Absorción atómica

Absorción atómica con llama

 Proceso de atomización: etapas
.

estado
vapor
molecular*
vapor
atómico*
vapor
iónico*
excitado

LLAMA
estado
4p
vapor vapor vapor –
+e
molecular atómico iónico fundamental
3d
4s vaporización

330.3 desolvatación
819.5

transporte
3p del aerosol

330.2
589.6
nebulización

589.0
transporte

3s
Na
muestra
 Líneas de resonancia
.
328.07 338.28 213.86 307.59
217.00 261.41 283.30

.
Ag Pb Zn
 Cámara de nebulización

oxidantecombustible
nebulizador

muestra

.
oxidante

muestra
a b
desagüe
Zonas de la llama
 Temperaturas de llama
OXIDANTE COMBUSTIBLE TEMPERATURA
ºC
aire gas natural 1700-1900
aire acetileno 2100-2400
aire hidrógeno 2000-2100
óxido nitroso acetileno 2600-2800
oxígeno acetileno 3050-3150
oxígeno Hidrógeno 2550-2700
oxígeno cianógeno 4400-4600
Fracción de átomos excitados
N*/N0=Ae-∆E/kT

Elemento 2000 ºK 3000 ºK 4000ºK

Cs 4x10–4 7x10–3 3x10–2

Na 1x10–5 6x10–4 4x10–3
Ca 1x10–7 4x10–5 6x10–4
Zn 7x10–15 6x10–10 2x10–7
 Porcentaje de ionización

Elemento 2200 ºK 2800 ºK

Li < 0.01 16.1

Na 0.3 26.4
K 2.5 82.1
Cs 28.3 96.4
Ca < 0.01 7.3
Sr < 0.1 17.2
 Absorción
P0 P A=logP0/P

λR
λR llama λR

λR
λR llama λR
 Lámpara de cátodo hueco

Ar+
. M* —> Mo + hν
Ar+ + Mo —> M*
Mo

. .
 Filtros y monocromadores

De corte
Absorción
De banda
Filtros
Interferencia
t
r
o
Prismas
s
Monocromadores De transmisión
Redes
De reflexión
Combinacion de filtros
Filtro naranja

Filtro verde

%T

anchura
de banda

λ,nm
Dispersión de la luz blanca por un prisma

Elevada pureza espectral

Dispersión no lineal
Prisma
 Red de reflexión
Resolución elevada Ordenes
Dispersión lineal
Pocas pérdidas por absorción
Fotomultiplicador
Tubo fotomultiplicador
Espectrofotómetro de absorción atómica
 Interferencias
FISICAS Sales, ácidos, sustancias orgánicas
cambios en el transporte, temperatura, etc.
(mismas propiedades físicas en muestra y patrones)
QUIMICAS
*Formación de óxidos, hidróxidos, etc térmicamente estables
*Aniones que puedan formar sales refractarias con el analito

Ca(NO3)2.H2O Ca(NO3)2+H2O
(refractario)
CaO + NO + H2O +SiO32- CaO(SiO2)x

Ca + otros productos
Ca+otros productos
La, Sr, Mg Æ SrO(SiO2)x
*Interferencias de ionización
 Interferencias espectrales
* Superposición de líneas de resonancia
Al: 308.215 nm V: 308.211 nm
* Bandas de absorción anchas

linea de resonancia del Ba

5500 5520 5540 5560 5580

λ, Å
 Corrección del fondo con lámpara de deuterio

Lámpara de deuterio

AA AA
F F F F
Lámpara LCH LD LCH LD
de cátodo hueco
 Corrección del fondo: efecto Zeeman

I I
π

σ– σ+

λ λ
A B
ausencia de campo magnético presencia de campo magnético
 Corrección del fondo: sistema Smith-Hieftje

Intensidad alta

Intensidad baja

λ
 Cámara de grafito
ventana H2 O
gas

contacto eléctrico contacto eléc

haz de
radiación

muestra tubo de grafito

H2 O
Espectrofotometro de absorción atómica con cámara de grafito
 Cámara de grafito: programa de temperaturas
.
2500
ºC
2000 atomización

1500 .

1000
mineralización

500

secado
0
tiempo
 Límites de detección (µg/L)
Elemento horno llama llama/horno

Ag 0.02 1.5 75
Al 0.1 45 450
Ba 0.4 15 38
Cd 0.008 0.8 100
Cu 0.1 1.5 15
Fe 0.1 5 50
Mn 0.04 1.5 38
Pb 0.06 15 250
Zn 0.1 1.5 15
Técnica del vapor frío
Generación de hidruros 1
Generación de hidruros 2
Generación de hidruros 3
Generación de hidruros 4
 Límites de detección
llama

generación de hidruros

.
horno de grafito

ICP–MS

100 10 1 0.1 0.01 0.001

Límite de detección ( µg/L)