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OBTENCIÓN DE SULFUROS METÁLICOS SEMICONDUCTORES POR LA

TÉCNICA DE BAÑO QUÍMICO.

OBTAINING SEMICONDUCTOR METAL SULFIDES BY THE CHEMICAL BATH


DEPOSITION TECHNIQUE.

José Santos-Cruz*, vestigación se muestran resul- to be applied in devices. The


Sandra Andrea Mayén-Hernández, tados de obtención de sulfuros chemical bath deposition tech-
José de Jesús Coronel-Hernández y metálicos semiconductores del nique is a very economical, sim-
Francisco de Moure-Flores. tipo CdS, ZnS, CuxS y ZnxCu1- ple and easy to obtain a great
Universidad Autónoma xS. Se demuestra la obtención variety of semiconductor metal
de Querétaro de estos materiales así como sulfides with electrical, structu-
Facultad de Química, algunas propiedades ópticas, ral and optical properties sui-
Área de Materiales. morfológicas y estructurales. table for use in optoelectronic
Los materiales anteriores se devices. In the present research
Autor para correspondencia: caracterizaron por varias téc- work it shown results of the
* jsantos@uaq.edu.mx nicas como espectroscopia ul- growth of semiconducting me-
travioleta visible, perfilometría, tal sulfides of the type CdS, ZnS,
Fecha de recepción: 08/04/2013 resistividad, difracción de rayos CuxS and ZnxCu1-xS. Demons-
Fecha de aceptación: 30/05/2013 X y microscopía electrónica de trates the preparation of these
barrido. Mediante las técnicas materials as well as some op-
Resumen anteriores se determinaron la tical, morphological and struc-

E xisten varias técnicas de


depósito para obtener
semiconductores, es necesa-
transmisión, el ancho de banda
prohibida, el espesor, la resisti-
vidad, la estructura cristalina y
tural properties. The materials
were characterized by several
techniques such as ultraviolet-
rio técnicas sencillas, econó- la morfología superficial de los visible spectroscopy, profilo-
micas en donde se obtengan sulfuros metálicos obtenidos metry, electrical resistivity,
materiales con características por la técnica de baño químico. X-ray diffraction and scanning
apropiadas para aplicarse en Palabras clave: Baño químico, electron microscopy. Using that
dispositivos. La técnica de de- calcogenuros, semiconducto- chacartaerization techniques
pósito por baño químico es un res, sulfuros metálicos. were determined transmission
método muy económico, sen- band gap, thickness, electrical
cillo y de fácil obtención de Abstract resistivity, crystal structure and
sulfuros metálicos semicon- There are several techniques surface morphology of metal
ductores con propiedades eléc- for semiconductor deposition sulfides grown by the chemical
tricas, estructurales y ópticas but is necessary both simple bath deposition technique.
apropiadas para ser usados en and economical technics, in or- Keywords: Chemical bath de-
dispositivos opto-electrónicos. der to obtained materials whit position, chalcogenides, semi-
En el presente trabajo de in- appropriate characteristics for conductors

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SANTOS, C. Y COL.

