Spectrométriephoto électronique à

rayonnement « X »

Introduction :
La spectroscopie photoéléctronique à rayonnements X (SPX) ou de l’Anglais
Xrayphotoelectronicspectroscopy a été développée lors des années 50 par l’équipe du
professeur Suèdois Kai Siegbahn qui a décroché le prix Nobel de physique en 1981.
Cette tèchnique s’interesse à l’analyse de l’extrème surface de la matiéresoit les 10
premiers nanomètres de la surface.
Tous les les éléments de la classification périodiques peuvent ètredétéctés à l’excéption de
l’hydrogène et de l’hélium car ces deux éléments ne possèdent que des éléctrons de
valence alors que cette tèchnique de controle met en jeux les éléctrons du coeur de
l’atome.Et ceci concèrne :
- métaux
- céramiques
- semi-conducteurs
- matériaux composites
-polymères et biopolymères

Principe :
Le principe consiste à irradier la surface du matériau par un faisceau de rayons X, ce qui
provoque l’éjéction d’un photoéléctron d’une orbitale donnée.Celui ci est collécté pa r le
détécteur puis analysé. La grandeur physique mesurée est l’énérgie cinétique de ce
photoéléctron selon la loi de la consèrvation d’énérgie:h.Ѵ = 𝐸𝐵 + Ecavec :
h : cste de Plank= 6,626. 𝟏𝟎−𝟑𝟒
Ѵ : célérité de la lumière =3.𝟏𝟎𝟖 m/s .
𝑬𝑩 : énérgie de liaison.
Ec : énérgie cinétique.
On peut donc détérminer𝑬𝑩 qui est une caractèristique chimique de l’élément .
Diagramme énergétique de la photoémission

Déscription duspéctromètre XPS

Un spèctromètre SPX est composé :
- D’une chambre d’introduction des échantillons.
- D’une chambre de préparation.
- D’une chambre d’analyse.
Ces trois chambres sont isolées les unes des autres par des vannes manuelles
ouautomatiques.
Autour de la chambre d’analyse ontrouve plusieurs sources ionisants :
- Une anode en Alqui émet les rayons X dont les ondes sont monochromatisées par
lemonochromateur qui a le role de séléctionner l’énérgie incidente h Ѵ de l’ordre de
1486,6 ev.
-Une anode non chromatisée en Al-Mg.
-Un source UV en He.
-Un canon à éléctrons pour annuler les charges.
-Deux canons ioniques pour faire le décapage , l’un avec des ions Ar monoatomiques,
l’autre avec des polyatomiques de C24.

On trouve ensuite la partie analyse et détéction avec des lentilles qui pèrmettent la
collecte des photoéléctrons et un analyseur de type hémisphèrique qui pérmet de
séléctionner une énérgie cinétique choisie et un détécteur qui pèrmet de comptabiliser les
photoéléctronsséléctionnés.
Pour les échantillons liquides ou gèls sensibles aux ultra-vides ,il y a possibilité de
refroidir le porte-échantillon lors de l’introduction et pendant l’analyse jusqu’a -150℃
avec de l’azote liquide.
Pou les échantillons sensibles à l’atmosphère,la préparation se fait en boite à gants ; dans
ce cas ils sont transfèrés via une valise de transfert de la boite à gans vers l’appareil XPS.
L'XPS est une technique qui nécessite l'emploi de l'ultravide (~ 10-9 - 10-10 mbar), en effet,
il convient d'éviter aux électrons d'être diffusés par les molécules de l'atmosphère
résiduelle au cours de leur trajet jusqu'au détecteur.

Exemples de spèctres SPX :

Les spèctres obtenus sont traités avec le logiciel ( Casa XPS ) .

Les spèctres obtenus sont traités avec le logiciel ( Casa XPS ) .

Applications
Cette mesure peut être réalisée soit à partir du signal de l'élément
caractéristique du dépôt soit à partir de l'atténuation (diminution relative de la
puissance Le champ d'application de l'XPS est très vaste car cette technique permet
d'analyser tout type de surface compatible avec l'ultravide.
- mesure de la stœchiométrie et détermination des formes chimiques des éléments
détectés.
- détection et identification des éléments de contamination.
-mesure d'épaisseurs
* Dans le cas de recouvrements homogènes, il est possible de mesurer l'épaisseur d'une
couche superficielle (contaminations, oxydes, dépôts ...).
d'un signal au cours de sa transmission) du signal du substrat.
Profils de concentration et imagerie
*La profondeur analysée dépend de l'angle q d'analyse formé entre la surface de
l'échantillon et le détecteur. Si l'on agit sur cet angle (plus la mesure est rasante, plus le
signal provient d'une couche superficielle), il est alors possible de mesurer l'évolution du
rapport des pics des différents éléments et d'établir ainsi des profils de concentration en
fonction de la profondeur analysée. Cette méthode est non destructive et est utilisée le
plus souvent pour mettre en évidence de ségrégations superficielles.
* Il est aussi possible d'établir des profils de concentration sur des épaisseurs beaucoup
plus importantes : l'échantillon est bombardé par un faisceau d'ions (en général de l'argon)
de quelques keV induisant ainsi une abrasion de la surface. L'alternance de points d'analyse
et d'étapes de pulvérisation permet de reconstituer des profils deconcentration. Cette
méthode, qui est destructive, nécessite une bonne connaissance des vitesses de
pulvérisation si l'on souhaite tracer l'évolution des concentrations en fonction
de la profondeur.
* Les nouvelles générations de spectromètres permettent désormais d'obtenir aussi une
information spatiale du signal XPS avec une résolution latérale variant de 5 à 20 μm :
- nous pouvons ainsi réaliser des profils des concentrations élémentaires ainsi que des
formes chimiques le long d'une ligne ("linescan"),
- mais aussi obtenir une image chimique (2D) de la surface, ce qui a une application dans le
cas d'échantillons hétérogènes (piqûres de corrosions, zones de contaminations, etc. ...).
- détection et identification des éléments de contamination.
-mesure d'épaisseurs
Conclusion
La méthode de caractèrisation XPS est une tèchnique largement utilisée aussi bien dans le

sécteur académique que dans le sécteurindustriel,employant comme logiciel de traitement

de spèctresle logiciel (Casa XPS).

Compte tenu des faibles doses utilisées pour les photons incidents, les dégradations

induites en surface des échantillons sont donc relativement limitées : l'XPS est une

méthode non ou très faiblement destructive.

UniversitéBadji Mokhtar Annaba

Département de métallurgie
et sciences des matériaux

Module : Méthodes de Caractérisation des

matériaux

Assuré par : Mr Bouzid

Sujet sur : La spectroscopiephoto électronique

à rayonnement « X »

Travail réalisé par :

LalaouiKhokha&Boukraa Marwa

Groupe : M2 Génie des surfaces

Année universitaire :2017/2018