PLATEADO CIANURADO BRILLANTE

INDICE

1. INTRODUCCIÓN TEÓRICA Pág. 2

1.1.Fundamento Teórico Pág. 2

1.2.Reacciones Químicas Pág. 2

2. PARTE EXPERIMENTAL Pág. 4

2.1.Materiales y Reactivos Pág. 4

2.2.Procedimiento Experimental Pág. 4

2.3.Datos Experimentales Pág. 5

2.4.Cálculos y Resultados Pág. 6

2.5.Observaciones y Discusión de Resultados Pág. 7

2.6.Conclusiones Pág. 7

3. BIBLIOGRAFIA Pág. 7

ELECTROQUÍMICA INDUSTRIAL Página 1

PLATEADO CIANURADO BRILLANTE

PLATEADO CIANURADO BRILLANTE

1. INTRODUCCIÓN TEÓRICA

1.1. Fundamento Teórico

La aplicación de una capa delgada de plata sobre un objeto metálico se lleva a cabo en una
celda electrolítica. Los fines de aplicación son diversos: en algunos casos, dar una
superficie protectora contra la corrosión; en otros, dar a una superficie de alto brillo con
motivo decorativo. De hecho el depósito de plata sobre un material base de menor precio,
eleva su valor ostensiblemente.

En las soluciones cianuradas, la plata puede depositarse directamente sobre acero,

bronce, plata, níquel o aleación de britannia. En estos casos es necesario dar un
preplateado en soluciones electrolíticas de similar composición a las de plateado, pero
más diluidas. El propósito del preplateado es de formar una capa muy adherente de plata
sobre la superficie del cátodo, debido a que el depósito de plata es d grano muy fino;
después de esto, se puede seguir depositándose mayor espesor mediante la solución
misma de plateado, cuyo grano metálico es mayor que del preplateado.

Todas las sales de plata que se disuelven en agua, pueden suministrar iones plata, Ag +, y
pueden servir para lograr la electrodeposición de la plata; por ejemplo el nitrato deplata
AgNO3, o el yoduro de plata, AgI; sin embargo, la sal que funciona mejor; en términos de
acabado, adherencia, y brillo del depósito, así como la estabilidad de la solución; es el
diciano argentato de potasio K[Ag(CN)2]. Esta sal se prepara disolviendo, en agua, el
cianuro de plata (AgCN) con cianuro de potasio (KCN) en medio básico dado por el KOH o
K2CO3.

1.2. Química de la solución cianurada de plata

Una vez formado el compuesto complejo diciano argentato de potasio, K[Ag(CN)2] y

disuelto en agua, se disocia según las ecuaciones siguientes:

 1° disociación:
K[Ag(CN)2](ac) + H2O(l) → K+(ac) + Ag(CN)-2(ac)

 2° disociación:
Ag(CN)-2(ac) + H2O(l) ↔ Ag+(ac) + 2CN-(ac) Ki = 7.9 x 10-22 (25°C)

En la última disociación se establece un equilibrio iónico, cuya constante está dado por la
relación:

[𝐶𝑁 − ]2 [𝐴𝑔+ ]
𝐾𝑖 = (𝑎 25°𝐶 𝐾𝑖 = 7.9 𝑥 10−22 )
[𝐴𝑔(𝐶𝑁)− 2]

ELECTROQUÍMICA INDUSTRIAL Página 2

PLATEADO CIANURADO BRILLANTE

Tabla 1. Masas molares de los compuestos involucrados en la solución electrolítica

COMPUESTO AgCN KCN KOH K2CO3 K[Ag(CN)2]
Masa molar (g/mol) 133 65 40 138 198

Tabla 2. Concentraciones de compuestos involucrados al final de la mezcla

COMPUESTO Ag KCN NaOH K2CO3 K[Ag(CN)2]
Masa agregada (g) 30 67 8 8 0
Masa reaccionante (g) 30 25.1 0 0 0
Masa al final (g) 0 41.9 8 8 55.1
Conc. Molar (mol/L) 0 0.698 0.143 0 0.237

Ag(CN)-2(ac) + H2O(l) ↔ Ag+(ac) + 2CN-(ac)

(0.237 – x) x (2x + 0.7)

(2𝑥 + 0.7)2 (𝑥)

= 𝐾𝑖 = 7.9 𝑥 10−22
(0.237 − 𝑥)

Se obtiene:
x = [Ag+] = 3.62 x 10-22 M

La muy baja concentración de iones plata permite un control adecuado de la deposición

electrolítica del metal en el cátodo. Prácticamente, los iones Ag+, se van formando a partir
del ion complejo, conforme ocurre el depósito del metal en el cátodo.