Introducción la técnica de CBD. La técnica de CBD es un méto-


do de deposición de películas delgadas en donde
Existe una gran variedad de sulfuros semicon- existe una reacción química en fase acuosa, de
ductores que están tomando una significativa manera general en la formación de sulfuros se
importancia debido a sus propiedades químicas emplean sales metálicas del elemento de interés
y físicas únicas, a su bajo costo de obtención y (principalmente se utilizan acetatos, sulfatos,
a su aplicación como en celdas solares, recubri- cloruros y nitratos), adicionalmente se emplea
mientos foto-térmicos, fotoconductores, filtros un reactivo químico acomplejante, a continua-
de interferencia, polarizadores, control de tem- ción se enlistan los más utilizados, hidróxido de
peratura en satélites, películas magnéticas, pelí- amonio (NH4OH), amoniaco (NH3), trietanola-
culas anticorrosivas, dispositivos aplicados a la mina [N(CH2CH2OH)3], Ácido tetra-acético etilen
micro-electrónica, materiales sensibilizadores en diamina disódico EDTA (C10O8N2H16Na2) y ace-
celdas poliméricas, entre muchas otras más. Las tato de amonio (NH4C2H3O2). Posteriormente la
técnicas de preparación son varias, desde las más fuente de azufre, las más comunes son; tiourea
costosas hasta las mas económicas, como son; [SC(NH2)2], tioacetamida (SCH3NH2) y tiosulfato
Erosión catódica (He B.Y. y col., 2001), Láser pul- de sodio (Na2S2O3). Mediante esta técnica de CBD
sado (Diamond A.M. y col., 2012), Evaporación en es posible controlar el espesor de la película a ob-
vacío (Bollero A. Y col., 2009), Deposición por ca- tener variando la concentración de los reactivos,
pas atómicas (Reijnen L. Y col, 2005), Deposición la temperatura y el PH. Se puede depositar en casi
por vapores químicos (Adelifard M. Y col., 2012), cualquier forma de sustrato, en no conductores y
rocío pirolítico (Ndukwe I.C., 1996), capas iónicas conductores, la temperatura del baño va desde
sucesivas de adsorción y reacción (Lindroos S. temperatura ambiente (TA) hasta los 90 0C. Adi-
Col., 2000) y Deposición por baño químico (pre- cionalmente el equipo necesario es económico
sente trabajo). Los sulfuros semiconductores comparado con otras técnicas por ejemplo que
entran en el grupo de los calcógenos elementos utilizan vacío.
del grupo VI de la tabla periódica. También llama-
dos calcogenuros por el anión en los compues- En el presente trabajo se muestran resultados
tos, los principales aniones son; S2- (sulfuro), de obtención de cuatro sulfuros por la técnica de
Te2- (telururo) y Se2-(selenuro), los dos últimos baño químico (CdS, ZnS, CuxS y ZnxCu1-xS), se dan
se consideran aniones con potencial riesgo a la las condiciones de la preparación, así como algu-
salud. Existe una gran variedad de compuestos de nas propiedades ópticas, morfológicas, estructu-
azufre desde los naturales (minerales) hasta los rales y eléctricas que los hacen muy viables para
que se preparan en laboratorio. El azufre se pue- aplicaciones en dispositivos opto-electrónicos.
de combinar y formar compuestos químicos con
varios elementos de la tabla periódica, formando Desarrollo experimental
desde compuestos simples hasta complejos.
El equipo de crecimiento de películas delgadas
La técnica de depósito por baño químico (CBD, semiconductoras de sulfuros metálicos es muy
por sus siglas en inglés) es una técnica que se ha sencillo y económico. Una de sus principales ven-
utilizado por varios años dada su versatilidad, el tajas de la técnica CBD radica en que se puede
primer reporte de uso de ésta técnica se le atribu- trabajar desde un vaso de precipitado, un termó-
ye a Reynolds en 1884 por obtener películas del- metro, un plato caliente con agitación magnética.
gadas de PbS (Reynolds J.E., 1884), actualmente Todos estos equipos y materiales son básicos en
hay más de 40 compuestos binarios y ternarios un laboratorio de química. Para este trabajo de
reportados en la literatura todos obtenidos por investigación se utilizaron portaobjetos de vi-

