國立臺灣大學基礎物理實驗結果報告

真空蒸鍍實驗

實驗日期: 2018 年 10 月 29 日、2018 年 11 月 05 日

實驗組員: 周建宇、吳囿瑩、黃士桓

實驗助教: 許長仁

指導教授: 黃斯衍

1
 一、引言

真空蒸鍍是一種鍍薄膜技術，其利用蒸發之金屬氣體遇到玻璃後凝固而形成薄膜。在過程中
必須維持真空，使得金屬氣體分子有較高機會到達玻璃，因為抽真空可以使金屬氣體平均自
由徑增加1。

1. 抽真空原理
抽真空技術分為以下幾種，分別有不同的使用時機。
機械幫浦是從一大氣壓力抽到低真空的第一步驟，其利用機械式迴轉幫浦(如圖一)，造成
出氣與進氣的壓力差，進而將空氣排出腔外。由於機械上密合的限制，機械幫浦約只能達
到10−4 Pa 的真空。
擴散幫浦是利用利用向斜下噴射的高溫油氣撞擊空氣分子使其產生向下動量(如圖二)，而
使空氣分子聚集在腔體底部2，此時雖然底部的壓力較大，但高溫的油氣阻擋理不的空氣
向上回流，於是底部的壓力會漸趨增加。最後達到機械幫浦可以抽氣的壓力，而把底部的
空氣抽出。如果壓力太大(> 10−5 𝑃𝑎)，氣體平均自由徑小，氣體分子就無法到達底部，故
擴散幫浦就不適用。

圖一、機械幫浦抽氣示意圖 圖二、擴散幫浦抽氣示意圖

2. 薄膜厚度計
主要是透過壓電材料的震盪頻率變化而得知厚度變化。由於施予壓電材料(在此為石英)一
特定頻率的交流電，會產生特定頻率的震動，當有物質附著於上時其振動頻率會降低，有
點類似把彈簧放在水中一樣，震動會變慢。我們可以由震盪頻率降低的比率來推得薄膜的
厚度。

1 https://en.wikipedia.org/wiki/Mean_free_path
2 https://en.wikipedia.org/wiki/Diffusion_pump
2
 3. 電阻率測量
(1)Hall bar 量測法:
在 1, 6 輸入電流，並在 2,5 量測電
壓，相除之後可以得到 2,5 之間的電
阻(如圖三)。
圖三、Hall bar 示意圖，數字為接點
此方法可以降低電流流入電壓計(由於電壓計是個高電阻元件，故電流會全部經過 Hall bar
而不經過電壓計)與電壓計量測到電流計的壓降的可能性。
𝑅𝐴
再經由𝜌 = 計算可以得知電阻率。
𝑙

(2)Van der Pauw 四點量測法:

根據 Conformal mapping 理論，我們可以證明任意形狀的平面與半無限大的平面互為 conformal。

D
A

B
圖四、將圓形映射到半無限大
C
平面的 Conformal mapping 圖五、適用 van der Pauw 量測法的平面示意圖

i(1−z)
我們舉個例子(如圖四)， z+1
可以將圓形映射到半無限大平面，相同顏色對應到相同的區域。
接著我們證明在半無限大平面，有以下公式
𝜋𝑅𝐴𝐵,𝐶𝐷 𝑑 𝜋𝑅 𝑑
− − 𝐵𝐶,𝐷𝐴
𝑒 𝜌 +𝑒 𝜌 =1
其中𝑅𝐴𝐵,𝐶𝐷 為 A、B 兩點通入電流、C、D 兩點量測電壓後所得電阻，以此類推，𝑑為薄膜厚度。
我們可以根據上述關係式及條件計算薄膜電阻率𝜌。
最後再透過 inverse conformal mapping，把半無限大平面映射回圓形，我們可以進一步將
圓形映射成任意形狀的平面(如圖五)，故上述公式在任意形狀的平面都成立。

4. 霍爾係數測量
根據 van der Pauw 論文3，他利用 Hall bar 與任意形狀的平面 conformal 的條件，推得任意
+ −
𝑑 𝑅𝑀𝑂,𝑁𝑃 −𝑅𝑀𝑂,𝑁𝑃 + −
形狀平面的霍爾係數為R H = 𝐵 Δ𝑅𝑀𝑂,𝑁𝑃 ，其中ΔR MO,NP = ，𝑅𝑀𝑂,𝑁𝑃 與𝑅𝑀𝑂,𝑁𝑃
2
定義與前述量測電阻率時相同，差別為一施予外加正向磁場，一施予反向外加磁場。

