No restante da lente o

tecido continua sadio.

As bolinhas de ar (air bubble) vista nas imagens ( esquerda) apresentam um

contraste de refrao oposto ao que se observa no tecido calcificado, ou seja, na

imagem de refrao (em cima esquerda) a sombra aparente das bolhas e das

calcificaes ocorrem em lados opostos. Isto outra evidncia da maior

densidade do tecido calcificado em relao ao tecido sadio.

Ao lado ( direita) mostramos dois outros casos de catarata parcial onde a

srie de imagens, em vista lateral, foram coletadas em diferentes posies da

curva de refletividade do analisador. De cima para baixo, temos as imagens com

acentuadas contribuies de espalhamento (-3.2), refrao (-1.2), absoro (-0.2),

espalhamento + refrao (1.8) e somente espalhamento (6.8).

Mesmo distante 6,8 micro-radianos do centro da curva de refletividade, ainda

existe algum espalhamento de baixo ngulo chegando no detetor. Usando a

relao do ngulo de espalhamento em funo do dimetro do centro espalhador,

podemos estimar um dimetro mnimo da ordem 5 micra (D=5m).

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Slide 12:

"Alm dos casos de catarata parcial com calcificao no crtex das lentes,

tambm encontramos casos de catarata total mas sem calcificaes, como nestes

4 casos mostrados aqui:

- Nas imagens de espalhamento (imagens de cima: e, i, j, k) identificamos

tanto distribuies dispersas de centros espalhadores, como visto neste primeiro

caso (imagem e), assim como distribuies mais localizadas tanto ao longo do

dimetro como do permetro das lentes (imagens i, g, k)

- Nas imagens de refrao (imagens de baixo: f, j, h, l) vemos essencialmente

padres de sombras como que em torno de sulcos no tecido. A origem dos 'sulcos'

se deve provavelmente alguma forma de compactao de fibras, suficiente para

gerar flutuaes de densidade por extensas reas das lentes."

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Slide 13:

"Um dos modos de entender como a compactao das fibras produz os

contrastes ao longo dos sulcos seria assumindo, por exemplo, uma compactao

transversal das fibras como se elas estivessem sendo pressionadas (figura a) ou

curvadas (figura b).

Como calculamos antes, uma compactao de 10% j seria suficiente para

gerar uma deflexo da ordem do valor observado, em torno de 1 micro-radiano.

Quando o cristal analisador estiver posicionado no ombro esquerdo da curva

de refletividade (left shoulder of the analyzer window):

- Os raios refratados para cima se afastam do centro da curva (A' < 0),

sendo portanto refletidos com menor intensidade na direo do detetor,

produzindo assim o contraste claro;

- Enquanto que os raios refratados para baixo se aproximam do centro da

curva (A' > 0) e produzem o contraste escuro."

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Slide 14:

"O problema deste modelo de compactao transversal das fibras (slide 13)

que ele muito simule e impossibilita explicar a evidente correlao que existe

entre a orientao preferencial dos sulcos (low-density fissure), com um orientado

a 120 graus do outro (imagem em baixo direita), e a organizao das fibras no

crtex das lentes (figura esquerda).

As lentes de mamferos tm uma organizao conhecida por sutura Y, como

ilustrada aqui (figura a), na qual as extremidades das fibras emendam-se umas

s outras ao longo das linhas pontilhadas passando por A. Isto ocorre tanto na

parte frontal como na parte posterior das lentes.

A forma prismtica da seo transversal das fibras permite que elas se

encaixem lateralmente umas s outras sem deixar espaos vazios entre elas, fato

este responsvel por atribuir uma densidade uniforme ao tecido das lentes.

Porm, no ocorrem suturas ao longo das fronteiras laterais das fibras, de

modo que menos fora requerida para separa-las lateralmente do que ao longo

do comprimento delas.

Deste modo, nas reas B, onde as fibras fazem apenas fronteiras laterais

entre si sem ocorrncia de suturas, so muito mais sujeitas ao surgimento de

fissuras no tecido do que nas reas A.

Imaginem agora que, por alguma alterao fisiolgica, as fibras do crtex

sofram uma reduo do comprimento e da rea transversal.

Pelo fato delas terem suturas resistentes, tanto na frente como na parte

detrs, a reduo do comprimento obrigatoriamente foraria as fibras a se

Tese de Livre-Docente Edital IF-011/2006 pgina 91


compactarem da direo das reas A, gerando assim fissuras de baixa densidade

nas reas B.

Os raios X, ao passarem por uma fissura, enxergaro duas reas de

compactao com orientaes opostas, como ilustrado aqui (figura b), as quais

refratam os raios em direes opostas explicando assim o contraste claro/escuro

das fissuras.

Este mecanismo de induo de fissuras, alm de fornecer um explicao para

o contraste nas imagens de refrao, pode tambm explicar o espalhamento de

baixo ngulo observado ao longo das fissuras nas imagens de espalhamento

(imagens e, i, j, k; slide 12).

Em torno de uma fissura, as fibras teriam tamanhos diferentes devido aos

diferentes estados de compactao ou trao que elas se encontram.

As diferenas de tamanho induz defeitos no emparelhamento lateral das

fibras, e tais defeitos teriam assim dimenses da ordem da seo transversa das

fibras, as quais variam entre 2 a 7 micra.

Portanto, defeitos no emparelhamento lateral da fibras podem, em princpio,

atuarem como centros espalhadores situados ao longo das fissuras.

Um centro espalhador de 5 micra produz um espalhamento de raio X de

apenas alguns micro-radianos, ou seja dcimos de milsimos de grau, mas que

na regio do visvel a magnitude deste espalhamento seria em torno de 6 graus.

Valor mais do que suficiente para comprometer a viso*."