Además el potencial de reducción de la plata, adquiere un nuevo valor, según:

Ag+(ac) (1M) + e- → Ag(s) E° = 0.79 V

De acuerdo con la ecuación de Nerst, el potencial de reducción del ion plata, para la
concentración dad en la solución cianurada ([Ag+] = 3.62 x 10-22 M) y considerando 25°C,
está dada por:

0.059 1
𝐸 = 𝐸° − 𝑙𝑜𝑔
𝑛 [𝐴𝑔+ ]

0.059 1
𝐸 = 0.79 − 𝑙𝑜𝑔
1 3.62 𝑥 10−22

𝐸 = −0.474

Este potencial de reducción negativo del ión plata nos asegura efectuar una electrolisis.

Las soluciones electrolíticas de plateado cianurado tienen propiedades especiales, tales

como: alto poder de “penetración” durante la electrodeposición, permitiendo obtener un
depósito brillante muy adherente sobre los lugares casi inaccesibles del cátodo; alta
estabilidad química (mientras el pH de la solución siga siendo mayor que 12). Además,

ELECTROQUÍMICA INDUSTRIAL Página 3

PLATEADO CIANURADO BRILLANTE

permiten hacer uso de densidades de corriente relativamente altas comparadas con otras
soluciones electrolíticas no cianuradas.

Se han desarrollado algunas soluciones de plateado electrolítico no cianuradas y de uso

industrial; por ejemplo, aquellas que contienen complejos de iodo o aquellas de
tiosulfato; sin embargo, éstas no superan en funcionamiento a las soluciones cianuradas,
ni en estabilidad, operatividad y costo inicial de la solución electrolítica; propiedades
resaltantes que hacen que la soluciones de plateado cianurado, a pesar de ser altamente
tóxicas y contaminantes, sean casi irremplazables a nivel industrial.

Las soluciones de enjuague, que arrastran mecánicamente iones plata, deben ser
guardadas a fin de recuperar posteriormente el metal, previa neutralización del cianuro.

2. PARTE EXPERIMENTAL

2.1. Materiales, equipos y reactivos

 Un vaso de precipitados de 500 mL.

 Una bagueta de agitación.
 Un transformador rectificador (TR), cables y cocodrilos.
 AgCl
 KCN
 K2CO3
 Ánodos de plata y acero.
 Cátodo de plata

2.2. Procedimiento Experimental

 Composición de los baños electrolíticos

Tabla 3. Soluciones electrolíticas de pre-plata

FORMULACIÓN CONDICIÓN DE OPERACIÓN
 Densidad de corriente (A/dm2): 1 – 3
 Temperatura (°C): 25 a 30
 Densidad: 6 – 8 °Be
 AgCN: 2.5 g/L  pH: 12.0
 KCN: 60 g/L  Voltaje (voltios): 1.0
 K2CO3: 8 g/L  Ánodo: Ag electrolítica ó acero
 Relación ánodo/cátodo: 1/1
 Cubas con revestimiento de PVC o polipropileno.
 Velocidad de electrodeposición: 1 µm/min
 Filtración: continua

ELECTROQUÍMICA INDUSTRIAL Página 4

PLATEADO CIANURADO BRILLANTE

Tabla 4. Soluciones electrolíticas de plata

FORMULACIÓN CONDICIÓN DE OPERACIÓN
 Densidad de corriente (A/dm2): 1 – 5
 Temperatura (°C): 25 a 30
 AgCN: 2.5 g/L  Densidad: 15 – 17 °Be
 KCN: 60 g/L  pH: 11 - 12
 K2CO3: 8 g/L  Voltaje (voltios): 1.0 – 4.0
 Solución preparadora  Ánodo: Ag electrolítica
Argalux: 3 mL/L  Relación ánodo/cátodo: 1/1
 Abrillantador Argalux:  Cubas con revestimiento de PVC o polipropileno.
0.5 mL/L  Velocidad de electrodeposición: 1 µm/min a 2 A/dm2
 Filtración: continua

 Secuencia de la experiencia:

 Armar el baño de plateado cianurado brillante en una cuba.

 Colocar el cátodo (previamente limpio, seco y pesado) conectado al polo negativo
de TR. Tomar nota de la masa inicial del cátodo.
 Encender el TR y regular el amperaje hasta obtener el valor necesario, de modo
que se cumpla 2 A/dm2. Mantener este amperaje constante durante la electrólisis,
mediante el regulador.
 Anotar el voltaje que registrar el medidor del TR.
 Dejar correr la electrólisis durante 3 min.
 Observar si existe o no liberación de gases en el ánodo y cátodo.
 Apagar el TR, extraer, enjuagar y secar el cátodo.
 Pesar el cátodo y tomar nota de la masa final.
 Extraer el ánodo y observar su apariencia final, enjuagar y secarlo.
 Determinar la masa final del ánodo.