3
http://electron.mit.edu/~gsteele/vanderpauw/vanderpauw.pdf
3
 二、實驗方法、實驗觀察與過程紀錄
A. 蒸鍍 700Å錫薄膜

洗玻璃
我們先用鑽石刀將玻片切成我們想要的大小(26mm×30mm)，接著分別依序用清潔劑
(去除灰塵、油脂)、水(去除清潔劑)、酒精(清潔水、油脂)等溶液在超音波洗淨機中震
盪。接著拿到烤箱烘乾至所以溶液蒸發。

設定膜厚計
設定密度與 Z-factor

放樣品
將欲鍍物(錫粒)及被鍍物(玻璃)放置真空腔中，準備抽真空。

抽真空
−2
我們先用機械幫浦將真空腔抽至10 Pa，再用擴散幫浦串聯機械幫浦將真空腔抽至4 ×
10−5 𝑃𝑎，然後進行蒸鍍(如圖六)。

蒸鍍
調整電壓源以調整蒸鍍速度，並且利用 shutter 阻擋蒸發金屬，蒸鍍時會產生光(如圖七)。本實
驗第一周鍍 700 埃的薄膜，第二周鍍 300 埃的薄膜。

取出樣品及復原
樣品(如圖八)取出後，需要將真空腔回復為真空，使不會有其他空氣分子附著於真空腔內壁。

電阻率與霍爾係數測量
用銀膠、其漆包線製作樣品接點準備量測(如圖九)。

註:熱偶壓力計及冷極壓力計分別在低真空及高真空狀態時使用，因為熱偶壓力計主要是透過氣體分
子撞擊熱傳導而測得壓力，當壓力太低時，密度不足無法傳熱，故測不到壓力；冷極壓力計將氣體離子
化，由離子電流計算離子個數，再估計壓力，若壓力太高時，離子電流會太高而燒毀冷極壓力計4。

B. 蒸鍍 300Å錫薄膜
步驟與蒸鍍 700Å薄膜相同，唯一不同的部分為改變厚度成 300Å。

4
http://www.phys.nthu.edu.tw/~thschang/notes/VAC04.pdf
4
圖六、真空腔、機械幫浦、與擴散幫浦相對位置圖 圖七、蒸鍍金屬產生之亮光

圖八、蒸鍍成品 圖九、電阻率與霍爾係數測量裝置

5
 三、結果與數據分析
A. 電阻率的測量
1. 昆蟲形
i. Hall bar

物理量 代號 值 單位
電阻 Rexp,300Å 1.079x10-1 Ω
長度 l 2.1x10-2 m
厚度 t 7.00x10-7 m
寬度 w 5.0x10-3 m
𝐴 𝑤×𝑡 −1
5.0 × 10−3 × 7.00 × 10−7
ρ𝑒𝑥𝑝,300Å = R exp,300Å × = R exp,300Å × = 1.079 × 10 ×
𝑙 𝑙 2.1 × 10−2
≈ 1.8 × 10−7 (Ω ∙ 𝑚)
物理量 代號 值 單位
電阻 Rexp,700Å 6.296 Ω
長度 l 1.17x10 -2 m
厚度 t 2.93x10 -8 m
寬度 w 6.0x10 -3 m
𝐴 𝑤×𝑡 6.0 × 10 × 2.93 × 10−8
−3
ρ𝑒𝑥𝑝,700Å = R exp,700Å × = R exp,700Å × = 6.296 ×
𝑙 𝑙 1.17 × 10−2
−8 (Ω
≈ 9.5 × 10 ∙ 𝑚)
ii. Van der PAUW

物理量 代號 值 單位
AB 端接電流，CD 端 RAB,CD 4.096 Ω
接電壓測得之電阻
BC 端接電流，DA 端 RBC,DA 2.9x10-3 Ω
接電壓測得之電阻
厚度 t 7.00x10-7 m
π𝑅𝐴𝐵,𝐶𝐷 𝑡 π𝑅𝐵𝐶,𝐷𝐴 𝑡
− −
𝜌700Å 𝜌700Å
e +e =1
−7
由數值分析法，𝜌700Å ≈ 1.6 × 10 (Ω ∙ 𝑚)