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drio Corning como sustratos con dimensiones de ultrasonido por 10 minutos, posteriormente se-
2.5x7.5 cm2, el proceso de limpieza de los mis- cados con nitrógeno y almacenados para su pos-
mos se detalla a continuación; se lavan los vidrios terior uso o caracterización.
con detergente Extran con ayuda de una esponja
suave, se enjuagan con agua destilada varias ve- 2. Desarrollo experimental
ces para retirar el exceso de jabón, posteriormen- para el crecimiento de ZnS
te se introducen a mezcla crómica por 12 horas,
transcurrido el tiempo se sacan de la mezcla cró- En la obtención de las películas delgadas de ZnS se
mica se enjuagan varias veces con agua destilada utilizaron lo siguientes reactivos químicos y con-
y una vez con agua desionizada, se secan con ni- centraciones, sulfato de cinc [ZnSO4•2H2O] con-
trógeno almacenándose en alcohol hasta su uti- centración 1 M, trietanolamina [(OHCH2CH2)3N)
lización (antes de ser usados los vidrios se secan concentración 1.7 M, tioacetamida (CH3CSNH2)
con nitrógeno para retirar cualquier residuo de concentración 0.2 M e hidróxido de amonio
alcohol). (NH4OH), el disolvente fue agua desionizada (18
MΩ). Los sustratos fueron colocados verticalmen-
La caracterización fue desarrollada mediante te en la solución acuosa. La temperatura del baño
un equipo de difracción de rayos X marca Rigaku fue controlada a 70 ± 1 0C, mediante un plato ca-
modelo Dmax2100 con tubo de radiación de Co liente con agitación magnética, el tiempo de de-
con una longitud de onda de 1.796 Å, un micros- pósito fue de 75 minutos. Después del depósito
copio electrónico de barrido Phillips XL30 con los sustratos ya con la película fueron enjuagados
espectrómetro de dispersión de energía de rayos en ultrasonido por 10 minutos, posteriormente
X (EDS), la resistividad en un equipo Loresta mo- secados con nitrógeno y almacenados para su
delo MCP-T600 por el método de cuatro puntas posterior uso o caracterización.
de acuerdo a las configuración de Van der Paw y
el espesor en un perfilómetro Sloan Dektak II con 3. Desarrollo experimental
resolución de 20 Å. para el crecimiento de CuxS

En la obtención de las películas delgadas de


1. Desarrollo experimental CuxS se utilizaron los siguientes reactivos quí-
para el crecimiento de CdS micos y concentraciones, sulfato de cobre
[CuSO4•2H2O] concentración 0.01 M, trietanola-
En la obtención de las películas delgadas de mina [(OHCH2CH2)3N) concentración 0.7 M, ace-
CdS se utilizaron lo siguientes reactivos quí- tato de sodio (NaCH3COO) concentración 0.01 M,
micos y concentraciones, acetato de cadmio tiourea [SC(NH2)2] concentración 0.01 M, el disol-
[Cd(CH3COO)2•2H2O] concentración 0.1 M, ace- vente fue agua desionizada (18 MΩ). Los sustra-
tato de amonio (CH3COONH4) concentración 0.7 tos fueron colocados verticalmente en la solución
M, tiourea [SC(NH2)2] concentración 0.07 M e hi- acuosa. La temperatura del baño fue controlada
dróxido de amonio (NH4OH) concentración [0.2 a 40 ± 1 0C, mediante un plato caliente con agita-
M] , el disolvente fue agua desionizada (18 MΩ). ción magnética, el tiempo de depósito fue de 90
Los sustratos fueron colocados verticalmente en minutos. Después del depósito los sustratos ya
la solución acuosa. La temperatura del baño fue con la película fueron enjuagados en ultrasoni-
controlada a 90 ± 1 0C, mediante un plato calien- do por 10 minutos, posteriormente secados con
te con agitación magnética, el tiempo de depósi- nitrógeno y almacenados para su posterior uso o
to fue de 40 minutos. Después del depósito los caracterización.
sustratos ya con la película fueron enjuagados en