*
O comprometimento da viso foi estimado tomando-se a distncia intraocular cristalino-retina
com sendo 1cm. Ento um ngulo de espalhamento de 6o produzira um boro na retina com
2mm de dimetro, valor comparvel extenso da retina que tambm da ordem de milmetros.
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Slide 15:

"Imageamento por raios X sncrotron, ou DEI, revela a ocorrncia de leses

em toda a extenso das lentes, permitindo localizar tecidos calcificados tanto no

crtex como no ncleo, assim como extensas das reas de compactao de fibras.

Isto abre caminho para um novo esquema de classificao da catarata.

Atualmente temos somente a classificao oftlmica, a qual leva em conta apenas

o tempo de instalao da doena, ou seja, imatura, matura e hipermatura, e o

grau de comprometimento parcial ou total da viso.

Atravs de DEI podemos agora reclassificar os casos de catarata em termos

da ocorrncia ou no de calcificaes e/ou de compactaes de fibras, e ainda em

termos das respectivas regies das lentes afetadas por estas leses.

Entre os casos que analisamos, em torno de 60 casos, obtivemos duas

correlaes diretas:

- Uma entre catarata parcial e calcificao cortical;

- E outra, entre catarata total matura, sem predominncia de calcificaes, e

a compactao de fibras revelada pelas fissuras visveis nas imagens de refrao.

Falta ainda correlacionarmos, os tipos de leses com os agentes indutores e

as espcies de mamferos susceptveis s leses.

Por exemplo, correlacionarmos a presena de tecidos calcificados com

alimentao rica em clcio, o que talvez seja o caso das lentes caninas utilizadas

neste estudo.

Tambm temos ainda que entender quais mudanas fisiolgicas poderiam

promover uma reduo do tamanho das fibras, e quais as potenciais causas

dessas mudanas fisiolgicas.

Tese de Livre-Docente Edital IF-011/2006 pgina 94


Por exemplo, diabetes ou fatores genticos talvez induzam uma desidratao

das fibras, levando a uma reduo no tamanho delas e perda da viso pela

compactao no uniforme das fibras e ocorrncia das fissuras.

Uma abordagem multi-disciplinar importante para um entendimento amplo

de todos os aspectos da doena:

- Procedimentos histolgicos que permitam uma anlise microscpica do

tecido;

- Espectroscopia Raman e ultravioleta para identificar alteraes a nveis

moleculares;

- E fluorescncia de raios X para monitorar flutuaes dos elementos traos

na catarogeneses."

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Slide 16:

"Entre alguns resultados preliminares que realizamos com outras tcnicas

esto:

- A assinatura Raman do tecido sadio das lentes [Laser Phys. Lett. 2, 415

(2005)] para alguns mamferos que podero ser utilizados no estudo da catarata.

- A presena majoritria de clcio na mineralizao do tecido cortical das

lentes, caracterizada via micro-fluorescncia de raios X sncrotron (LNLS), e

quantificao de elementos traos, com radiao convencional, em colaborao

com o Centro de Fsica Atmica da Univ. de Lisboa e suporte do Projeto de

Colaborao Internacional CAPES/CRIGES (proc. No. 140/05). Estudos estes

que devero ser parte do trabalho de mestrado de Wagner Fazio.

- Medidas de alta resoluo dos arranjos e dimenses das fibras celulares via

microscopia de fora atmica [Micron, in-press*], afim de atestar a possibilidade de

estudar tecidos oftlmicos por esta tcnica e, assim, usufruir das facilidades que

a tcnica oferece no requisito preparao de amostras; isto quando comparado

com as condies de vcuo necessrias para anlise de alta-resoluo via

microscopia eletrnica. O estudo da catarata por microscopia de fora atmica,

juntamente com anlises histolgicas comparativas, consistem no projeto de

mestrado da Fernanda (Fernanda Virgnia Gozzo), e dever estar concludo em

2008."

*
No ato da transcrio desta arguio, a referncia do artigo j era conhecida:
Micron 38, 286 (2007).
Tese de Livre-Docente Edital IF-011/2006 pgina 97
Parte III

"No ltimo tpico desta argio vou falar um pouco sobre aplicaes da

difrao de 3-feixes:

- Tanto em cristalografia, no problema da fase em determinao de

estruturas cristalinas;

- Como em nanotecnologia, na anlise de dispositivos semicondutores

nanoestruturados.

E vou falar tambm, do estudo de filmes amorfos nanoestruturados via

refletometria de raios X."

Tese de Livre-Docente Edital IF-011/2006 pgina 98


Tese de Livre-Docente Edital IF-011/2006 pgina 99
Slide 1:

"O grande diferencial da difrao de raios X de 3-feixes, em relao a

qualquer outra tcnica de difrao de raios X utilizada em determinao de

estruturas, esta no fato dela fornecer uma informao absoluta sobre a estrutura

cristalina, ou mais precisamente, sobre o arranjo atmico dentro do elemento de

periodicidade da rede cristalina.

Tal informao absoluta conhecida como fase de tripleto, a qual invariante

com relao ao ponto, ou tomo, que tomamos como origem da clula unitria.

A fase de tripleto nada mais do que a diferena de fase entre dois campos

de onda, DA e DBC, que se propagam na mesma direo dentro do cristal quando

este colocado na condio de difrao de 3-feixes: k0, kA e kB;

O que simplesmente a condio angular onde duas reflexo, A e B, difratam

simultaneamente o mesmo feixe incidente k0.

Na prtica, a fase de tripleto um dos fatores que determinam como a

intensidade de uma destas reflexes simultneas, no caso ilustrado aqui, da

reflexo A, ser modulada ao excitarmos a outra reflexo, no caso a reflexo B,

pela rotao do cristal em torno do vetor de difrao da primeira reflexo, i.e. da

reflexo A.

Notem que, se no houvesse uma reflexo secundria, B, a intensidade da

reflexo A seria constante em funo da rotao .

Porm, quando o n recproco da reflexo B cruzar a esfera de Ewald (Ewald

sphere), o campo DBC gerado pelo reespalhamento do feixe secundrio, kB, na

reflexo de acoplamento C.