物理量 代號 值 單位
AB 端接電流，CD 端 RAB,CD 7.68x10-1 Ω
接電壓測得之電阻
BC 端接電流，DA 端 RBC,DA 7.12x10-1 Ω
接電壓測得之電阻
厚度 t 2.96x10-7 m
π𝑅𝐴𝐵,𝐶𝐷 𝑡 π𝑅𝐵𝐶,𝐷𝐴 𝑡
− −
𝜌300Å 𝜌300Å
e +e =1
−7
由數值分析法，𝜌300Å ≈ 1.00 × 10 (Ω ∙ 𝑚)
6
 2. 圓形

物理量 代號 值 單位
AB 端接電流，CD 端 RAB,CD 4.78x10-5 Ω
接電壓測得之電阻
BC 端接電流，DA 端 RBC,DA 3.53x10-5 Ω
接電壓測得之電阻
厚度 t 8.93x10-4 m
π𝑅𝐴𝐵,𝐶𝐷 𝑡 π𝑅𝐵𝐶,𝐷𝐴 𝑡
− −
𝜌700Å 𝜌700Å
e +e =1
−7
由數值分析法，𝜌𝑐𝑜𝑖𝑛 ≈ 1.67 × 10 (Ω ∙ 𝑚)

物理量 代號 值 單位
AB 端接電流，CD 端 RAB,CD 3.88 Ω
接電壓測得之電阻
BC 端接電流，DA 端 RBC,DA 4.997x10-1 Ω
接電壓測得之電阻
厚度 t 2.96x10-7 m
π𝑅𝐴𝐵,𝐶𝐷 𝑡 π𝑅𝐵𝐶,𝐷𝐴 𝑡
− −
𝜌300Å 𝜌300Å
e +e =1
由數值分析法，𝜌300Å ≈ 9.83 × 10−8 (Ω ∙ 𝑚)

B. 霍爾係數的測量
1. 昆蟲形

物理量 代號 值 單位
+
BD 端接電流，AC 端 R 5.9729 Ω
接電壓，給予向上磁
場測得之電阻
BD 端接電流，AC 端 R- 5.9726 Ω
接電壓，給予向下磁
場測得之電阻
厚度 t 7.00x10-7 m
片電阻 Rs=ρ/t 2.3 Ω
外加磁場 B 0.26 T
𝑅 + −𝑅 −
橫向電阻率ΔR = = −0.00015Ω
2
ΔR
霍爾係數𝑅𝐻 = 𝐵×𝑅 = −4.0 × 10−11 (𝑚3 ∙ 𝐶 −1 )
𝑠

7
 物理量 代號 值 單位
+
BD 端接電流，AC 端 R 0.0556 Ω
接電壓，給予向上磁
場測得之電阻
BD 端接電流，AC 端 R- 0.0574 Ω
接電壓，給予向下磁
場測得之電阻
厚度 t 2.93x10-7 m
片電阻 Rs=ρ/t 3.4 Ω
外加磁場 B 0.37 T
𝑅 + −𝑅 −
橫向電阻率ΔR = = −0.000915Ω
2
ΔR
霍爾係數𝑅𝐻 = 𝐵×𝑅 = −7.2 × 10−11 (𝑚3 ∙ 𝐶 −1 )
𝑠

2. 圓形
3. 物理量 代號 值 單位
+
BD 端接電流，AC 端 R 3.4060 Ω
接電壓，給予向上磁
場測得之電阻
BD 端接電流，AC 端 R- 3.4076 Ω
接電壓，給予向下磁
場測得之電阻
厚度 t 7.00x10-7 m
片電阻 Rs=ρ/t 3.4 Ω
外加磁場 B 0.37 T
𝑅 + −𝑅 −
橫向電阻率ΔR = = −0.0008Ω
2
ΔR
霍爾係數𝑅𝐻 = 𝐵×𝑅 = −6.3 × 10−11 (𝑚3 ∙ 𝐶 −1 )
𝑠

8
 四、回答問題
1. 除了蒸鍍外，有那些方法可以製作薄膜？
(1) 本實驗是電阻加熱蒸鍍源，而還有一種蒸鍍方式是利用高能電子束，加
熱靶材。能夠更加精準的控制蒸鍍速率，熱轉換效率也比較高，而且對於靶材的限制也較
少。
(2) 濺鍍：利用高能離子(ion)撞擊靶材，原子撞出，飛出的原子附著到基板
上，即形成薄膜。具有能在較低溫的情況下，完成鍍膜的優點，不過指向性就比較差。