2.3. Datos Experimentales

Tabla 5. Dimensiones y área del cátodo

Dimensiones del cátodo
Largo (dm) 0.62
Ancho (dm) 0.19
Espesor (dm) 0.025
Área (dm )
2 0.27

ELECTROQUÍMICA INDUSTRIAL Página 5

PLATEADO CIANURADO BRILLANTE

Tabla 6. Electrodeposición a distintos valores de A

Masa inicial (g) Masa final (g) Intensidad (A) Voltaje (V) Tiempo (s)
44.235 44.251 0.1 2.5 180
44.251 44.261 0.1 2.5 180
44.261 44.270 0.2 3.0 180
44.270 44.282 0.2 3.0 183
44.282 44.285 0.3 4.0 180
44.226 44.244 0.05 2.0 300
36.955 36.975 0.05 1.5 300

 Cálculos y Resultados

 Se obtendrá la masa electrodepositada “experimental” con la diferencia de las masas

finales e iniciales.
 Aplicando la 1° Ley de Faraday podremos calcular la masa electrodepositada
“teórica”.

̅
𝑀 𝐼∗𝑡
𝑚= ∗
𝜃 96500

Para la plata:
+
𝐴𝑔(𝑎𝑐) + 1𝑒 − → 𝐴𝑔(𝑠)

̅ = 108 𝑔/𝑚𝑜𝑙
𝑀
𝜃=1

Para el primer caso:

𝑚𝑎𝑠𝑎𝑒𝑥𝑝𝑒𝑟𝑖𝑚𝑒𝑛𝑡𝑎𝑙 = 44.251 − 44.235 = 0.016𝑔

108 0.1 ∗ 180

𝑚𝑎𝑠𝑎𝑡𝑒ó𝑟𝑖𝑐𝑎 = ∗ = 0.020𝑔
1 96500

 Se calcula el rendimiento mediante:

𝑚𝑎𝑠𝑎𝑒𝑥𝑝𝑒𝑟𝑖𝑚𝑒𝑛𝑡𝑎𝑙
ƞ𝐸𝑓𝑖𝑐𝑖𝑒𝑛𝑐𝑖𝑎 = ∗ 100%
𝑚𝑎𝑠𝑎𝑡𝑒ó𝑟𝑖𝑐𝑎

Para el primer caso:

0.016𝑔
ƞ𝐸𝑓𝑖𝑐𝑖𝑒𝑛𝑐𝑖𝑎 = ∗ 100% = 79.4%
0.020𝑔

 La densidad de corriente se calcula con la división de la intensidad de corriente (A)

con el área expuesta (dm2).

ELECTROQUÍMICA INDUSTRIAL Página 6

PLATEADO CIANURADO BRILLANTE

Tabla 6. Resultados de la experiencia

Masa Electrodepositada (g) Eficiencia Densidad de
Experimental Teórica (%) corriente (A/dm2)
0.016 0.020 79.4 0.37
0.010 0.020 49.6 0.37
0.009 0.040 22.3 0.74
0.012 0.041 29.3 0.74
0.003 0.060 5.0 1.11
0.018 0.017 107.2 0.18
0.020 0.017 119.1 0.18

 Discusión de Resultados

A pesar de que la apariencia de la superficie electrodepositada en todas las ocasiones fue

opaca, se procede a comentar acerca de algunas observaciones:

 Al aumentar la intensidad de corriente también se incremente la diferencia de

potencial entre el ánodo y el cátodo.

 Teóricamente se debe de manifestar un incremento de la eficiencia de

electrodeposición al incrementar la densidad de corriente, pero en nuestro caso es
todo lo contrario por lo que se tiene un comportamiento anómalo a lo teórico ya sea
porque la densidad de corriente es mucho mayor al valor límite (se caracteriza por la
rugosidad en la capa electrodepositada) formándose así una superficie
electrodepositada que dificulte el flujo de corriente para que se siga incrementando el
espesor de dicha superficie ó que este en un rango muy inferior respecto a la densidad
de corriente límite (el depósito puede bajar su calidad, de esta manera se presenta una
superficie muy heterogénea y una disminución de la adherencia del depósito en el
cátodo).

 Conclusiones

 No tener el conocimiento del rango de la densidad de corriente límite y aplicar un

valor muy alejado de intensidad de corriente genera un comportamiento en el sistema
totalmente desviado de lo teórico en la relación densidad de corriente-eficiencia
(directa).
 La generación de intenso burbujeo alrededor de la superficie del cátodo de plata
implica un inadecuado bañado de plata en cianuro, lo cual se confirmo por el color
opaco de la capa en la superficie del cátodo.

3. BIBLIOGRAFÍA

 Rodríguez, Claudio. “Plateado electrolítico: Técnicas modernas”. 1° Edición. Editorial

Alsina. Buenos Aires. 2011.

ELECTROQUÍMICA INDUSTRIAL Página 7