Tese de Livre-Docente Edital IF-011/2006 pgina 100


Ou seja, o campo de onda DBC surge devido seqncia de reflexes B+C

dentro do cristal.

Aqui ao lado (no alto direita) mostramos alguns exemplos de como o valor

da fase de tripleto (T = 0o, 180o, 90o, -90o, ) afeta a modulao da intensidade

monitorada, i.e. da intensidade da reflexo A, em funo da rotao .

Portanto, determinar experimentalmente o valor da fase de tripleto via

difrao de 3-feixes significa, reproduzir a modulao de intensidade, ou perfil de

interferncia, com uma incerteza mnima do valor da fase.

Fazer isto, extrair valores das fases de tripleto destes perfis, o que vinha

sendo tentado desde que tal possibilidade fora sugerida na dcada de 70.

Nossa primeira contribuio nesta rea de pesquisa foi propor o uso da

polarizao linear da radiao sncrotron [Acta Cryst. A57, 192 (2001); Phys. Rev.

Lett. 89, 015501 (2002)] como recurso para ajustar a intensidade relativa das

ondas, DA e DBC, de modo a aumentar a sensibilidade do perfis de interferncia

ao valor da fase (de tripleto).

Era a princpio uma idia simples, onde o mximo de resoluo de um padro

de interferncia entre duas ondas ocorre quando estas duas ondas tm

amplitudes de mesma magnitude.

Porm ao medirmos os perfis em funo do ngulo de polarizao linear ()

notamos que nenhumas das teorias usadas para descrever o fenmeno da

difrao de 3-feixes eram capazes de reproduzir tal conjunto de perfis.

Uma das razes desta discrepncia talvez seja o fato das teorias no levarem

em conta a perda parcial de coerncia entre as ondas difratadas, quer seja por

imperfeies cristalinas, ou por caractersticas da fonte de radiao.

Tese de Livre-Docente Edital IF-011/2006 pgina 101


O fato era que, mesmo se soubssemos como levar tudo em conta para

reproduzirmos os perfis com exatido, ainda existiriam variveis com valores

desconhecidos, os quais comprometem significantemente a acurcia na medida

da fase (de tripleto); a no ser nos casos de cristais com estrutura conhecida.

Alm disso, uma expresso muito complexa poderia inviabilizar a anlise dos

perfis experimentais via ajuste de curvas por rotinas comparativas.

Portanto, optamos por uma equao paramtrica que fosse relativamente

simples e rpida em termo computacionais para fazer a anlise de dados.

O uso desta equao paramtrica e procedimentos de coleta de dados com

objetivo de determinao de fase foram temas de mais alguns artigos nesta rea

de pesquisa [J. Synchrotron Rad. 10, 236 (2003); Acta Cryst. A59, 470 (2003), Nucl.

Instrum. Meth. B (2005a)*]."

*
Nucl. Instrum. Meth. B 238, 180 (2005).
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Tese de Livre-Docente Edital IF-011/2006 pgina 103
Slide 2:

"Faseamento completo de cristais via difrao de 3-feixes j tinha, mesmo

antes dos nossos trabalhos, um limite intrnseco que era o pequeno nmero de

casos (de difrao de 3-feixes) cujas fases (de tripleto) poderiam ser, de fato,

medidas.

Ao incluirmos a polarizao mostramos que, alm dos poucos casos viveis

para faseamento, seria tambm necessrio medir os perfis das difraes de 3-

feixes em funo da polarizao. Isto se, um mnimo de acurcia no valor da fase

fosse desejado.

Caso contrrio, sem uma estimativa da intensidade relativa das ondas

simultaneamente difratadas (DA e DBC, slide 1), somente podemos determinar o

valor da fase como sendo 0 90o ou 180o 90o.

Contudo, em muitos estudos, um nico valor de fase de tripleto, quando

medido com boa acurcia, pode ser suficiente para um melhor entendimento da

estrutura atmica dos cristais.

Por exemplo, variaes nos valores das fases (de tripleto) devido ao efeito de

ressonncia atmica podem ser diretamente observadas nos perfis de

interferncia das difraes de 3-feixes, como mostrado aqui [Nucl. Instrum. Meth. B

(2005b)*], onde um nico caso de difrao de 3-feixes analisado em funo da

polarizao (, 30o, 45o, 60o, ) e da energia (10300 eV, 10350 eV, 10400 eV) em

torno da borda de absoro do glio (10370 eV) num cristal de antimoneto de

glio (GaSb).

*
Nucl. Instrum. Meth. B 238, 175 (2005).
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Na polarizao , o plano de incidncia da reflexo primria est na posio

horizontal. Ou seja, o campo eltrico da onda de raios X incidente est contido no

plano que contm o detetor, o vetor de difrao da reflexo A (slide 1), e tambm

o eixo da rotao em torno do qual giramos o cristal para excitar a reflexo

secundria B (slide 1).

Nesta polarizao, , temos um mnimo de interferncia porque a reflexo

primria, cuja intensidade a linha de base de cada varredura , muito fraca.

Fato este que nos fornece as melhores condies para estimarmos a intensidade

relativa das ondas.

No caso particular desta difrao de 3-feixes, o mximo de interferncia entre

as ondas, isto , quando elas tm magnitudes de mesma ordem, ocorre na

polarizao , plano de incidncia vertical, como vemos pela amplitude dos perfis

de interferncia.

A variao no valor da fase de tripleto atravs da borda do glio evidente

quando comparamos os perfis obtidos com polarizao nas energias de 10350 e

10400 eltron-volts.

Mas, embora esta variao seja evidente, nosso problema era como

determinar, com acurcia, este tipo de efeito. Em outras palavras, com qual

preciso poderamos determinar os valores das fases deste perfis? "

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Slide 3:

"O maior mrito, na minha opinio, do nosso trabalho em faseamento via

difrao de 3-feixes esta no procedimento de anlise de dados que propusemos.