2. 除機械和擴散幫浦外，尚有那些設備可以組成真空系統？
組成真空系統通常會分成粗抽和細抽兩階段，大致以 102 ~ 103 Torr 為分界
實驗粗抽通常使用乾式幫浦，避免油氣漏回腔體。
而細抽，本實驗使用的是擴散幫浦，常見還有以下:

(1)冷凍幫浦(cryo pump)5

原理是降溫使得腔體內氣體凝結附著，藉此捕捉氣體分子，達到真空。運用範圍:
103 ~ 109 Torr 。
(2)渦輪幫浦(turbo pump)6
基本原理是利用高速旋轉的葉片將氣體撞出(像風扇一樣)，轉速通常幾萬 rpm。
(3)離子幫浦(ion pump)7
基本原理是將氣體分子游離，並給予高電壓使其加速，最後用固體板子接收。

3. 比較使用兩種電阻率量測方法之結果，並討論錫電阻率之誤差來源。
昆蟲形狀在套用既有的電阻公式時需要要求電流均勻流動，但在此量測時是由點流至點而非
面對面的的流動，且流動範圍跟散布範圍並未相差很大，因此不能忽略電流散布與模型不一
致導致的誤差。
van der Pauw 四點量測則會因實際銀膠接觸點並未嚴格處在邊界上，且有有限面積存在，以及
厚度可能不完全均勻等因素造成與公式的偏差。

4. 估計錫的載子濃度 n ，以及載子平均碰撞時間  。
1 m mRH
n ,  2  , e  1.602 1019 C , m  9.109 1031 kg ,RH=6.3 × 10−11
RH e ne  e

300Å: n  1.7 1027 m3 ,   4.5 1024 s

5
https://en.wikipedia.org/wiki/Cryopump
6
https://en.wikipedia.org/wiki/Turbomolecular_pump
7
https://en.wikipedia.org/wiki/Ion_pump_(physics)
9
 700Å: n  9.9 1028 m3 ,   3.9 1025 s

5. 不同厚度之薄膜樣品之電性是否相同？請解釋之。
比較 700Å、300Å 的結果，可以發現在電阻率、電荷密度、遷移率和平均碰撞時間上，皆有
明顯不同，而這些主要導因於電阻率與厚度的關係。
錫薄膜的電阻率會隨厚度的下降而上升，這點定性而言與本次實驗結果相符。大致原因為薄
膜沉積過程中會在基板上先形成一塊一塊的原子團，再隨著其逐漸增大而填補各原子團之間
的間隙，這將導致在薄膜厚度不大厚時各處厚度的不均勻以及金屬原子堆疊形式的不一致，
從而造成非金屬形式的電子移動模式，亦即有較高電阻值，而可預期的是這種現象會隨薄膜
厚度的逐漸增加而消失(因為較均勻堆疊)。

10
五、小組討論與縱觀結論

我們實驗並未做嚴格的控制變因，實驗可信度應該不高，具體而言有下列因素影響：

1. 同次蒸鍍中兩塊樣品薄膜厚度之不一致造成電阻率偏差:
在本組實驗器材中圓形 mask 位於鎢舟的正上方，但昆蟲 mask 卻偏離了約 15cm 距離而
非位於相同距離上，因此圓形薄膜的實際厚度應較昆蟲形狀大，且因薄膜厚度計量測的
是其自身被鍍薄膜速率及厚度，代表在上述分析中，圓形薄膜之厚度會被低估而昆蟲形
狀會被高估

2. 電流熱效應影響霍爾效應量測電阻值:
在加磁場量測昆蟲形狀金屬薄膜橫向電阻值時，我們觀察到隨電流通過時間越長有更大
的量測電阻值，拔除電流源靜置後再測量，又會變回原先測量值，推測應為電流熱效應
造成金屬升溫，進而使電阻率上升。因此，較好的測量方法應為每次測量間隔適當的時
間，數據會比較準確。

3. 腔內油氣混入薄膜內:
從我們重複鍍之薄膜中，有些用肉眼即能發現鍍膜有不均勻和霧狀構造，且當我們測量
電壓時甚至會無法讀值，我們猜測是因為腔內有油氣流入，造成鍍膜不均所引起的

11