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4. Desarrollo experimental para el Resultados y discusión de resultados


crecimiento de ZnxCu1-xS
En la figura 1 se muestran los resultados de trans-
En la obtención de películas de ZnxCu1-xS se si- misión de las películas de los diferentes sulfuros
guieron los procedimientos de la película de ZnS crecidos mediante la técnica de baño químico, se
y CuxS, primeramente se creció la película de puede observar el corrimiento del borde de ab-
ZnS como paso siguiente se obtuvo la película sorción y la transmisión de los diferentes sulfuros
de CuxS siguiendo los procedimientos de obten- siendo más evidente para el ZnS (250 nm y 91 %
ción de CuxS, después del último depósito las pe- respectivamente) para este sulfuro se le conoce
lículas fueron enjuagadas en ultrasonido por 10 como un borde de absorción abrupto, para los
minutos, posteriormente secados con nitrógeno demás sulfuros es difícil determinar exactamen-
y almacenados para su posterior uso o caracteri- te mediante la gráfica de transmisión el borde de
zación. A las películas obtenidas se les realizó tra- absorción exacto.
tamiento térmico en tres atmósferas aire, argón
y formingas (mezcla N2:H2 96:4) el intervalo de
temperatura estudiado fue de temperatura am-
biente hasta 500 0C en pasos de 50 0C.

Figura 1 Transmisión de películas delgadas de sulfuros metálicos


a) ZnS, b) CdS, c) CuxS y d) ZnxCu1-xS.

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A partir de los datos de transmisión de la Figura 1 Donde α es el coeficiente de absorción, T la trans-


se calcula el ancho de banda prohibida (Eg) de los misión y d el espesor. Para calcular el Eg se rea-
semiconductores, siguiendo el modelo de bandas liza una gráfica de (αhν)2 vs (hν), donde h es la
parabólicas de Tauc ( Pankove J.I., 1975) el cuál constante de Planck y ν es la frecuencia, con esta
consiste en la siguiente ecuación (1) para calcular gráfica se extrapola la parte lineal de la curva has-
el coeficiente de absorción ta la intersección con el eje de las abscisas, ese va-
lor corresponde al Eg (ver Figura 2). Los valores
de Eg calculados mediante el modelo de Tauc se
α=[2.303⋅log( T )]/d (1)
1
muestran también en la Tabla I.

Figura 2 Ancho de banda prohibida calculada mediante el modelo de


Tauc para a) ZnS, b) CdS, c) CuxS y d) ZnxCu1-xS.

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En la tabla I se muestran algunos valores de pro- terial (Nduke I.C., 1996). Los sulfuros metálicos
piedades ópticas y eléctricas de los sulfuros me- y sus propiedades se están investigando ardua-
tálicos obtenidos mediante la técnica de baño quí- mente debido al gran interés de estos materiales
mico. Los valores de Eg, y resistividad reportados por sus propiedades únicas en aplicaciones desde
en la tabla I están muy cercanos a los reportados materiales fotovoltaicos en aleaciones ternarias y
en la literatura (Luque y Hegedus, 2005) obteni- cuaternarias dadas sus interesantes propiedades
dos por CBD y otras técnicas. Los valores de re- en dispositivos fotovoltaicos, optoelectrónicos,
sistividad van desde 7.6x10-2 hasta > 107 Ω-cm diodos emisores de luz, materiales electro lumi-
para el CuxS y el ZnS respectivamente, es bien co- niscentes, dispositivos fotoconductores así como
nocido que las películas delgadas de ZnS son muy en fotocatálisis y nanotecnología (Qijie Guo y col.,
resistivas por las propiedades intrínsecas del ma- 2010, Mehdi A., y col., 2012).

Tabla I Algunas Propiedades de los sulfuros obtenidos en el presente trabajo.