Com tal procedimento fomos capazes no somente de obter boas estimativas

dos valores de fase, mas tambm, de determinar com exatido a acurcia desses

valores. Ou seja, colocamos barras de erro nos valores das fases (de tripleto),

coisa que at ento no existiam.

Isto foi possvel porque conseguimos resumir numa nica equao, todos os

parmetros que afetam os perfis de interferncia.

O perfil intrnseco (intrinsic profile) essencialmente a expresso de

interferncia de duas ondas, da onda primria, D1 (= DA, slide 1), e da onda

secundria, D2() (= DBC, slide 1), a qual dada em funo do ngulo de rotao

do cristal (= , slide 1). A nica diferena o parmetro csi (), o qual

introduzimos para levar em conta a perda de coerncia entre as ondas. Notem

que, se csi igual a zero (=0) o perfil ser apenas uma superposio de

intensidades sem nenhum efeito de interferncia, ou seja, ser um pico

Lorentziano superposto intensidade primria.

As direes dos campos destas ondas dependem da polarizao da onda

incidente, mas isto fcil de ser calculado.

Os outros parmetros que determinam o perfil intrnseco entram na

expresso do campo da onda secundria, D2(), os quais so: amplitude relativa

R, largura intrnseca wS, posio azimutal 0, e a fase de tripleto .

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A funo do perfil terico, P(), ento obtido pela convoluo do perfil

intrnseco com uma funo Guassiana, cuja largura wG leva em conta tanto a

largura instrumental com a mosaicidade do cristal.

Deste modo, ficamos com uma equao que tem 6 parmetros ajustveis (wS,

R, , wG, , 0) para reproduzirmos um dado perfil experimental, onde a fase (de

tripleto) apenas um desses parmetros.

O procedimento que adotamos para determinar a fase foi fixar seu valor e

tentar reproduzir o perfil experimental ajustando os 5 parmetros restantes.

Obtnhamos assim curvas da qualidade do ajuste em funo da fase, como estas

curvas (grficos a e b) de minimizao da diferena entres os perfis simulado e

experimental (absolute-mean deviation versus triplet phase).

Dentre todos estes parmetros, o parmetro R, o qual esta associado

intensidade relativa das ondas, o que mais compromete a acurcia dos valores

da fase, ou seja, quanto maior a incerteza em R, maior o erro no valor da fase.

Dai a importncia de medirmos um mesmo perfil de interferncia em

polarizaes diferentes.

Na prtica, o erro no valor da fase corresponde ao conjunto de valores para os

quais o melhor ajuste possvel alcanado, ou seja, o erro dado pela largura do

mnimo das curvas de minimizao, como por exemplo nestas curvas (grfico a)

As curvas de baixo (grfico b) so do caso (de difrao de 3-feixes) mostrado

anteriormente (slide 2). Delas obtemos a variao da fase de tripleto em funo

da energia: 60o10o para 10300 eV, 70o10o para 10350 eV, e 85o2o para 10400

eV."

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Slide 4:

"Para reproduzir os perfis experimentais foi necessrio empregarmos uma

rotina de ajuste de curvas que, inequivocamente, convergisse sempre para o

mnimo global da funo hexadimensional, E(p), usada para descrever a

qualidade do ajuste.

Como os 6 parmetros (wS, R, , wG, , 0) no so independentes, ou seja, a

variao de um pode ser compensada pela variao de outro, tivemos que optar

por um algoritmo gentico.

Aqui temos uma demonstrao visual da eficincia do algoritmo para

encontrar o mnimo global desta superfcie com dois mnimos prximos. Como

vocs podem ver nesta figura animada, as solues rapidamente convergem para

o mnimo da superfcie sem ficar preso no mnimo local mais raso.

Usando um processador de 1.6GHz, o ajuste de um nico perfil leva poucos

segundos, dependendo do valor da largura instrumental, wG, a qual implica

numa convoluo numrica com mais ou menos pontos.

J as curvas da funo-erro E(p) versus a fase de tripleto (grficos a e b, slide

3), com 37 pontos, so obtidas em alguns minutos.

Bom, o que apresentei para vocs foi o procedimento que desenvolvemos

para analisar os perfis de interferncia da difrao de 3-feixes, tendo como

objetivo extrair valores da fase de tripleto com boa acurcia.

Porm, em algum instante, percebemos que alm do valor da fase, um outro

parmetro tinha significado fsico, e poderia ser til em alguns estudos.

Este outro parmetro que estou falando a posio azimutal, 0, da difrao

de 3-feixes.

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Com uma funo de perfil de linha capaz de extrair a posio azimutal das

difraes 3-feixes com preciso, mesmo no caso de perfis assimtricos, tnhamos

em mos ento, um mtodo ultra-preciso para se determinar parmetros de rede

em monocristais."

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Slide 5:

"Alm da descrio no espao recproco, a geometria da difrao de 3-feixes

tambm pode ser visualizada no espao direto via cones de Bragg.

Ao incidirmos um feixe de raios X pela geratriz comum a dois cones de Bragg,

estaremos excitando uma difrao de 3-feixes, ou seja, as duas reflexes,

representadas aqui por P e S, estaro difratando simultaneamente o mesmo feixe

incidente.

A rotao do cristal em torno do vetor de difrao da reflexo P, chamada

de reflexo primria por conveno, excitar portanto a reflexo secundria S

duas vezes: uma quando o feixe passa de fora para dentro (OUT-IN) do cone da

reflexo S (cone verde), e outra ao sair (IN-OUT) do cone. Isto assumindo a

rotao do cristal no sentido horrio, de modo que o feixe de raio X percorre o

cone primrio (azul) em sentido oposto.

