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Previo a que se deposite la capa metálica, la superficie a cubrir debe estar libre
de impurezas, tales como grasa y óxidos. Para ello, se aplican procedimientos
de preparación como el pretratamiento mecánico de las superficies como lo es
el pulido y los métodos químicos de pretratamiento de superficies: el
desengrasado mediante limpiadores alcalinos, hidrocarburos clorados, o por
vía electrolítica; así como el decapado. Antes de que una pieza se incorpore al
proceso de pulido, desengrasado y recubrimiento, debe realizarse una
inspección previa para asegurar que la pieza no presente defectos inaceptables
que no se puedan corregir durante el recubrimiento. Estos defectos pueden ser
rebabas, bordes, hoyos, moho y otras imperfecciones en la pieza.
1
C uSO 4 :5H 2O (c )
H SO 4
SO 42
H+ C uSO 4
-1 C u 2+
-3 H 2SO 4
Log Conc .
-5
C uOH +
-7
-9
1 2 3 4
pH
Figura 2. Complejos formados a pH menor de 4.5 efectuados en medusa chemical diagrams
Cu Cu 2 2e E 0.153V
Cu 2 2e Cu E 0.153V
Este proceso se lleva a cabo a un pH de 4.5 y con una corriente de 1-8 Amp/
dm2
Otro aspecto importante a considerar es que los aditivos para cobre, que
generalmente pueden estar constituidos de polietilenglicol (PEG), acido
mercaptopropano sulfonico (MPS) y disulfopropil disulfuro (SPS), pueden
facilitar el recubrimiento de cobre debido a que pueden interaccionar con los
iones de Cu2+ para agilizar su reducción a Cu°. Además, los aditivos
reaccionan con algunos complejos que aunque se encuentran en proporciones
pequeñas pueden afectar en gran medida el recubrimiento.
un baño Watts de níquel modificado, las sales utilizadas con más frecuencia
son el sulfato de níquel (NiSO4), como la principal fuente de iones, y el cloruro
para reducir las tensiones internas y disolver los ánodos de níquel. El níquel
metálico sirve como ánodo para la corriente eléctrica y libera los iones de
níquel que recubrirán a las piezas (niquelado).
NiCl2 40 g/L
Ni 2 2e Ni E 2.50V
Los iones de cloro que son los que facilitan la conducción de la corriente a
través de la solución y se proporcionan mediante el cloruro de níquel.
En la solución pueden formarse ciertos complejos como se muestran a
continuación
[ i2+ ]TO T =
N 1 .16M [SO 2 ] = 1 .00M
4 TO T
1
N iSO 4
N i2+
H+ N iSO 4 :7H 2O (c )
-1 H SO 2
4 SO 4
N i(SO 4 )22
-3
H 2SO 4
Log Conc .
N O
i H +
-5
N i2OH 3+
-7
-9
1 2 3 4 5
pH
Figura 3. Complejos formados en un baño de níquel acido a pH menor a 5
1
N i2+ N iO
( H )2 (c )
NH
i 2 (CN )4 NH i (CN )4 N i(CN )42
N i(CN )3
H +
-1 N Hi )4+
3 (CN N i(CN )2
HCN
-3
i H+
Log Conc .
N O
N i2OH 3+
-5 OH
CN
( H )44+
N i4 O
-7
-9
1 3 5 7
pH
Figura 4. Complejos formados en un baño de níquel alcalino con pH menor de 8
No son muy comunes los baños de Ni alcalinos debido a que se forman una
gran cantidad de complejos que repercuten considerablemente en la calidad
del baño.
(1)
Jack, D. Electrodepositation: The materials science of coatings and substrates. Noyes
publications. E.U.A 1993.
(2)
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(4)
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(5)
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