Las propiedades ópticas, eléctricas y de transmi- muy baja policristalinidad únicamente se obser-
sión obtenidas son buenas para las aplicaciones va ligeramente un pico que corresponde al plano
arriba mencionadas, es necesario en algunos ca- (111) de la fase hexagonal para el sulfuro de zinc,
sos mejorar las propiedades por ejemplo en el también en el espectro se pone el difractograma
caso de las películas de sulfuro de cobre existe del ZnS en líneas naranjas correspondientes a la
en la literatura otros trabajos obtenidos por otras carta 5259 para longitud de onda de cobalto de
técnicas en donde se observan propiedades poli- acuerdo a la Academia de ciencias Rusas con tipo
cristalinas, no observadas en el presente trabajo. de estructura Wurtzite-hexagonal con grupo es-
pacial P6(3)mc. En el caso del CuxS y ZnxCu1-xS las
En la Figura 3 se muestran los resultados de los películas son totalmente amorfas. Las películas
patrones de difracción obtenidos mediante rayos de CuxS y ZnxCu1-xS son amorfas por la técnica, y
X , la película de CdS muestra una estructura po- la baja temperatura de obtención 40 y 70 0C res-
licristalina cúbica con orientación preferencial pectivamente, el tratamiento térmico mejora las
en el plano (111), el plano (220) también puede propiedades eléctricas pero no la cristalinidad
observarse, también en el espectro se pone el di- (Lindroos S. y col., 2000).
fractograma del CdS en líneas azules correspon-
dientes a la carta 1881 para longitud de onda
de cobalto de acuerdo a la Academia de ciencias
Rusas con tipo de estructura Hawleyite-esfalerita
con grupo espacial F4(-)3m. El espectro de difrac-
ción correspondiente al ZnS se puede observar

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Figura 3 Patrones de difracción de rayos X de los sulfuros obtenidos.

En la Figura 4 se muestran imágenes de micros- X para las muestras de CdS y ZnS (Figura 3) to-
copía electrónica de barrido (MEB) de los sulfu- das las muestras están compuestas de pequeños
ros obtenidos por la técnica de baño químico para aglomerados de forma circular, para las imágenes
a) CdS, b) ZnS, c) CuxS y d) ZnxCu1-xS. Se puede de c) y d) se puede observar los aglomerados de
observar la naturaleza nanocristalina, lo cual distintas formas.
coincide con los patrones de difracción de rayos

Figura 4 Imágenes MEB de a) CdS, b) ZnS, c) CuxS y d) ZnxCu1-xS.

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Conclusiones Luque A., Hegedus S., Handbook of photovoltaic science and engi-
neering., Wiley (2005) 617-655.

La técnica de baño químico es una alternativa, Mehdi A., Hosein E., Mohammed M.B.M., Synthesis and characteri-
zation of nanoestructural CuS-ZnS binary compound thin film pre-
sencilla y económica para la obtención de pelí- pared by spray pyrolysis., Opt. Comm., 285 (2012) 4400-4404.
culas delgadas con propiedades ópticas, mor-
Ndukwe I.C., Solution growth, characterization and applications of
fológicas y eléctricas apropiadas para que estos zinc sulphide thin films., Sol. Ener. Mat. Sol. Cells., 40 (1996) 123-
materiales puedan ser usados en dispositivos 131.
opto-electrónicos. Los sulfuros de CdS y ZnS son Pankove J.I., Optical processes in semiconductors., Dover publica-
poli-cristalinos mientras que los sulfuros de Cu tions Inc. New York, (1975) 34-51.
(CuxS) y el ZnxCu1-xS son amorfos lo cual se debe a Reijnen L., Meester B., Lange F. D., Schoonman J., Goossens A., Com-
la temperatura de obtención, a la técnica y al sus- parison of CuxS films grown by atomic layer deposition and chemi-
cal vapor deposition., Chem. Mater., 17(2005)2724-2728.
trato de vidrio utilizado. El ancho de banda ob-
tenida es directo para todos los sulfuros y están Reynolds J. E., On the synthesis of galena by means of thiocarbami-
muy próximos a los valores obtenidos para estos de, and the deposition of lead sulphide as a specular film., J. Chem.
Soc., 45 (1884) 162.
materiales en la literatura. La película con la me-
nor resistividad fue para las películas delgadas de
CuxS y ZnxCu1-xS debido a vacancias de S para el
caso de la película binaria y para la ternaria por la
introducción de Zn.

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