A distncia angular 2, medida sobre o cone primrio, entre estas duas

posies, OUT-IN e IN-OUT, onde uma mesma difrao de 3-feixes ocorre,

fornece, a princpio, um valor preciso do parmetro de rede do cristal.

Porm, mesmo tendo em mos um funo de perfil de linha [P(), slide 3, com

= ] capaz de levar em conta a assimetria dos perfis de interferncia observados

nas interseces dos cones, faltava ainda resolver dois outros problemas:

- A preciso mecnica da rotao por intervalos grandes, de dezenas de

graus;

- E o fato de que, na prtica, sempre existe um desalinhamento residual

entre o vetor de difrao primrio (P) e o eixo ( z ) da rotao do gonimetro."

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Slide 6:

"Aqui temos o exemplo de uma varredura , que tambm chamada de

varredura azimutal (azimuthal scan) ou ainda de varredura Renninger, onde a

reflexo primria a reflexo 002 do GaAs, cuja intensidade corresponde linha

de base desta varredura.

Os picos de intensidade indicam ocorrncias de difraes de 3-feixes,

algumas das quais coincidentes.

Por motivos histricos, quando a difrao de 3-feixes claramente contribui no

sentido de aumentar a intensidade primria, ou seja, ela aparece como um pico

positivo sobre a linha de base, como nos casos vistos nesta varredura, chamamos

de umweg, que uma abreviao do termo umweganregung usado para

denominar o fenmeno pela primeira vez [Renninger 1937].

Os umwegs 4 e 5 tm reflexes secundrias da famlia 111. Numa varredura

de 360 graus, haver 8 destes umwegs, correspondendo s posies OUT-IN e IN-

OUT de quatro reflexes secundrias desta famlia (111, 1 1 1, 1 1 1, 1 11).

Por exemplo, os umwegs 1 e 4 correspondem entrada e sada da mesma

reflexo secundria 1 11 na esfera de Ewald (slide 1), ou seja, posies OUT-IN e

IN-OUT (slide 5), respectivamente.

Nosso objetivo era medir as posies destes umwegs intensos afim de

determinar tenses superficiais induzidas na rede cristalina do GaAs quando este

usado de substrato para crescimentos epitaxiais."

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Slide 7:

"Para fazer isso, nosso primeiro passo foi aprender como utilizar a equao

paramtrica, ou funo de perfil de linha (line-profile function) empregada

anteriormente em determinao de fase, mas agora com o objetivo de medir as

posies (0) dos umwegs sem que a assimetria deles comprometesse as medidas.

A concluso foi mais ou menos obvia

Os erros nos valores das posies ocorriam somente quando ignorvamos a

assimetria dos umwegs, mesmo quando esta era to pouca quanto vista aqui

(figura a).

Ao fixarmos a fase em +90 ou -90 graus ( = 90o), ou ao zerarmos csi ( = 0),

o perfil intrnseco uma Lorentziana, que uma funo simtrica em relao ao

centro do pico.

Portanto, o nico detalhe no qual precisvamos prestar ateno era

identificar se o valor da fase estava no intervalo 0 90o ou 180o 90o.

Feito isso, e deixando livre os outros parmetros da equao, o algoritmo de

ajuste de curvas fornecia valores da posio 0 com uma variao, entre um

ajuste e outro, muito menor que a acurcia mecnica nominal do gonimetro

usado nas medidas.

A importncia de poder levar em conta a assimetria dos perfis estava no fato

de que, sem fazer isto, obtnhamos parmetros de rede com valores um pouco

diferentes, mas fora das barras de erro, ao medirmos reflexes em direes

ortogonais.

Isto ocorria porque, embora os umwegs investigados sejam originados por

reflexes da mesma famlia 111, o fato do GaAs ser um cristal sem centro de

Tese de Livre-Docente Edital IF-011/2006 pgina 117


inverso implica que as fases de tripleto tero magnitudes diferentes quando os

efeitos de ressonncia atmica no forem totalmente desprezveis.

Para ftons de 9320 eltron-volts, os umwegs com componentes ao longo da

direo 110 (umwegs 2, 3, 6 e 7, slide 6) tm a mesma fase de 83,3 graus [(1,1,1)

or (-1,-1,1) -> = +83.3o], mas os outros umwegs, com componentes ao longo da

direo 1 1 0 (umwegs 1, 4, 5 e 8, slide 6) tm fase de -87 graus [(-1,1,1) or (1,-

1,1) -> = -87.0o].

Quanto mais prximo de zero, ou de 180 graus, o valor da fase, maior a

assimetria do perfil (slide 1), como pode ser claramente visto aqui (figuras b e c)

ao superpormos os perfis medidos nas posies de OUT-IN e IN-OUT.

Na figura b a assimetria dos perfis com fase de 83,3 graus evidente,

enquanto que na figura c os perfis com fase de -87 graus praticamente no

apresentam assimetria.

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Slide 8:

"Uma vez aprimorado o mtodo para medir com preciso as posies

azimutais dos umwegs, escolhemos um conjunto de amostras preparadas

sistematicamente para o estudo que tnhamos em mente.

Queramos entender em qual etapa do processo de preparao de dispositivos

com pontos qunticos (QDs) cobertos, era introduzida uma tenso residual que

havamos observado antes com esta mesma tcnica.

O sistema em questo eram pontos qunticos de arseneto de ndio, InAs,

crescidos por MBE (molecular beam expitaxy) sobre substrato de GaAs 001 e

cobertos com uma fina camada (cap-layer) de GaAs.

As 6 amostras usadas no estudo, esquematizadas aqui, representam as

diferentes etapas do processo de crescimento:

- Temos somente o substrato comercial (substrate) (1);

- Depois o substrato somente com a camada-tampo (buffer-layer) (2);

- Depois amostras com alta (3) e baixa (4) densidades de pontos qunticos

expostos;

- E por fim as mesmas amostras 3 e 4, mas agora com os pontos qunticos

cobertos (3 5, 4 6) por 30 nanometros de GaAs."

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Slide 9:

"A motivao em tentar determinar as tenses residuais no processo de

cobrimento dos pontos qunticos, reside na possibilidade de que, dependendo da

forma e densidade dos pontos qunticos (dots), o cobrimento deles pode favorecer

ainda mais a difuso do ndio no dispositivo e com isso contribuir para reduzir a

atividade ptica das nanoestruturas aps o cobrimento.

A tenso residual nestes sistemas foi um dos temas discutidos na quinta

conferncia internacional em dispositivos e estruturas de baixa dimenso (5th

Conference on Low Dimensional Structures and Devices), quando apresentamos os

resultados obtidos para uma nica amostra com pontos qunticos cobertos.

Em funo disso, elaboramos este conjunto de amostras (slide 8) e o projeto

de pesquisa para o doutorado do Raul (Raul O. Freitas)."

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Slide 10:

"Atravs da microscopia de fora atmica (AFM), podemos 'ver' os pontos

qunticos expostos.

Tanto na amostra com alta densidade (imagem #3) como na amostra com

baixa densidade (imagem #4) de pontos qunticos."

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Slide 11:

"Durante o alinhamento da reflexo 002 do GaAs com o eixo de rotao do

gonimetro, notamos uma dependncia significante do perfil da curva de

refletividade (rocking-curve) em funo do ngulo azimutal .

Para caracterizar esta dependncia nas amostras (slide 8), construmos um

diagrama de polo para cada uma delas. Sendo cada diagrama formado por 24

curvas de refletividade, incrementadas de 15 graus em (azumuthal angle

increment), e interpoladas com auxlio de um programa grfico.

De um modo geral, estes diagramas permitem inferir que:

- O substrato aparentemente tem boa qualidade cristalina, apresentando um

perfil estreito e uniforme (diagrama #1);

- Mas o crescimento epitaxial da camada-tampo aumentou a largura da

curva de refletividade (imagem #2), o que indica a existncia de defeitos na

superfcie do substrato que at ento no eram visto pela reflexo simtrica 002;

- Pontos qunticos expostos aumentam o espalhamento difuso (imagens #3 e

#4) e afetam a uniformidade da curva de refletividade (imagem #3),

principalmente na amostra com maior densidade de pontos qunticos.

- O cobrimento dos pontos qunticos elimina o espalhamento difuso (

imagens #5 e #6), mas no recupera a uniformidade das curvas de refletividade

(imagem #5)."

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Slide 12:

"Voltando ao nosso objetivo inicial que era medir os umwegs da famlia 111

que ocorrem sobre a reflexo primria 002, precisamos ainda resolver como

tratar eventuais imprecises mecnicas do equipamento, assim como contabilizar

possveis desalinhamentos residuais entre o vetor de difrao primrio (A, slide 1

ou P slide 5) e o eixo da rotao (9 na imagem esquerda).

Nesta foto, alm do eixo (9), podemos ver tambm a amostra (10), e os

parafusos (11,12) de alinhamento da amostra na cabea goniomtrica (6 na figura

direita).

Pelo fato do eixo rotacionar livremente por mais de 360 graus (5 na figura

direita), a impreciso mecnica facilmente aferida medido-se as posies dos

umwegs sem alterar o sentido de rotao do eixo .

O desalinhamento residual inevitvel e compromete, na mesma magnitude

de seu valor, o erro na posio de alguns umwegs."

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Slide 13:

"Para demonstrar na prtica como corrigir os erros de desalinhamento

residual das amostras, fizemos um alinhamento grosseiro da amostra nmero 1,

que era somente o substrato (substrate, slide 8), e medimos as posies dos

umwegs por trs vezes conforme mostrado nesta tabela (linhas 3, 4, e 5).

Os efeitos do desalinhamento eram evidentes quando calculvamos a

abertura do cone de Bragg (linhas 6, 7 e 8 da tabela) para cada uma das reflexes

secundrias (linha 1), valor este que corresponde metade da diferena angular

(2, slide 5) entre as posies de IN-OUT e OUT-IN.

A impreciso instrumental nos valores das aberturas dos cones, dada nesta

linha (linha 9), bem menor do que a variao de uma reflexo (secundria) para

outra.

Isto claramente mostra o efeito do desalinhamento da amostra, que para ser

corrigido, basta tomarmos o valor mdio entre cones opostos.

Obtemos assim o ngulo mdio com relao a duas direes ortogonais no

plano da amostra ( [110] e [ 1 10] ), estes sim com barras de erro parcialmente

coincidentes.

A partir dos valores de mdio (linha 10), calculamos a deformao n (,

linha 11) do parmetro de rede (a||) no plano da amostra, assumindo uma clula

unitria de volume constante para pequenas deformaes tetragonais. "

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Slide 14:

"As medidas de deformao no plano (in-plane strain, ) para as 6 amostras

(slide 8) esto resumidas neste grfico;

Para cada amostra temos duas medidas independentes, correspondendo s

direes 110 ([110], barra de erro escura) e -110 ([ 1 10], barra de erro clara).

O primeiro fato importante que se nota que, para as amostras de nmero 1

a 4, os valores de n () esto todos compreendidos num intervalo estreito, um

pouco menor do que 210-5 em torno de 710-5.

Isto atesta a preciso do mtodo, capaz de fornecer medidas de parmetros

de rede com um erro inferior a 10-4 angstrons, ou seja, na quinta casa decimal.

Isto tambm mostra que o crescimento da camada-tampo, amostra 2, e dos

pontos qunticos, amostras 3 e 4, no produziram nenhuma tenso residual

alm daquela que j existia no substrato, amostra 1; se que existia alguma.

Os valores medidos podem estar em torno de uma deformao nula, j que a

medida da deformao depende da razo entre os valores nominais do parmetro

de rede do GaAs (5.6534) e da energia dos ftons (9320eV).

Como a acurcia com a qual podemos escolher a energia dos ftons na

estao do LNLS baixa em relao preciso deste mtodo, mantivemos as

condies instrumentais inalteradas durante aquisio de dados para todas as 6

amostras.

Desde modo, embora no tenhamos certeza dos exatos valores nominais,

asseguramos que as medidas de deformao, relativamente amostra 1, esto

dentro das barras de erro estabelecidas.

Tese de Livre-Docente Edital IF-011/2006 pgina 132


Outro fato importante que se nota neste grfico a tendncia deformao

expansiva, ou seja, reduo no valor de n (), de 7,00,5 10-5 na amostra 4

para 4,60,4 10-5 na amostra 6, quando a superfcie com baixa-densidade de

pontos qunticos coberta.

Tendncia esta que muito mais evidente quando a superfcie com alta-

densidade de pontos qunticos coberta, fazendo a deformao variar de

6,40,7 10-5 na amostra 3 para -1841 10-5 na amostra 5.

Em resumo, neste trabalho* desenvolvemos um procedimento sistemtico

para estudar dispositivos semicondutores nanoestruturados via varredura

Renninger de raios X (XRS). Isto permite medidas ultra-precisas da deformao

da rede cristalina no plano da superfcie (in-plane strain).

Alm disso, o estudo mostra que, o cobrimento dos pontos qunticos de InAs,

mesmo que por uma fina camada de 30 nanometros, gera uma tenso expansiva

paralela superfcie, cuja magnitude esta relacionada densidade dos pontos

qunticos.

Como um resultado inesperado, constatamos a sensibilidade das curvas de

refletividade da reflexo 002 do substrato s imperfeies do crescimento

epitaxial. Permitindo uma anlise qualitativa da perfeio cristalina da camada-

tampo (buffer-layer), do espalhamento difuso dos pontos qunticos expostos, e

da anisotropia do crescimento com relao orientao azimutal da amostra."

*
Trabalho j publicado: phys. stat. sol. (a) 204, 25482554 (2007)
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Slide 15:

"Ainda dentro do contexto da fsica de raios X aplica nanotecnologia,

gostaria de falar um pouco do uso da refletometria de raios X incidncia

rasante no estudo de filmes finos obtidos pelo processo sol-gel.

Existia grande dificuldade em caracterizar tais filmes devido s rugosidades

e/ou flutuaes abruptas de densidades inerentes ao mtodo sol-gel.

A refletividade especular de raios X uma tcnica ideal para analisar filmes

finos amorfos, capaz de fornecer informaes sobre a densidade, o gradiente de

composio e a rugosidade.

O problema em aplicar esta tcnica nos filmes de sol-gel estava na

complexidade dos modelos (de filme) necessrios para reproduzir as curvas de

intensidade espalhada observadas experimentalmente.

Haviam muitos parmetros para serem ajustados nos modelos, de modo que

no dava para saber se:

- O modelo estava correto mas os valores dos parmetros ajustados

indevidamente;

- Ou se, quaisquer que fossem os valores, o modelo proposto nunca seria

capaz de reproduzir a curva experimental por ele ser inadequado ou estar

incompleto.

A soluo era encontrar uma rotina de ajuste de curva capaz de sempre

encontrar o melhor ajuste possvel para cada modelo proposto.

Em palavras mais tcnicas, isto significa que, a rotina a ser utilizada deveria

sempre achar o mnimo global da funo-erro, aquela que compara as curvas de

intensidade simulada e experimental.

Tese de Livre-Docente Edital IF-011/2006 pgina 135


Usamos o algoritmo de evoluo diferencial (DEA), o mesmo algoritmo

gentico usado antes para ajustar o perfil dos umwegs.

Com este algoritmo, conseguimos encontrar estruturas modelo capazes de

reproduzir com exatido impressionante as curvas experimentais, com visto aqui

(figura esquerda).

Isto tanto para filmes simples, de um nico composto, mas preparado por

ciclos alternados de deposio e sinterizao; como para filmes de multi-camadas

de diferentes composies.

No caso desta amostra (grfico esquerda), o filme de xido de rbio (Er2O3)

havia sido obtido por 3 ciclos de preparao, fato este que ficou evidente no perfil

da densidade longitudinal (grfico direita).

A exata reproduo da curva experimental somente foi possvel quando

inclumos no modelo rugosidades internas entre camadas do mesmo composto

mas de densidades diferentes, representadas aqui pela altura destas colunas em

cinza (grfico direita), totalizando 21 parmetros ajustados pelo algoritmo."

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Slide 16:

"Filmes com multicamadas de compostos diferentes tambm foram

analisados com sucesso graas ao algoritmo.

Alternado-se camadas de alta e baixa densidades possvel se obter guias de

ondas para raios X. No caso, a camada de baixa densidade era de xido de titnio

(TiO2) e a de alta densidade de xido de rbio (Er2O3).

Na curva de refletividade especular (grfico de cima esquerda), a ocorrncia

de um modo guiado identificada por uma reduo significante de intensidade

num ngulo de incidncia inferior ao ngulo crtico de reflexo total da camada

mais densa, como marcada pelo crculo vermelho.

A partir desta curva de refletividade, obtivemos a estrutura modelo mostrada

abaixo (figura de baixo esquerda) onde vemos uma grande reduo de

densidade na primeira camada de TiO2.

O quanto as imperfeies do filme real comprometem a existncia do modo

guiado pode ser analisado por meio das simulaes mostradas aqui ao lado

(figura direita) onde as imperfeies foram sanadas uma-a-uma na estrutura

modelo.

Num filme sem rugosidades e flutuaes de densidades nas camadas de um

mesmo composto, teramos um modo guiado acentuado no ngulo de incidncia

de 0,33 graus (1180 arcsec), abaixo do ngulo crtico do xido de rbio, que

ocorre em torno de 0,35 graus (1250 arcsec)."

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Slide 17:

"Um modo de testar a veracidade dos modelos obtidos era verificando se o

espalhamento difuso calculado a partir dos modelos era compatvel com o

observado experimentalmente.

Gradientes de densidade e rugosidades reduzem de modo semelhante a

intensidade da curva especular, mas o espalhamento difuso que ocorre em torno

da curva especular gerado exclusivamente pela rugosidade dos filmes.

Isto pode ser claramente visto ao se mapear o espao recproco em torno da

condio de reflexo especular, que esta raia de intensidade vertical passando

pelo centro dos mapas.

Os filmes apresentaram bastante espalhamento difuso, como no caso deste

filme fino de xido de titnio dopado com rbio e lantneo (mapa direita),

quando comparado ao da superfcie do substrato (mapa esquerda) antes da

deposio do filme.

Medir estes mapas em geral toma bastante tempo, e por isto optamos em

medir apenas algumas curvas de espalhamento difuso, as quais correspondem a

uma varredura transversal (transversal scan) do mapa.

Estas primeiras curvas (grfico de baixo esquerda) que so do mapa do

filme (mapa esquerda).

Constatamos que as curvas simuladas de espalhamento difuso eram

compatveis com as experimentais, aumentando nossa confiana na veracidade

dos modelos.

Mas, o que nos chamou a ateno, foi que em alguns casos, naqueles onde

no haviam sido possvel encontrar um modelo que reproduzisse

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satisfatoriamente a curva especular, a curva de espalhamento difuso tinha um

aspecto bastante diferente, como esta mostrada aqui ao lado (grfico de baixo

direita)."

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Slide 18:

"Devido estranheza das curvas de espalhamento difuso suspeitamos de que

havia algo muito diferente na morfologia de alguns dos filmes.

Resolvemos utilizar a microscopia de fora atmica na anlise destes filmes

de sol-gel.

Descobrimos, para a nossa surpresa, a existncia de poros regulares, com

dimetros entre 100 e 200 nanometros nas amostras dopadas com rbio e

lantneo.

A origem destes poros, assim como controlar o tamanho e a freqncia deles

ainda esta sendo investigado."

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Slide 19:

"Entre os principais alunos e pesquisadores que tm contribudo para as

pesquisas que mencionei nesta argio, esto:

- O Raul (Raul O. Freitas) que fez iniciao cientfica quando inicivamos os

estudos de pontos qunticos via varreduras Renninger de raios X, cujo trabalho

permitiu elaboramos seu projeto de doutorado-direto no mesmo tema;

- O Andr (Andr V. Perrota) que durante a iniciao cientfica escreveu um

programa em C++ para calcular tanto as fases de tripleto como as posies dos

umwegs em funo da energia dos ftons, e levando em conta efeitos de

ressonncia atmica. Programa que esta disponvel no servidor eos.if.usp.br para

acesso via internet.

- O Dr. Eduardo Abramof, do Laboratrio Associado de Sensores e Materiais,

Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE), em So Jos dos Campos, onde

realizamos muitos dos experimentos com o difratometria de raios X de alta-

resoluo.

- O Dr. Giancarlo Brito, do laboratrio de cristalografia aqui do IFUSP,

responsvel pela crescimento dos filmes de sol-gel, os quais foram estudados na

iniciao cientfica da Thas Godoy Amaral, e seriam sua tese de mestrado caso

ela no abandonasse a pesquisa por motivos particulares.

- O Prof. Alain Quivy e o aluno do doutorado dele, Toms Lamas, do

laboratrio de MBE do IFUSP, que cresceram vrias amostras epitaxiais, tanto

superredes como pontos qunticos.

- O Dr. Jrgen Hrtwig, do Europen Synchrotron Radiation Facility (ESRF),

que colaborou para o sucesso dos experimentos realizados l em 2001, onde

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observamos pela primeira vez satlites hbridos (slide 3, parte I), cuja descrio

terica contribuiu na elaborao da teoria do espao recproco hbrido (slide 14,

parte I) que sair em breve publicada no Journal of Applied Crystallography. *

- O Dr. Stefan Kycia, agora na University of Guelph, Canad, enquanto no

LNLS otimizou a instrumentao da estao XRD-1, viabilizando as primeiras

medidas das fases de tripleto, e tambm contribuindo nas discusses sobre os

resultados.

- O Dr. Domagala (Jarek Z. Domagala), do Institute of Physics da Academia

Polenesa de Cincias (Polish Academy of Science), o qual vasculhou o espao

recproco de filmes epitaxiais em busca de contribuies adicionais de

intensidade, e cujos resultados serviram de comprovao experimental da

existncia da rede recproca hbrida.

- A Dra. Andrea Antunes, que durante seu ps-doutorado no IFUSP,

contribuiu muito para viabilizar o estudo da catarata por imageamento de raios

X, assim como na busca de outras tcnicas para estudar os tecidos oftlmicos.

Ela ainda tem orientado a aluna de mestrado, Fernanda Virgnia Gozzo, no uso

da microscopia de fora atmica e histologia nesses tecidos.

Alm destes colaboradores que listei aqui, tambm cito:

- O Prof. Paulo Barros e a Dr. Anglica Safatle da Faculdade de Medicina

Veterinria e Zoologia da USP, que tm fornecido os cristalinos usados no estudo

da catarata;

- A Profa. Maria Ins Borella do Instituto de Cincias Biomdias da USP onde

so realizadas as anlises histolgicas;

*
J. Appl. Cryst. 40, 546 (2007)
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- A Profa. Mrcia Temperini do Instituto de Qumica onde realizamos medidas

de espectroscopia Ramam dos cristalinos;

- E finalmente, ao Dr. Zhong da estao X15A do NSLS, e ao Dr. Christopher

Parham, que l trabalhava na poca, pela ajuda com a instrumentao da X15A

quando realizamos as primeiras imagens de raios X dos cristalinos inteiros.

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